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热词
    • 3. 实用新型
    • 유해전자파 차폐직물지
    • 危险的电磁波屏蔽织物
    • KR200208904Y1
    • 2001-01-15
    • KR2020000014834
    • 2000-05-25
    • 주식회사 계림통상
    • 김일규
    • D06M10/06
    • 본 고안은 가정이나 산업현장에서 많이 사용되고 있는 직물지에 유해한 전자파를 차폐하기 위하여 메탈릭과 광물질 등을 직물지에 코팅하되, 직물지에 전자파 차폐물질의 코팅두께를 얇게 하여 원가를 절감하는 반면에 접착력을 높여 전자파 차폐의 효과를 오랫동안 지속될 수 있도록 하고자 하는 유해전자파 차폐직물지에 관한 것이다.
      진공상태에서 직물지의 표면을 에칭(etching)하여 요철로 두께를 얇게 구성하고, 상기 에칭한 표면에 금(Au), 은(Ag) ,구리(Cu), 니켈(Ni), 게르마늄(Gr), 맥반석, 옥돌 등의 차폐물질 중 어느 하나를 프라즈마코팅하여 전자파 차폐직물지를 구성하였다.
      이와 같은 본 고안은 직물지에 차폐물질의 접착층이 얇게 하는 반면에 접착력이 상승되고, 직물지의 특성에 따라 부드러운을 유지할 수 있어 잦은 사용과 세탁에도 차폐물질을 오랫동안 유지할 수 있을 뿐 아니라 생산원가를 절감할 수 있는 등의 이점이 있다.
    • 4. 发明公开
    • 유해전자파 차폐직물지의 제조방법 및 그 차폐직물지
    • 织物的电磁波屏蔽及其制造方法
    • KR1020000054184A
    • 2000-09-05
    • KR1020000028429
    • 2000-05-25
    • 주식회사 계림통상
    • 김일규
    • D06M10/00
    • PURPOSE: A fabric for common use at home or in industry is to be coated on its surface with metallic and other shield material against electromagnetic waves, and the coating is to be thin and durable for longevity. CONSTITUTION: A method comprises the steps of : removing gas from and placing a fabric under vacuum; etching the surface of the fabric for shallow irregularity; plasna coating the etched surface with one selected from Au, Ag, Cu, Ni, Gr and jade for shielding electromagnetic waves. The etched surface coating is to be thin and durable in adhesion for longevity.
    • 目的:用于家用或工业用途的织物应用金属和其他屏蔽材料涂覆在其表面上,防止电磁波,并且涂层要保持薄而耐用。 构成:一种方法包括以下步骤:从真空下除去气体并将其放置在真空下; 对织物的表面进行蚀刻,使浅层不规则; 用Au,Ag,Cu,Ni,Gr和翡翠选择一种蚀刻表面,以屏蔽电磁波。 蚀刻后的表面涂层要使用寿命更长,耐用。
    • 5. 发明公开
    • 롤 플레이트 롤 및 롤 투 플레이트 진공증착 시스템
    • 辊板辊和辊板真空沉积系统
    • KR1020000000499A
    • 2000-01-15
    • KR1019990047609
    • 1999-10-29
    • 주식회사 컴텍스오형석이만호주식회사 계림통상
    • 오형석이만호
    • C23C14/56
    • C23C14/568C23C14/021C23C14/24
    • PURPOSE: A vacuum deposition system is provided to make easy to control the process pressure by separating an unnecessary film roll part from a deposition part, reduce the loss of gas, and apply to various processors easily. CONSTITUTION: The system comprises a roll drum chamber(1) for supplying the whole base material such as film and fiber by winding, a tension control unit(8) for smoothing the winding and loosening of base material, a vacuum surface treatment chamber(9) for removing foreign material formed on the surface of base material and increasing adhesion by enhancing the activation energy of base material surface, and a vacuum deposition chamber(7). In the system Ar, O2, N2, CF4, H2, CO2, C2H5OH and other gas are leaded in the vacuum surface treatment chamber(9) to remove foreign material. The vacuum deposition chamber is composed of each unit such as a vacuum pump(4), a gas lead-in solenoid valve(10), and a deposition source(3) and designed to be able to addition and deletion.
    • 目的:提供真空沉积系统,通过将不必要的膜卷部分与沉积部分分离,减少气体损失,容易地应用于各种处理器,从而容易控制工艺压力。 构成:该系统包括用于通过卷绕提供诸如薄膜和纤维的整个基材的卷筒室(1),用于平滑基材的卷绕和松动的张力控制单元(8),真空表面处理室(9 ),用于去除形成在基材表面上的异物,并通过提高基材表面的活化能增加粘合力,以及真空沉积室(7)。 在系统中,在真空表面处理室(9)中引入了Ar,O 2,N 2,CF 4,H 2,CO 2,C 2 H 5 OH和其它气体以除去异物。 真空沉积室由诸如真空泵(4),气体引入电磁阀(10)和沉积源(3)的每个单元组成,并被设计成能够添加和删除。