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    • 5. 发明申请
    • ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
    • 微波投影曝光装置的照明系统
    • WO2010034472A1
    • 2010-04-01
    • PCT/EP2009/006856
    • 2009-09-23
    • CARL ZEISS SMT AGBACH, FlorianBENZ, DanielWALDIS, SeverinWERBER, ArminWARM, Berndt
    • BACH, FlorianBENZ, DanielWALDIS, SeverinWERBER, ArminWARM, Berndt
    • G03F7/20
    • G03F7/70058G03F7/70116G03F7/70141G03F7/70266G03F7/70291G03F7/70891
    • An illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus (10) comprises a primary light source (30), a system pupil surface (70) and a mirror array (46). The mirror array (46) is arranged between the primary light source (30) and the system pupil surface (70) and comprises a plurality of adaptive mirror elements (M ij ). Each mirror element (M ij ) comprises a mirror support (100) and a reflective coating (102) and is configured to direct light (34) produced by the primary light source (30) towards the system pupil surface (70). Preferably the mirror elements (M ij ) are tiltably mounted with respect to a support structure (110). According to the invention the mirror elements (M ij ) comprise structures (100, 102) having a different coefficient of thermal expansion and being fixedly attached to one another. A temperature control device (90) is configured to variably modify the temperature distribution within the structures so as to change the shape of the mirror elements.
    • 微光刻投影曝光装置(10)的照明系统包括主光源(30),系统光瞳表面(70)和反射镜阵列(46)。 镜阵列(46)布置在主光源(30)和系统光瞳表面(70)之间,并且包括多个自适应镜元件(Mij)。 每个镜元件(Mij)包括镜支撑件(100)和反射涂层(102),并且被配置为将由主光源(30)产生的光(34)引向系统光瞳表面(70)。 优选地,镜元件(Mij)相对于支撑结构(110)可倾斜地安装。 根据本发明,镜元件(Mij)包括具有不同热膨胀系数并且彼此固定地附接的结构(100,102)。 温度控制装置(90)被配置为可变地修改结构内的温度分布,以便改变反射镜元件的形状。
    • 6. 发明申请
    • PUMPELEMENT UND PUMPE MIT EINEM SOLCHEN PUMPELEMENT
    • PUMP元和泵这样的泵元
    • WO2008003359A1
    • 2008-01-10
    • PCT/EP2007/002689
    • 2007-03-27
    • HAHN-SCHICKARD-GESELLSCHAFT FÜR ANGEWANDTE FORSCHUNG E.V.KÜCK, HeinzBENZ, DanielWOLTER, Frank
    • KÜCK, HeinzBENZ, DanielWOLTER, Frank
    • F04B7/04F04B7/00F04B17/04F04B53/12
    • F04B7/0076F04B7/04F04B17/042F04B17/044F04B53/12
    • Ein Pumpelement (10) umfasst ein Pumpelementgehäuse (14), das eine Pumpkammer (18) definiert, die einen Zulauf (20) und einen Ablauf (22) besitzt, und zumindest ein erstes bewegliches Element (24), das in der Pumpkammer zwischen einer ersten und einer zweiten Position bewegbar ist. Bei einer Bewegung des ersten beweglichen Elements in Richtung von der ersten in die zweite Position ist ein Flusswiderstand eines Strömungswegs von dem ersten beweglichen Element durch den Zulauf größer als ein Flusswiderstand eines Strömungswegs zwischen dem Pumpelementgehäuse und dem ersten beweglichen Element. Bei einer Bewegung des ersten beweglichen Elements in Richtung von der zweiten Position in die erste Position ist ein Flusswiderstand eines Strömungswegs von dem ersten beweglichen Element durch den Ablauf kleiner als ein Flusswiderstand des Strömungswegs zwischen dem Pumpelementgehäuse und dem ersten beweglichen Element. Somit findet bei einer Hin- und Her-Bewegung des ersten beweglichen Elements zwischen der ersten und der zweiten Position ein Nettofluss durch den Ablauf statt.
    • 泵送元件(10)包括泵元件壳体(14)限定了具有入口(20)和出口(22)的泵送室(18),和至少第一可动元件(24),所述一个之间的泵室 第一和第二位置。 在第一可移动元件在从第一到第二位置的方向上的移动,从通过入口的第一可移动元件的流动路径的流动阻力小于所述泵元件外壳和所述第一可动部件之间的流动路径的流动阻力大。 在第一可移动元件在从所述第二位置到第一位置的方向上的移动,通过所述出口的第一可移动元件的流动路径的流动阻力小于所述泵元件外壳和所述第一可动部件之间的流动路径的流动阻力小。 因此,在第一和第二位置之间的第一可动元件的往返运动,通过出口的净流动发生。