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    • 3. 发明申请
    • VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM KALTGASSPRITZEN VON PARTIKELN UNTERSCHIEDLICHER FESTIGKEIT UND/ODER DUKTILITÄT
    • 方法和设备针对不同的强度和/或延性的KALTGAS SPLASH颗粒
    • WO2008084025A2
    • 2008-07-17
    • PCT/EP2008/050087
    • 2008-01-07
    • SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFTARNDT, AxelPYRITZ, UweSCHIEWE, HeikeULLRICH, Raymond
    • ARNDT, AxelPYRITZ, UweSCHIEWE, HeikeULLRICH, Raymond
    • C23C24/04
    • C23C24/04B05B7/1486B05B7/1626
    • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Kaltgasspritzen von Partikeln mit unterschiedlich hoher Festigkeit und/oder Duktilität sowie eine Vorrichtung (11) zum Kaltgasspritzen, die für dieses Verfahren geeignet ist. Um einen vergleichsweise hohen Anteil an Partikeln (23) mit der verglichen mit den anderen Partikeln (22) höheren Festigkeit und/oder geringeren Duktilität zu erreichen, wird erfindungsgemäss vorgesehen, dass diese Partikel in einem Bereich (21) der Stagnationskammer (15) der Kaltspritzeinrichtung eingespeist werden, der weit von der Düse (14) entfernt ist. Daher müssen die Partikel (23) vorteilhaft einen weiteren Weg durch die Stagnationskammer zurücklegen und werden daher vorgewärmt. Hierdurch lässt sich eine Abscheidung dieser Partikel (23) auf einem Substrat (25) verbessern. Insbesondere können Metalle mit einer Übergangstemperatur zwischen sprödem und duktilem Verhalten durch die Vorwärmung mit duktilen Eigenschaften ausgestattet werden, was deren Abscheidung vereinfacht.
    • 本发明涉及一种用于具有不同水平的强度和/或延展性和冷气喷涂,这是适合于这种过程的装置(11)的粒子的冷喷涂的方法。 为了使用以实现颗粒的(23)相对高的比例与其他颗粒(22)更高的强度和/或较低的延展性相比,根据提供的是本发明这些颗粒在冷喷涂装置的滞留腔(15)的区域(21) 被供给,其是远离喷嘴(14)。 因此,所述颗粒(23)具有有利的行进通过滞留腔更长的路径,并且因此被预热。 这使得可以提高这些颗粒(23)的基板(25)上的沉积。 特别地,金属可以通过具有延展性,这有利于它们的分离预热配备脆性和韧性行为之间的转变温度。
    • 6. 发明申请
    • VERFAHREN ZUM PLASMAREINIGEN EINES WERKSTÜCKS UND ZU DESSEN DURCHFÜHRUNG GEEIGNETE VORRICHTUNG
    • 方法进行等离子体清洗工件和实施措施,DEVICE
    • WO2005096337A1
    • 2005-10-13
    • PCT/DE2005/000543
    • 2005-03-23
    • SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFTARNDT, AxelKRÜGER, UrsusPYRITZ, Uwe
    • ARNDT, AxelKRÜGER, UrsusPYRITZ, Uwe
    • H01J9/38
    • H01J9/38B08B7/0035H01J37/321H01J37/32834H01J2237/335
    • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Plasmareinigen eines Hohlkörpers bzw. eine Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens. Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass in einer Reinigungskammer (11) der Vorrichtung Aufnahmen (13) für den zu reinigenden Hohlkörper (14), beispielsweise einen Lampenkörper für Gasentladungslampen, vorgesehen ist, der mit einer Zuführung (16) für ein Arbeitsgas (21) ausgestattet ist. Das Arbeitsgas kann während der Reinigung dadurch direkt dem zu reinigenden Hohlraum des Hohlkörpers (14) zugeführt werden, wobei in dem dort befindlichen Arbeitsgas mittels einer Induktionsspule (25) ein Plasma gezündet werden kann, mit dem der Reinigungsvorgang durchgeführt wird. Hierdurch lässt sich vorteilhaft ein lokales Plasma nur im Innenraum des Hohlkörpers (14) erzeugen, wobei das durchgeleitete Arbeitsgas gleichzeitig für einen zuverlässigen Abtransport der bei der Reinigung entstehenden Rückstände ermöglicht.
    • 本发明涉及一种用于将空心体的等离子体清洗或用于执行该方法的装置的方法。 根据本发明,提供的是在该装置安装件(13),用于清洁的中空主体(14),如一个灯体用于气体放电灯的清洁室(11),被提供,其配备有用于工作气体的进料器(16)(21) , 工作气体可以直接供给到待纯化期间从而清洁所述中空主体(14)的空腔,其特征在于,通过感应线圈(25)的装置位于有工作气体,等离子体可被点燃与被进行清理操作。 这使得能够有利地只在该中空体(14)的内部,产生局部等离子体,其中通过相同的时间引导工作气体允许清理残留物期间所产生的可靠的传输。