专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2006042569A1 PRÜFANLAGE ZUR ZERSTÖRUNGSFREIEN MATERIALPRÜFUNG 审中-公开
标题翻译：试验装置破坏性材料测试
公开(公告)号：WO2006042569A1
公开(公告)日：2006-04-27
申请号：PCT/EP2004/012187
申请日：2004-10-15
申请人： GE INSPECTION TECHNOLOGIES GMBH , HESSERT, Roland , SATZGER, Wilhelm , SCHAFMEISTER, Achim , HAASE, Alfried , THALER, Bernhard , BOSSE, Jürgen
发明人： HESSERT, Roland , SATZGER, Wilhelm , SCHAFMEISTER, Achim , HAASE, Alfried , THALER, Bernhard , BOSSE, Jürgen
IPC分类号： G01N23/00
CPC分类号： B25J9/1682 , G01N23/20025
摘要： Die Anmeldung betrifft eine Prüfanlage zur zerstörungsfreien Materialprüfung, mit einem Robotersystem, das mindestens zwei verstellbare Tragarme (23, 33) aufweist, wobei jedem Tragarm jeweils eine definierte Position (A, B) zugeordnet ist, und mit einer dritten definierten Position(C),weiterhin umfassend eine Prüfquelle (12) zur Erzeugung einer auf eine Prüfposition (18) gerichteten Prüfwelle (15), einen Detektor (14) zum Nachweis einer von einem in der Prüfposition (18) angeordneten Prüfobjekt (19) erzeugten Antwortwelle (21), wobei die Prüfquelle (12), die Prüfposition (18) und der Detektor (14) jeweils in einer der drei definierten Positionen (A, B, C) angeordnet sind, und eine Steuereinrichtung (22) zum koordinierten Verstellen der Tragarme (23, 33), um die Prüfquelle (12) und den Detektor (14) jeweils in einer bestimmten Prüfgeometrie zu dem Prüfobjekt (19) zu orientieren, und zeichnet sich dadurch aus, daß die Prüfanlange ein zusätzliches auf elektromagnetischen Wellen beruhendes Meßsystem (40, 41, 50, 51) zur Bestimmung mindestens einer von der Position der Tragarme abhängigen Größe aufweist, und die Steuereinrichtung (22) zur Positionsverstellung der Tragarme (23, 33) in Abhängigkeit des von dem Meßsystem (40, 41, 50, 51) ausgegebenen Meßsignals eingerichtet ist.
摘要翻译：本申请涉及用于非破坏性材料测试的检查系统，使用机械手系统，其包括至少两个可调节承载臂（23，33），其中每个支撑臂被分配一个限定的位置（A，B），以及与第三指定位置（C），还包括：一个校验源（12），用于产生一个检查位置（18）指向测试轴（15），检测器（14），用于在被测试验位置（18）检测从一个一个地设置产生（19）响应波（21），其特征在于测试源（12），所述检查位置（18）和检测器（14），每个在三个定义的位置（A，B，C）中的一个被布置，以及控制装置（22），用于支撑臂的协调调整（23,33）以定向测试源（12）和检测器（14）分别在特定的测试的几何形状的测试对象（19），并且一个附加Prüfanlange特征在于，在电磁W¯¯ 埃伦BASED测量用于确定至少一个依赖于所述支撑臂的尺寸的位置上的支撑臂的位置调整（23，33）的系统（40，41，50，51），并且所述控制装置（22）中的依赖性（由测量系统40中，41 ，50，51）输出的测量信号被提供。

2. 发明申请

WO2005033005A1 PROCESS FOR THE PURIFICATION OF AQUEOUS PEROXYGEN SOLUTIONS, SOLUTIONS OBTAINABLE THEREBY AND THEIR USE 审中-公开
标题翻译：净化过氧化氢溶液的方法，可获得的溶液及其使用方法
公开(公告)号：WO2005033005A1
公开(公告)日：2005-04-14
申请号：PCT/EP2004/052400
申请日：2004-10-01
申请人： SOLVAY (Société Anonyme) , OWEN, Robert , BOSSE, Jürgen , SELL, Michael
发明人： OWEN, Robert , BOSSE, Jürgen , SELL, Michael
IPC分类号： C01B15/013
CPC分类号： B01D61/025 , C01B15/013 , C01B15/0135 , C11D3/3947
摘要： Process for the purification of aqueous peroxygen solutions comprising the treatment of an aqueous peroxygen solution with (a) at least one membrane purification step (3) , (b) optionally at least one ion exchange purification step (18), (c) optionally at least one dilution step, and (d) at least one other purification step, all of which can be conducted in any sequence. Aqueous peroxygen solutions having a TOC level of less than 1 mg/kg can be obtained by this process. They can be used in the manufacture of semiconductors.
摘要翻译：纯化含水过氧溶液的方法，包括用（a）至少一个膜纯化步骤（3），（b）任选至少一种离子交换纯化步骤（18），（c）任选地至少一个稀释步骤，和（d）至少一个其它纯化步骤，所有这些步骤均可以任何顺序进行。通过该方法可以获得TOC水平小于1mg / kg的过氧水溶液。它们可用于制造半导体。

3. 发明申请

WO2008125638A1 USE OF OXIDANTS FOR THE PROCESSING OF SEMICONDUCTOR WAFERS, USE OF A COMPOSITION AND COMPOSITION THEREFORE 审中-公开
标题翻译：氧化剂用于半导体波长加工的应用，组合物的使用及其组成
公开(公告)号：WO2008125638A1
公开(公告)日：2008-10-23
申请号：PCT/EP2008/054443
申请日：2008-04-11
申请人： SOLVAY (SOCIETE ANONYME) , BOSSE, Jürgen , ALESSIO, Rocco , DOBSON, Steve , BELT, Heinz-Joachim
发明人： BOSSE, Jürgen , ALESSIO, Rocco , DOBSON, Steve , BELT, Heinz-Joachim
IPC分类号： H01L21/321 , H01L21/02 , H01L21/311
CPC分类号： C11D3/3945 , C09G1/02 , C11D11/0047 , H01L21/02063 , H01L21/31133 , H01L21/3212
摘要： The present invention relates to the use of at least one oxidant, selected from peracids, in compositions for the processing of semiconductor wafers, in particular for t he cleaning and chemical mechanical polishing of semiconductor wafers. The present invention also relates to the use of a composition and composition therefore. The use of the oxidants of the invention leads to a good efficacy while limiting/avoiding the c orrosion of the substrate.
摘要翻译：本发明涉及至少一种选自过酸的氧化剂在组合物中用于半导体晶片加工的用途，特别是用于半导体晶片的清洗和化学机械抛光。因此，本发明还涉及组合物和组合物的用途。本发明的氧化剂的使用导致良好的功效，同时限制/避免了底物的腐蚀。

4. 发明申请

WO2006042504A1 VERFAHREN UND SYSTEM ZUR WINKELSYNCHRONISATION 审中-公开
标题翻译：方法和系统同步角
公开(公告)号：WO2006042504A1
公开(公告)日：2006-04-27
申请号：PCT/DE2005/001793
申请日：2005-10-07
申请人： MTU AERO ENGINES GMBH , HESSERT, Roland , SATZGER, Wilhelm , BOSSE, Jürgen , THALER, Bernhard
发明人： HESSERT, Roland , SATZGER, Wilhelm , BOSSE, Jürgen , THALER, Bernhard
IPC分类号： B25J9/16 , G01B11/26
CPC分类号： G01B11/272 , A61B6/4458 , B25J9/1682
摘要： Es werden ein Verfahren und ein System zur Winkelsynchronisation mindestens zweier bewegbarer Arbeitsmittel (2, 2') in einem vorgegebenen Wirkpunkt (4) beschrieben, bei denen es sich insbesondere um robotergeführte Werkzeuge oder robotergeführte Strahlungssender bzw. -empfänger handelt. Für eine genaue Winkelsynchronisation ist vorgesehen, dass die Wirkrichtungen (1, 1') der Arbeitsmittel (2, 2') insbesondere kontinuierlich dargestellt, erfasst und in einem vorgegebenen Wirkpunkt (4) zusammengeführt werden, wobei der Winkel (α) zwischen den Wirkrichtungen (1, 1') der Arbeitsmittel (2, 2') durch eine insbesondere optische Winkelmessung bestimmt und auf einen vorgegebenen Wert eingestellt wird.
摘要翻译：会有在动作的预定点的方法进行说明，并用于至少两个可移动工作装置（2，2“）的相位同步的系统（4），其为，特别是，机器人引导工具或机器人控制的辐射发射器和接收器。为了获得精确的相位同步“的工作装置（2，2被设置，该动作（1的指示，1）”），特别是示出连续地检测和在作用的预定点被带到一起（4），其中所述角度（α）作用方向（间 1，1“），工作装置（2，2”由特定的光学角度测量确定并设定为规定的值）。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式