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1. 发明授权

US08546283B2 Substrate for EUVL optical member 有权
标题翻译： EUVL光学元件基板
公开(公告)号：US08546283B2
公开(公告)日：2013-10-01
申请号：US13531928
申请日：2012-06-25
申请人： Junko Miyasaka , Akio Koike , Tomonori Ogawa
发明人： Junko Miyasaka , Akio Koike , Tomonori Ogawa
IPC分类号： C03C3/06 , C03C3/076 , C03C3/112
CPC分类号： C03C3/06 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C03B19/1415 , C03B19/1453 , C03B19/1461 , C03B2201/075 , C03B2201/12 , C03B2201/42 , C03C2201/12 , C03C2201/23 , C03C2201/42 , C03C2203/44 , C03C2203/54 , G02B5/0891 , G03F1/24
摘要： The present invention relates to a substrate for EUV lithography optical member, comprising a silica glass containing TiO2, in which the substrate has two opposite surfaces, and the substrate has temperatures at which a coefficient of linear thermal expansion (CTE) is 0 ppb/° C. (Cross-Over Temperature: COT), and in which the two opposite surfaces have difference in the COTs of 5° C. or more.
摘要翻译：本发明涉及一种用于EUV光刻光学部件的基板，其包括含有二氧化钛的二氧化硅玻璃，其中该基板具有两个相对的表面，该基板具有线性热膨胀系数（CTE）为0ppb /°的温度 C.（交叉温度：COT），其中两个相对表面的COT值在5℃以上有差异。

2. 发明申请

US20120264584A1 SUBSTRATE FOR EUVL OPTICAL MEMBER 有权
标题翻译： EUVL光学元件基板
公开(公告)号：US20120264584A1
公开(公告)日：2012-10-18
申请号：US13531928
申请日：2012-06-25
申请人： Junko Miyasaka , Akio Koike , Tomonori Ogawa
发明人： Junko Miyasaka , Akio Koike , Tomonori Ogawa
IPC分类号： C03C3/04
CPC分类号： C03C3/06 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C03B19/1415 , C03B19/1453 , C03B19/1461 , C03B2201/075 , C03B2201/12 , C03B2201/42 , C03C2201/12 , C03C2201/23 , C03C2201/42 , C03C2203/44 , C03C2203/54 , G02B5/0891 , G03F1/24
摘要： The present invention relates to a substrate for EUV lithography optical member, comprising a silica glass containing TiO2, in which the substrate has two opposite surfaces, and the substrate has temperatures at which a coefficient of linear thermal expansion (CTE) is 0 ppb/° C. (Cross-Over Temperature: COT), and in which the two opposite surfaces have difference in the COTs of 5° C. or more.
摘要翻译：本发明涉及一种用于EUV光刻光学部件的基板，其包括含有二氧化钛的二氧化硅玻璃，其中该基板具有两个相对的表面，该基板具有线性热膨胀系数（CTE）为0ppb /°的温度 C.（交叉温度：COT），其中两个相对表面的COT值在5℃以上有差异。

3. 发明申请

US20110314868A1 METHOD FOR PRODUCING GLASS BODY AND METHOD FOR PRODUCING OPTICAL MEMBER FOR EUV LITHOGRAPHY 失效
标题翻译：用于生产玻璃体的方法和用于制造用于EUV光刻的光学构件的方法
公开(公告)号：US20110314868A1
公开(公告)日：2011-12-29
申请号：US13169459
申请日：2011-06-27
申请人： Junko MIYASAKA , Akio KOIKE , Tomonori OGAWA , Masahiro KAWAGISHI
发明人： Junko MIYASAKA , Akio KOIKE , Tomonori OGAWA , Masahiro KAWAGISHI
IPC分类号： C03B20/00 , C03B19/01
CPC分类号： C03B19/1423 , C03B2201/42 , C03B2207/06 , C03B2207/20 , Y02P40/57
摘要： The present invention relates to a method for producing a glass body containing: hydrolyzing a silicon compound and a compound containing a metal serving as a dopant, in a flame projected from a burner to form glass fine particles; and depositing and growing the formed glass fine particles on a base material, in which a raw material mixed gas containing a gas of the silicon compound, a gas of the compound containing a metal serving as a dopant, and either one of a combustible gas and a combustion supporting gas is fed into a central nozzle (A) positioning in the center of the burner; the other gas of the combustible gas and the combustion supporting gas is fed into a nozzle (B) different from the central nozzle (A) of the burner; a combustible gas or a combustion supporting gas is arbitrarily fed into a nozzle different from the nozzles (A) and (B); and a flow rate of the raw material mixed gas is 50% or more and not more than 90% of the largest flow rate among flow rate(s) of the combustible gas(ses) and the combustion supporting gas(ses) fed from other nozzle or nozzles than the central nozzle (A).
摘要翻译：本发明涉及一种玻璃体的制造方法，其特征在于，在从燃烧器投射的火焰中，含有硅化合物和含有作为掺杂剂的金属的化合物，形成玻璃微粒; 并且将形成的玻璃微粒沉积并生长在基材上，其中含有硅化合物的气体的原料混合气体，含有作为掺杂剂的金属的化合物的气体和可燃性气体和燃烧支持气体被供给到位于燃烧器中心的中心喷嘴（A）中; 可燃气体和燃烧辅助气体的其他气体被供给到与燃烧器的中心喷嘴（A）不同的喷嘴（B）中; 将可燃气体或燃烧性支持气体任意地供给到与喷嘴（A）和（B）不同的喷嘴中; 并且原料混合气体的流量在可燃气体（s）和从其他方式供给的燃烧负载气体（s））的流量之间的最大流量的50％以上且不大于90％喷嘴或喷嘴比中心喷嘴（A）。

4. 发明授权

US07989378B2 TiO2-containing silica glass 有权
标题翻译：含TiO2的二氧化硅玻璃
公开(公告)号：US07989378B2
公开(公告)日：2011-08-02
申请号：US12824923
申请日：2010-06-28
申请人： Akio Koike , Yasutomi Iwahashi , Shinya Kikugawa
发明人： Akio Koike , Yasutomi Iwahashi , Shinya Kikugawa
IPC分类号： C03C3/06 , C03C3/11 , C03C3/112
CPC分类号： C03B19/1453 , C03B19/1461 , C03B32/00 , C03B2201/12 , C03B2201/23 , C03B2201/42 , C03C3/06 , C03C2201/12 , C03C2201/23 , C03C2201/40 , C03C2201/42 , C03C2203/40 , C03C2203/46 , C03C2203/54 , Y02P40/57
摘要： The present invention is to provide a TiO2—SiO2 glass having suitable thermal expansion properties as an optical member of an exposure tool for EUVL. The present invention relates to a TiO2-containing silica glass having a temperature, at which a coefficient of thermal expansion is 0 ppb/° C., falling within the range of 23±4° C. and a temperature width, in which a coefficient of thermal expansion is 0±5 ppb/° C., of 5° C. or more.
摘要翻译：本发明提供具有合适的热膨胀性能的TiO 2 -SiO 2玻璃作为EUVL用曝光工具的光学部件。本发明涉及热膨胀系数为0ppb /℃的温度为23±4℃的温度范围的含TiO2的二氧化硅玻璃，其温度范围为的热膨胀为0±5ppb /℃，为5℃以上。

5. 发明授权

US07462574B2 Silica glass containing TiO2 and optical material for EUV lithography 有权
标题翻译：含二氧化硅的玻璃和用于EUV光刻的光学材料
公开(公告)号：US07462574B2
公开(公告)日：2008-12-09
申请号：US11174533
申请日：2005-07-06
申请人： Yasutomi Iwahashi , Akio Koike
发明人： Yasutomi Iwahashi , Akio Koike
IPC分类号： C03C3/06 , G02B1/00 , C03B19/00 , C03B19/14
CPC分类号： C03C3/06 , C03B19/1484 , C03B2201/42 , C03C4/0085 , C03C2201/42
摘要： A silica glass containing TiO2, characterized in that the fluctuation of the refractive index (Δn) is at most 2×10−4 within an area of 30 mm×30 mm in at least one plane. A silica glass containing TiO2, characterized in that the TiO2 concentration is at least 1 mass %, and the striae pitch is at most 10 μm. An optical material for EUV lithography, characterized in that it is made of a silica glass containing TiO2, and the fluctuation of the refractive index (Δn) is at most 2×10−4 in a plane perpendicular to the incident light direction. An optical material for EUV lithography, characterized in that it is made of a silica glass containing TiO2, wherein the TiO2 concentration is at least 1 mass %, and the difference between the maximum value and the minimum value of the TiO2 concentration is at most 0.06 mass % in a plane perpendicular to the incident light direction.
摘要翻译：含有TiO 2的二氧化硅玻璃，其特征在于，在至少一个平面中，在30mm×30mm的面积内，折射率（Deltan）的波动至多为2×10 -4。含有TiO 2的二氧化硅玻璃，其特征在于TiO 2浓度为1质量％以上，条纹间距为10μm以下。一种用于EUV光刻的光学材料，其特征在于它由含有TiO 2的二氧化硅玻璃制成，并且在垂直于入射光方向的平面中折射率（Deltan）的波动为至多2×10 -4。一种用于EUV光刻的光学材料，其特征在于，其由TiO 2的二氧化硅玻璃制成，其中TiO 2浓度为至少1质量％，并且TiO 2浓度的最大值和最小值之间的差为至多0.06 在垂直于入射光方向的平面中的质量％。

6. 发明申请

US20080103037A1 SILICA GLASS CONTAINING TiO2 AND PROCESS FOR ITS PRODUCTION 有权
标题翻译：含二氧化硅的二氧化硅玻璃及其生产工艺
公开(公告)号：US20080103037A1
公开(公告)日：2008-05-01
申请号：US11957855
申请日：2007-12-17
申请人： Yasutomi IWAHASHI , Akio Koike
发明人： Yasutomi IWAHASHI , Akio Koike
IPC分类号： C03C3/04
CPC分类号： C03B19/1415 , C03B19/1461 , C03B2201/12 , C03B2201/42 , C03C3/06 , C03C2201/12 , C03C2201/23 , C03C2201/42 , C03C2203/40 , C03C2203/54
摘要： A silica glass containing TiO2, which has a fictive temperature of at most 1,200° C., a F concentration of at least 100 ppm and a coefficient of thermal expansion of 0±200 ppb/° C. from 0 to 100° C. A process for producing a silica glass containing TiO2, which comprises a step of forming a porous glass body on a target quartz glass particles obtained by flame hydrolysis of glass-forming materials, a step of obtaining a fluorine-containing porous glass body, a step of obtaining a fluorine-containing vitrified glass body, a step of obtaining a fluorine-containing formed glass body and a step of carrying out annealing treatment.
摘要翻译：含有TiO 2的二氧化硅玻璃，其具有至多1200℃的假想温度，至少100ppm的F浓度和0±200ppb /℃的热膨胀系数。 0至100℃。一种制备含有TiO 2的石英玻璃的方法，其包括在通过玻璃形成材料的火焰水解获得的目标石英玻璃颗粒上形成多孔玻璃体的步骤，获得含氟多孔玻璃体的步骤，获得含氟玻璃化玻璃体的步骤，获得含氟成形玻璃体的步骤和进行退火处理的步骤。

7. 发明申请

US20060087057A1 Method of making a mold for a light guide plate 审中-公开
标题翻译：制造导光板模具的方法
公开(公告)号：US20060087057A1
公开(公告)日：2006-04-27
申请号：US10969043
申请日：2004-10-21
申请人： Akio Koike , Kinju Taya , Chao-Pai Lee
发明人： Akio Koike , Kinju Taya , Chao-Pai Lee
IPC分类号： B28B7/38 , B05D1/40 , B29C33/40
CPC分类号： B23P15/24 , B23P15/40
摘要： A method of making a mold for a light guide plate includes the steps of plating a soft metal layer on a roller, polishing the soft metal layer, engraving the soft metal layer to form a transferring pattern on the soft metal layer, and plating a hard metal layer on the soft metal layer.
摘要翻译：一种制造导光板的模具的方法包括以下步骤：将软金属层电镀在辊上，抛光软金属层，雕刻软金属层以在软金属层上形成转印图案，并且电镀硬金属层在软金属层上。

8. 发明授权

US06387510B1 Glass for a data storage medium substrate and glass substrate for data storage media 有权
标题翻译：用于数据存储介质基板的玻璃和用于数据存储介质的玻璃基板
公开(公告)号：US06387510B1
公开(公告)日：2002-05-14
申请号：US09546609
申请日：2000-04-10
申请人： Tetsuya Nakashima , Yasumasa Nakao , Akio Koike
发明人： Tetsuya Nakashima , Yasumasa Nakao , Akio Koike
IPC分类号： B32B1706
CPC分类号： C03C3/087 , C03C3/095 , Y10T428/24802
摘要： A glass for a data storage medium substrate, which consists essentially of the following components as represented by mol %: SiO2 60 to 72, Al2O3 2 to 9 MgO 3 to 9, CaO 2 to 10, SrO 0 to 15, ZnO 0 to 4, TiO2 0 to 8, ZrO2 0 to 4, Li2O 1 to 12, Na2O 0 to 8, K2O 0 to 5, Y2O3 0 to 5, La2O3 0 to 5, and Li2O + Na2O + K2O 4 to 15, and which has a Young's modulus of at least 85 GPa.
摘要翻译：用于数据存储介质基材的玻璃，其基本上由以摩尔％表示的以下组分组成，并且其杨氏模量为至少85GPa。

9. 外观设计

USD297920S Automobile 失效
公开(公告)号：USD297920S
公开(公告)日：1988-10-04
申请号：US741443
申请日：1985-06-05
申请人： Masato Nakano , Akio Koike , Yusuke Saito
设计人： Masato Nakano , Akio Koike , Yusuke Saito

10. 发明授权

US08735308B2 Optical member comprising TiO2-containing silica glass 有权
标题翻译：含有TiO 2的石英玻璃的光学构件
公开(公告)号：US08735308B2
公开(公告)日：2014-05-27
申请号：US12718776
申请日：2010-03-05
申请人： Akio Koike , Chikaya Tamitsuji , Kunio Watanabe , Tomonori Ogawa
发明人： Akio Koike , Chikaya Tamitsuji , Kunio Watanabe , Tomonori Ogawa
IPC分类号： C03C15/00 , C03C17/00 , C03C19/00 , C03C3/06
CPC分类号： C03C3/06 , C03B19/1423 , C03B19/1453 , C03B19/1461 , C03B25/02 , C03B2201/075 , C03B2201/12 , C03B2201/42 , C03B2207/36 , C03C4/0085 , C03C2201/12 , C03C2201/23 , C03C2201/42 , C03C2203/54
摘要： The present invention relates to an optical member including a TiO2-containing silica glass having: a TiO2 concentration of from 3 to 10% by mass; a Ti3+ concentration of 100 wt ppm or less; a thermal expansion coefficient at from 0 to 100° C., CTE0-100, of 0±150 ppb/° C.; and an internal transmittance in the wavelength range of 400 to 700 nm per a thickness of 1 mm, T400-700, of 80% or more, in which the optical member has a ratio of variation of Ti3+ concentration to an average value of the Ti3+ concentration, ΔTi3+/Ti3+, on an optical use surface, is 0.2 or less.
摘要翻译：本发明涉及一种含有TiO2含量为3〜10质量％的含TiO 2的二氧化硅玻璃的光学构件， Ti3 +浓度为100重量ppm以下; 0-100℃的热膨胀系数，CTE0-100，为0±150ppb /℃。并且在400〜700nm的波长范围内的内部透射率，每1mm厚度，T400〜700，为80％以上，其中光学部件具有Ti 3+浓度的变化比与Ti 3+的平均值的比值，在光学用表面上的浓度＆Dgr; Ti 3+ / Ti 3+为0.2以下。

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