专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2011037438A2 드라이필름 포토레지스트 审中-公开
标题翻译：干膜光刻胶
公开(公告)号：WO2011037438A2
公开(公告)日：2011-03-31
申请号：PCT/KR2010/006592
申请日：2010-09-28
申请人： 코오롱인더스트리 주식회사 , 석상훈 , 문희완 , 봉동훈 , 이병일 , 한국현 , 조승제 , 최종욱
发明人： 석상훈 , 문희완 , 봉동훈 , 이병일 , 한국현 , 조승제 , 최종욱
IPC分类号： G03F7/11 , G03F7/09 , G03F7/075
CPC分类号： G03F7/11 , G03F7/0752
摘要： 본 발명은 드라이필름 포토레지스트에 관한 것으로, 구체적으로 본 발명에 따른 드라이필름 포토레지스트는 지지체 필름을 제거한 상태로 노광공정이 실시가능하여, 지지체 필름에 의한 노광 효과의 악영향을 방지함으로써 해상도를 향상시킬 수 있다. 더욱이, 수지 보호층이 존재하는 상태로 노광을 실시하더라도 수지 보호층으로 인한 투명성 저하나 현상속도 저하가 발생하지 않아 고해상도를 달성할 수 있다.
摘要翻译：本发明涉及一种干膜光致抗蚀剂，更具体地说，本发明的干膜光致抗蚀剂可以在去除支撑膜的状态下经受曝光工艺，通过防止不利影响，可以提高分辨率。此外，即使在存在树脂保护层的状态下进行曝光，也不会发生由树脂保护层引起的高透明度或降低显影速度，并且可以实现高分辨率。

2. 发明申请

WO2011040749A2 드라이필름 포토레지스트 审中-公开
标题翻译：干膜胶片
公开(公告)号：WO2011040749A2
公开(公告)日：2011-04-07
申请号：PCT/KR2010/006612
申请日：2010-09-29
申请人： 코오롱인더스트리 주식회사 , 문희완 , 봉동훈 , 석상훈
发明人： 문희완 , 봉동훈 , 석상훈
IPC分类号： G03F7/09 , G03F7/11 , G03F7/075
CPC分类号： G03F7/092 , G03F7/027 , G03F7/0752 , G03F7/11
摘要： 본 발명은 드라이필름 포토레지스트에 관한 것으로, 구체적으로 본 발명에 따른 드라이필름 포토레지스트는 지지체 필름을 제거한 상태로 노광공정이 실시가능하여, 지지체 필름에 의한 노광 효과의 악영향을 방지함으로써 해상도를 향상시킬 수 있다. 또한, 수지 보호층이 존재하는 상태로 노광을 실시하더라도 수지 보호층으로 인한 투명성 저하나 현상속도 저하가 발생하지 않아 고해상도를 달성할 수 있다. 특히 본 발명에 따른 수지 보호층은 폴리실리콘과 같은 웨팅제(wetting agent)의 함량을 줄일 수 있어 원가를 절감시키면서 헤이즈(haze)를 낮추는 효과를 얻을 수 있고, 지지체 필름과 수지 보호층을 적정 수준으로 접착시키면서 지지체 필름을 제거할 때 수지 보호층의 손상을 주지 않아 헤이즈의 저하를 방지할 수 있고, 현상시간의 저하도 발생하지 않아 고해상도를 달성할 수 있다.
摘要翻译：干膜光致抗蚀剂技术领域本发明涉及干膜光致抗蚀剂，更具体地说，涉及通过在支撑膜的去除状态下进行曝光处理来提高分辨率的干膜光致抗蚀剂，以防止由于支撑膜引起的曝光效果的不良影响。此外，通过在树脂保护层的存在下进行曝光处理时，可以防止透明性的降低或显影速度的降低，可以获得高分辨率。特别地，根据本发明的树脂保护层可以通过减少诸如多晶硅的润湿剂含量来降低制造成本和雾度，可以通过抑制树脂保护层的损坏来防止雾度的降低，并且可以获得通过防止显影持续时间的降低来实现高分辨率。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式