会员体验
专利管家（专利管理）
工作空间（专利管理）
风险监控（情报监控）
数据分析（专利分析）
侵权分析（诉讼无效）
联系我们
交流群
官方交流：
QQ群： 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
下载
著录项
PDF全文
热词
    • 2. 发明专利
      TWI234457B 作為抗有絲分裂及抗腫瘤劑之喜樹鹼 - 類紫杉酚共軛物 CAMPTOTHECIN-TAXOID CONJUGATES AS ANTIMITOTIC AND ANTITUMOR AGENTS 失效
    • 作為抗有絲分裂及抗腫瘤劑之喜樹鹼 - 類紫杉酚共軛物 CAMPTOTHECIN-TAXOID CONJUGATES AS ANTIMITOTIC AND ANTITUMOR AGENTS
    • 作为抗有丝分裂及抗肿瘤剂之喜树碱 - 类紫杉酚共轭物 CAMPTOTHECIN-TAXOID CONJUGATES AS ANTIMITOTIC AND ANTITUMOR AGENTS
    • TWI234457B
    • 2005-06-21
    • TW092112170
    • 2003-05-02
    • 美國北卡羅利那大學 THE UNIVERSITY OF NORTH CAROLINA AT CHAPEL HILL
    • 高雄 李 KUO-HSIUNG LEE , 大津廣成 HIRONARI OHTSU , 中西由香 YUKA NAKANISHI , 肯尼士F. 巴斯陶 KENNETH F. BASTOW , 李方玉 LEE, FANG YU
    • A61K , C07D
    • A61K47/55
    • 根據式I之化合物：C'-L-T(I)，其中C'較佳為式II之喜樹鹼基：
      (II)其中R1選自由H、烷基、醛、羰基、烷氧基、烷基芳基、羥基烷基、鹵烷基、胺基烷基、二烷基胺基、二烷基胺基烷基、環胺基烷基、芳基、芳氧基、C-烯糖、硝基、氰基及 O-醣基組成之群；R2、R3、R4和R5各獨立選自由H、胺基、羥基、烷基、烷氧基、烷硫基、烷基胺基、胺基烷基、二(烷基)胺基、環胺基烷基、胺基烷氧基、芳基、芳氧基、C-烯糖、氰基、甲二氧基、甲醯基、硝基、鹵基、疊氮基、醯胺基、基、經胺基-氮原子鍵結至A環之20個標準胺基酸之任一個、SR8、NR8R8或O-醣基組成之群；或 R3和R4一起形成5或6員芳族或二氧六圜環；及其中R2和 R3、R3和R4或R4和R56一起；其限制條件係R1、R2、R3、 R4和R5之一為與L之共價鍵；R6為H、鹵基、烷基、烷氧基、烷基芳基、羥基烷基或鹵烷基；R7為烷基、烷基芳基、羥基烷基或芳基；R8獨立選自由H、烷基、烷基芳基、羥基烷基、胺基烷基、醯基或芳基組成之群；L為連結部份；T為類紫杉酚基，較佳為式III：
      (III)其中R11選自由H、烷基、烷氧基、胺基烷基和醯基組成之群；R12和R13獨立選自由H、烷基、芳基、烷氧基、烷基芳基、羥基烷基、鹵烷基、胺基烷基、二烷基胺基、二烷基胺基烷基、環胺基烷基、芳氧基、硝基、氰基和鹵基組成之群；及其醫藥上可接受鹽。該等化合物除別的以外，係有用於需要此之個體中治療療症，包括細胞分化及抑制細胞有絲分裂。
    • 根据式I之化合物：C'-L-T(I)，其中C'较佳为式II之喜树碱基： (II)其中R1选自由H、烷基、醛、羰基、烷氧基、烷基芳基、羟基烷基、卤烷基、胺基烷基、二烷基胺基、二烷基胺基烷基、环胺基烷基、芳基、芳氧基、C-烯糖、硝基、氰基及 O-糖基组成之群；R2、R3、R4和R5各独立选自由H、胺基、羟基、烷基、烷氧基、烷硫基、烷基胺基、胺基烷基、二(烷基)胺基、环胺基烷基、胺基烷氧基、芳基、芳氧基、C-烯糖、氰基、甲二氧基、甲酰基、硝基、卤基、叠氮基、酰胺基、基、经胺基-氮原子键结至A环之20个标准氨基酸之任一个、SR8、NR8R8或O-糖基组成之群；或 R3和R4一起形成5或6员芳族或二氧六圜环；及其中R2和 R3、R3和R4或R4和R56一起；其限制条件系R1、R2、R3、 R4和R5之一为与L之共价键；R6为H、卤基、烷基、烷氧基、烷基芳基、羟基烷基或卤烷基；R7为烷基、烷基芳基、羟基烷基或芳基；R8独立选自由H、烷基、烷基芳基、羟基烷基、胺基烷基、酰基或芳基组成之群；L为链接部份；T为类紫杉酚基，较佳为式III： (III)其中R11选自由H、烷基、烷氧基、胺基烷基和酰基组成之群；R12和R13独立选自由H、烷基、芳基、烷氧基、烷基芳基、羟基烷基、卤烷基、胺基烷基、二烷基胺基、二烷基胺基烷基、环胺基烷基、芳氧基、硝基、氰基和卤基组成之群；及其医药上可接受盐。该等化合物除别的以外，系有用于需要此之个体中治疗疗症，包括细胞分化及抑制细胞有丝分裂。
    • 基本信息 添加关注 加入工作空间 PDF全文 PDF下载 全文下载 相似专利 双屏查看 权利要求书 说明书全文 Espacenet 法律信息 同族专利 专利引用
    • 7. 发明专利
      TW200400820A 作為抗有絲分裂及抗腫瘤劑之喜樹鹼 - 類紫杉酚共軛物 CAMPTOTHECIN-TAXOID CONJUGATES AS ANTIMITOTIC AND ANTITUMOR AGENTS 失效
    • 作為抗有絲分裂及抗腫瘤劑之喜樹鹼 - 類紫杉酚共軛物 CAMPTOTHECIN-TAXOID CONJUGATES AS ANTIMITOTIC AND ANTITUMOR AGENTS
    • 作为抗有丝分裂及抗肿瘤剂之喜树碱 - 类紫杉酚共轭物 CAMPTOTHECIN-TAXOID CONJUGATES AS ANTIMITOTIC AND ANTITUMOR AGENTS
    • TW200400820A
    • 2004-01-16
    • TW092112170
    • 2003-05-02
    • 美國北卡羅利那大學 THE UNIVERSITY OF NORTH CAROLINA AT CHAPEL HILL
    • 高雄 李 KUO-HSIUNG LEE , 大津廣成 HIRONARI OHTSU , 中西由香 YUKA NAKANISHI , 肯尼士F 巴斯陶 KENNETH F. BASTOW , 李方玉 LEE, FANG YU
    • A61K , C07D
    • A61K47/55
    • 根據式I之化合物：C’－L－T(I)，其中C’較佳為式II之喜樹鹼基：092112170p01.bmp其中R1選自由H、烷基、醛、羰基、烷氧基、烷基芳基、羥基烷基、鹵烷基、胺基烷基、二烷基胺基、二烷基胺基烷基、環胺基烷基、芳基、芳氧基、C－烯糖、硝基、氰基及O－醣基組成之群；R2、R3、R4和R5各獨立選自由H、胺基、羥基、烷基、烷氧基、烷硫基、烷基胺基、胺基烷基、二(烷基)胺基、環胺基烷基、胺基烷氧基、芳基、芳氧基、C－烯糖、氰基、甲二氧基、甲醯基、硝基、鹵基、疊氮基、醯胺基、基、經胺基－氮原子鍵結至A環之20個標準胺基酸之任一個、SR8、NR8R8或O－醣基組成之群；或R3和R4一起形成5或6員芳族或二氧六圜環；及其中R2和R3、R3和R4或R4和R5在一起；其限制條件係R1、R2、R3、R4和R5之一為與L之共價鍵；R6為H、鹵基、烷基、烷氧基、烷基芳基、羥基烷基或鹵烷基；R7為烷基、烷基芳基、羥基烷基或芳基；R8獨立選自由H、烷基、烷基芳基、羥基烷基、胺基烷基、醯基或芳基組成之群；L為連結部份；T為類紫杉酚基，較佳為式lII：092112170p02.bmp其中R11選自由H、烷基、烷氧基、胺基烷基和醯基組成之群；R12和R13獨立選自由H、烷基、芳基、烷氧基、烷基芳基、羥基烷基、鹵烷基、胺基烷基、二烷基胺基、二烷基胺基烷基、環胺基烷基、芳氧基、硝基、氰基和鹵基組成之群；及其醫藥上可接受鹽。該等化合物除別的以外，係有用於需要此之個體中治療癌症，包括細胞分化及抑制細胞有絲分裂。
    • 根据式I之化合物：C’－L－T(I)，其中C’较佳为式II之喜树碱基：092112170p01.bmp其中R1选自由H、烷基、醛、羰基、烷氧基、烷基芳基、羟基烷基、卤烷基、胺基烷基、二烷基胺基、二烷基胺基烷基、环胺基烷基、芳基、芳氧基、C－烯糖、硝基、氰基及O－糖基组成之群；R2、R3、R4和R5各独立选自由H、胺基、羟基、烷基、烷氧基、烷硫基、烷基胺基、胺基烷基、二(烷基)胺基、环胺基烷基、胺基烷氧基、芳基、芳氧基、C－烯糖、氰基、甲二氧基、甲酰基、硝基、卤基、叠氮基、酰胺基、基、经胺基－氮原子键结至A环之20个标准氨基酸之任一个、SR8、NR8R8或O－糖基组成之群；或R3和R4一起形成5或6员芳族或二氧六圜环；及其中R2和R3、R3和R4或R4和R5在一起；其限制条件系R1、R2、R3、R4和R5之一为与L之共价键；R6为H、卤基、烷基、烷氧基、烷基芳基、羟基烷基或卤烷基；R7为烷基、烷基芳基、羟基烷基或芳基；R8独立选自由H、烷基、烷基芳基、羟基烷基、胺基烷基、酰基或芳基组成之群；L为链接部份；T为类紫杉酚基，较佳为式lII：092112170p02.bmp其中R11选自由H、烷基、烷氧基、胺基烷基和酰基组成之群；R12和R13独立选自由H、烷基、芳基、烷氧基、烷基芳基、羟基烷基、卤烷基、胺基烷基、二烷基胺基、二烷基胺基烷基、环胺基烷基、芳氧基、硝基、氰基和卤基组成之群；及其医药上可接受盐。该等化合物除别的以外，系有用于需要此之个体中治疗癌症，包括细胞分化及抑制细胞有丝分裂。
    • 基本信息 添加关注 加入工作空间 PDF全文 PDF下载 全文下载 相似专利 双屏查看 权利要求书 说明书全文 Espacenet 法律信息 同族专利 专利引用
    • 10. 发明专利
      TW200428155A 具有二氧化碳顯影系統之正色調微影蝕刻法 POSITIVE TONE LITHOGRAPHY WITH CARBON DIOXIDE DEVELOPMENT SYSTEMS 审中-公开
    • 具有二氧化碳顯影系統之正色調微影蝕刻法 POSITIVE TONE LITHOGRAPHY WITH CARBON DIOXIDE DEVELOPMENT SYSTEMS
    • 具有二氧化碳显影系统之正色调微影蚀刻法 POSITIVE TONE LITHOGRAPHY WITH CARBON DIOXIDE DEVELOPMENT SYSTEMS
    • TW200428155A
    • 2004-12-16
    • TW092129608
    • 2003-10-24
    • 美國北卡羅利那大學 THE UNIVERSITY OF NORTH CAROLINA AT CHAPEL HILL
    • 喬瑟夫M 迪斯蒙 JOSEPH M. DESIMONE
    • G03F
    • G03F7/0392 , G03F7/0046 , G03F7/32
    • 一種在一微電子基板中形成一抗蝕影像(resist image)的方法，該方法包含以下步驟：(a)提供一其上具有一聚合物塗層之基板，其中該聚合物在一低於或等於一特定pH值(例如7.0、6、5或4)之水中係不溶者；接著(b)將該塗層成影像(imagewise)的曝露在輻射下，形成已曝光及未曝光之塗層部分，同時該等已曝光之塗層部分在具有一低於或等於該特定pH值7.0之pH值的水中係可溶的；且接著(c)將該塗層與包含二氧化碳及水之顯影組合物接觸，該水具有一低於或等於7.0之特定pH值(且較佳為約2或3或4、5或6之pH值；意即，低於或等於6、5或4之特定pH值)，使得與該等未曝光之塗層部分相比，該等已曝光之塗層部分較優先自該基板移除，以在其上形成一影像。
    • 一种在一微电子基板中形成一抗蚀影像(resist image)的方法，该方法包含以下步骤：(a)提供一其上具有一聚合物涂层之基板，其中该聚合物在一低于或等于一特定pH值(例如7.0、6、5或4)之水中系不溶者；接着(b)将该涂层成影像(imagewise)的曝露在辐射下，形成已曝光及未曝光之涂层部分，同时该等已曝光之涂层部分在具有一低于或等于该特定pH值7.0之pH值的水中系可溶的；且接着(c)将该涂层与包含二氧化碳及水之显影组合物接触，该水具有一低于或等于7.0之特定pH值(且较佳为约2或3或4、5或6之pH值；意即，低于或等于6、5或4之特定pH值)，使得与该等未曝光之涂层部分相比，该等已曝光之涂层部分较优先自该基板移除，以在其上形成一影像。
    • 基本信息 添加关注 加入工作空间 PDF全文 PDF下载 全文下载 相似专利 双屏查看 权利要求书 说明书全文 Espacenet 法律信息 同族专利 专利引用
每页展示10个专利
每页展示10个专利
每页展示20个专利
每页展示50个专利
每页展示100个专利

IPRDB

最新中国发明专利 最新美国发明专利 技术领域 专利库 专利分类库 国际专利分类库

热门服务

会员版试用 API 数据接口 找代理 知嘟嘟专利交易 排行榜 大学排行榜 专利百科

关于我们

平台介绍 战略合作 网站地图

友情链接

知嘟嘟专利交易 国家知识产权局 中国商标网

联系方式


©2019-2023 上海吉码数字技术有限公司 版权所有，并保留所有权利 沪ICP备20016256号-6 沪公网安备31011702005475号