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1. 发明授权

US07728987B2 Method of manufacturing an optical element 有权
标题翻译：制造光学元件的方法
公开(公告)号：US07728987B2
公开(公告)日：2010-06-01
申请号：US11596187
申请日：2004-05-14
申请人： Ralf Arnold , Bernd Dörband , Frank Schillke , Susanne Beder
发明人： Ralf Arnold , Bernd Dörband , Frank Schillke , Susanne Beder
IPC分类号： G01B11/02
CPC分类号： G01B11/2441
摘要： A method of manufacturing an optical element includes testing the optical element by using an interferometer optics generating a beam of measuring light illuminating only a sub-aperture of the tested optical element. The interferometer optics comprises a hologram. Results of the sub-aperture measurement are stitched together to obtain a measuring result with respect to the full surface of the optical element. Further, a method of calibrating the interferometer optics includes performing an interferometric measurement using a calibrating optics having a hologram covering only a sub-aperture of the full cross section of the beam of measuring light generated by the interferometer optics and stitching together the sub-aperture measurements to obtain a result indicative for the full cross section of the interferometer optics.
摘要翻译：制造光学元件的方法包括通过使用产生仅照射被测光学元件的子孔径的测量光束的干涉仪光学元件来测试光学元件。干涉仪光学器件包括全息图。子孔径测量的结果被缝合在一起以获得关于光学元件的整个表面的测量结果。此外，校准干涉仪光学器件的方法包括使用校准光学器件执行干涉测量，所述校准光学器件具有仅覆盖由干涉仪光学器件产生的测量光束的全部横截面的子孔径并将子孔缝合在一起的全息图测量以获得指示干涉仪光学器件的完整横截面的结果。

2. 发明授权

US07002694B2 Interferometer system and method for recording an interferogram using weighted averaging over multiple frequencies, and method for providing and manufacturing an object having a target surface 失效
标题翻译：使用多个频率上的加权平均来记录干涉图的干涉仪系统和方法以及用于提供和制造具有目标表面的物体的方法
公开(公告)号：US07002694B2
公开(公告)日：2006-02-21
申请号：US10743792
申请日：2003-12-24
申请人： Stefan Schulte , Bernd Dörband , Henriette Müller , Wolfgang Kähler
发明人： Stefan Schulte , Bernd Dörband , Henriette Müller , Wolfgang Kähler
IPC分类号： G01B9/02
CPC分类号： G01B9/02057 , G01B9/02004 , G01B9/02039 , G01B9/02059 , G01B9/02069 , G01B9/02072 , G01B11/2441 , G01B11/306
摘要： An interferometer system comprises a reference surface, a support for an object providing an object surface, a radiation source for emitting radiation of an adjustable frequency onto the reference surface and the object surface, a position-sensitive radiation detector, a controller for adjusting a plurality of different frequencies of the radiation emitted by the radiation source, and an integrator for averaging the interference patterns superposed on the radiation detector at different frequencies. Moreover, there is provided a method for recording an interferogram, a method for providing an object with a target surface as well as a method for manufacturing an object with a target surface.
摘要翻译：干涉仪系统包括参考表面，用于提供物体表面的物体的支撑件，用于将可调节频率的辐射发射到参考表面和物体表面上的辐射源，位置敏感放射线检测器，用于调整多个由辐射源发射的辐射的不同频率，以及用于平均叠加在不同频率上的辐射检测器上的干涉图案的积分器。此外，提供了一种用于记录干涉图的方法，用于向对象提供目标表面的方法以及用于制造具有目标表面的物体的方法。

3. 发明授权

US07342667B1 Method of processing an optical element using an interferometer having an aspherical lens that transforms a first spherical beam type into a second spherical beam type 有权
标题翻译：使用具有将第一球形光束类型变换为第二球形光束的非球面透镜的干涉仪来处理光学元件的方法
公开(公告)号：US07342667B1
公开(公告)日：2008-03-11
申请号：US10721232
申请日：2003-11-26
申请人： Rolf Freimann , Bernd Dörband
发明人： Rolf Freimann , Bernd Dörband
IPC分类号： G01B11/02
CPC分类号： G01B9/02039 , B29D11/00019 , G01B9/02057 , G01M11/0242 , G01M11/025 , G01M11/0271 , G02B13/18 , G02B13/24 , G02B17/0856
摘要： A method of processing an optical element having a spherical surface comprises providing a first interferometer apparatus having an interferometer optics with an aspherical lens for transforming a beam of a first spherical beam type into a beam of a second spherical beam type, arranging the optical element in a beam path of an incident beam provided by the interferometer optics, interferometrically taking a first measurement of the optical element, and determining first deviations of the spherical surface. The method further comprises arranging the aspherical lens in a beam path of a measuring beam provided by a beam source of a second interferometer apparatus, wherein the measuring beam is one of the first spherical type and the second spherical type, interferometrically taking a second measurement using the measuring beam, and determining second deviations of an aspherical surface of the aspherical lens.
摘要翻译：一种处理具有球形表面的光学元件的方法包括提供具有干涉仪光学元件的第一干涉仪装置，其具有非球面透镜，用于将第一球形光束类型的光束变换为第二球形光束类型的光束，将光学元件放置在由干涉仪光学器件提供的入射光束的光束路径，干涉地进行光学元件的第一测量，以及确定球面的第一偏差。该方法还包括将非球面透镜布置在由第二干涉仪装置的光束源提供的测量光束的光束路径中，其中测量光束是第一球形和第二球面类型中的一种，使用测量光束，并确定非球面透镜的非球面的第二偏差。

4. 发明授权

US07050175B1 Method for calibrating an interferometer apparatus, for qualifying an optical surface, and for manufacturing a substrate having an optical surface 有权
标题翻译：用于校准干涉仪装置的方法，用于限定光学表面，以及用于制造具有光学表面的基底
公开(公告)号：US07050175B1
公开(公告)日：2006-05-23
申请号：US10637217
申请日：2003-08-08
申请人： Rolf Freimann , Bernd Dörband
发明人： Rolf Freimann , Bernd Dörband
IPC分类号： G01B9/02
CPC分类号： G01B9/02039 , G01B9/02057 , G01B9/02072 , G01B11/2441 , G01M11/005 , G01M11/025 , G01M11/0271 , G03F7/70591
摘要： A method for qualifying and/or manufacturing an optical surface includes: arranging a first substrate having a first surface and a second surface opposite the first surface in a beam path of a first incident beam with the first surface facing towards the first incident beam, and taking an interferometric measurement of the second surface; arranging the first substrate in the beam path of the first incident beam with the second surface facing towards the first incident beam, and taking an interferometric measurement of the second surface; arranging a third surface of a second substrate in a beam path of a second incident beam, and taking an interferometric measurement of the third surface; arranging the third surface of the second substrate and the first substrate in the beam path of the second incident beam, and taking an interferometric measurement of the third surface.
摘要翻译：一种用于限定和/或制造光学表面的方法包括：在第一入射光束的光束路径中布置具有第一表面的第一表面和与第一表面相对的第二表面的第一基底，其中第一表面面向第一入射光束，以及进行第二表面的干涉测量; 将第一基板布置在第一入射光束的光束路径中，其中第二表面面向第一入射光束，并且对第二表面进行干涉测量; 将第二基板的第三表面布置在第二入射光束的光束路径中，并对第三表面进行干涉测量; 将第二基板的第三表面和第一基板布置在第二入射光束的光束路径中，并进行第三表面的干涉测量。

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