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1. 发明专利

TW200900422A 超支鏈聚合物之合成方法、超支鏈聚合物、光阻組成物、半導體積體電路及半導體積體電路之製造方法 HYPERBRANCHED POLYMER SYNTHESIS METHOD, HYPERBRANCHED POLYMER, RESIST COMPOSITION, SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT, AND SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT MANUFACTURING METHOD 审中-公开
简体标题：超支链聚合物之合成方法、超支链聚合物、光阻组成物、半导体集成电路及半导体集成电路之制造方法 HYPERBRANCHED POLYMER SYNTHESIS METHOD, HYPERBRANCHED POLYMER, RESIST COMPOSITION, SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT, AND SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT MANUFACTURING METHOD
公开(公告)号：TW200900422A
公开(公告)日：2009-01-01
申请号：TW096150539
申请日：2007-12-27
申请人：獅子股份有限公司 LION CORPORATION
发明人：田中結子 TANAKA, YUKO , 宇野彰記 UNO, AKINORI , 島真一郎 KABASHIMA, SHINICHIRO , 田村實 TAMURA, MINORU , 久保善靖 KUBO, YOSHIYASU , 佐佐木悠介 SASAKI, YUSUKE , 堀部峰子 HORIBE, MINEKO , 金子行裕 KANEKO, YUKIHIRO , 鈴木薰 SUZUKI, KAORU
IPC分类号： C08F , G03F
CPC分类号： G03F7/0392 , C08G83/005
摘要：本發明係以維持高分歧度下可穩定地得到具有目的分子量之超支鏈聚合物為目的,金屬觸媒的存在下使單體進行活性自由基聚合而合成超支鏈聚合物時,進行下述(1)或(2)之至少一方。(1)添加R1-A或R2-B-R3所示化合物之至少一種類。但,上述化合物中,R1表示氫、碳數1-10的烷基、碳數6-10的芳基或碳數7-10的芳烷基,A表示氰基、羥基或硝基,R2及R3表示氫、碳數1-10的烷基、碳數6-10的芳基、碳數7-10的芳烷基或碳數2-10的二烷基胺基,B表示羰基或磺醯基。(2)使對於反應系的單體每1次混合量未達混合於該反應系之單體全量。
简体摘要：本发明系以维持高分歧度下可稳定地得到具有目的分子量之超支链聚合物为目的,金属触媒的存在下使单体进行活性自由基聚合而合成超支链聚合物时,进行下述(1)或(2)之至少一方。(1)添加R1-A或R2-B-R3所示化合物之至少一种类。但,上述化合物中,R1表示氢、碳数1-10的烷基、碳数6-10的芳基或碳数7-10的芳烷基,A表示氰基、羟基或硝基,R2及R3表示氢、碳数1-10的烷基、碳数6-10的芳基、碳数7-10的芳烷基或碳数2-10的二烷基胺基,B表示羰基或磺酰基。(2)使对于反应系的单体每1次混合量未达混合于该反应系之单体全量。

2. 发明专利

TWI299069B 纖維製品用液體整理劑組成物失效
简体标题：纤维制品用液体整理剂组成物
公开(公告)号：TWI299069B
公开(公告)日：2008-07-21
申请号：TW090107925
申请日：2001-04-03
申请人：獅子股份有限公司 LION CORPORATION
发明人：江川直行 , 宮廣夫
IPC分类号： D06M , D06P
摘要：本發明提供一種纖維製品用液體整理劑組成物,其可
賦予纖維或衣料等纖維製品較佳的柔軟性,且可維持纖維
製品的張力、彈性的同時具有減低洗滌時所引起的皺折之
效果,且既使於高溫下保存亦可抑制色調的劣化。
該纖維製品用液體整理劑組成物係含有下述(A)至(
D),以(A)/(B)=30/70(質量比)所成。
(A)下述式所表示的變性聚矽氧烷;

(對分子全體而言,X基中的POE鏈之質量比例為32
。)
(B)下述式所表示的胺化合物以氯化甲基作4級化者
。

(式中,R6表示總碳數為20的醯基氧基乙基,R7表示
總碳數為21的醯基胺基丙基)
(C) C.I.Acid Green25;以及
(D) 羥基乙烷二磺酸/二丁基羥基甲苯=25/75(質量
比)
简体摘要：本发明提供一种纤维制品用液体整理剂组成物,其可赋予纤维或衣料等纤维制品较佳的柔软性,且可维持纤维制品的张力、弹性的同时具有减低洗涤时所引起的皱折之效果,且既使于高温下保存亦可抑制色调的劣化。该纤维制品用液体整理剂组成物系含有下述(A)至( D),以(A)/(B)=30/70(质量比)所成。 (A)下述式所表示的变性聚硅氧烷; (对分子全体而言,X基中的POE链之质量比例为32 。) (B)下述式所表示的胺化合物以氯化甲基作4级化者。 (式中,R6表示总碳数为20的酰基氧基乙基,R7表示总碳数为21的酰基胺基丙基) (C) C.I.Acid Green25;以及 (D) 羟基乙烷二磺酸/二丁基羟基甲苯=25/75(质量比)

3. 发明专利

TWI287573B 含澱粉之粒狀清潔劑組成物 AMYLASE-CONTAINING GRANULAR DETERGENT COMPOSITION 失效
简体标题：含淀粉之粒状清洁剂组成物 AMYLASE-CONTAINING GRANULAR DETERGENT COMPOSITION
公开(公告)号：TWI287573B
公开(公告)日：2007-10-01
申请号：TW094136460
申请日：2005-10-19
申请人：獅子股份有限公司 LION CORPORATION
发明人：千葉瑞榮 CHIBA, MIZUE , 永安克也 NAGAYASU, KATSUYA , 平田靖 HIRATA, YASUSHI , 永田聰 NAGATA, SATORU
IPC分类号： C11D
摘要：一種粒狀清潔劑組成物，包含：(A)具有40％或更高之黏度減少比例之澱粉，該比例係依據說明書中詳述之方程式(1)計算而得；(B)含界面活性劑之粒子，該界面活性劑之量為10至50重量％；以及(C)經表面處理之水溶性無機鹼性化合物粒子，其可經由利用有機或無機水溶性聚合化合物與難溶於水之化合物對水溶性無機鹼性化合物進行表面處理而得，該水溶性無機鹼性化合物之含量係介於50至98重量％之範圍。
简体摘要：一种粒状清洁剂组成物，包含：(A)具有40％或更高之黏度减少比例之淀粉，该比例系依据说明书中详述之方进程(1)计算而得；(B)含界面活性剂之粒子，该界面活性剂之量为10至50重量％；以及(C)经表面处理之水溶性无机碱性化合物粒子，其可经由利用有机或无机水溶性聚合化合物与难溶于水之化合物对水溶性无机碱性化合物进行表面处理而得，该水溶性无机碱性化合物之含量系介于50至98重量％之范围。

4. 发明专利

TW200624553A 含澱粉之粒狀清潔劑組成物 AMYLASE-CONTAINING GRANULAR DETERGENT COMPOSITION 审中-公开
简体标题：含淀粉之粒状清洁剂组成物 AMYLASE-CONTAINING GRANULAR DETERGENT COMPOSITION
公开(公告)号：TW200624553A
公开(公告)日：2006-07-16
申请号：TW094136460
申请日：2005-10-19
申请人：獅子股份有限公司 LION CORPORATION
发明人：千葉瑞榮 CHIBA, MIZUE , 永安克也 NAGAYASU, KATSUYA , 平田靖 HIRATA, YASUSHI , 永田聰 NAGATA, SATORU
IPC分类号： C11D
摘要：一種粒狀清潔劑組成物，包含：(A)具有40%或更高之黏度減少比例之澱粉，該比例係依據說明書中詳述之方程式(1)計算而得；(B)含界面活性劑之粒子，該界面活性劑之量為10至50重量%；以及(C)經表面處理之水溶性無機鹼性化合物粒子，其可經由利用有機或無機水溶性聚合化合物與難溶於水之化合物對水溶性無機鹼性化合物進行表面處理而得，該水溶性無機鹼性化合物之含量係介於50至98重量%之範圍。
简体摘要：一种粒状清洁剂组成物，包含：(A)具有40%或更高之黏度减少比例之淀粉，该比例系依据说明书中详述之方进程(1)计算而得；(B)含界面活性剂之粒子，该界面活性剂之量为10至50重量%；以及(C)经表面处理之水溶性无机碱性化合物粒子，其可经由利用有机或无机水溶性聚合化合物与难溶于水之化合物对水溶性无机碱性化合物进行表面处理而得，该水溶性无机碱性化合物之含量系介于50至98重量%之范围。

5. 发明专利

TW200900423A 超支鏈聚合物之合成方法、超支鏈聚合物、光阻組成物、半導體積體電路及半導體積體電路之製造方法 HYPERBRANCHED POLYMER SYNTHESIS METHOD, HYPERBRANCHED POLYMER, RESIST COMPOSITION, SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT, AND SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT MANUFACTURING METHOD 审中-公开
简体标题：超支链聚合物之合成方法、超支链聚合物、光阻组成物、半导体集成电路及半导体集成电路之制造方法 HYPERBRANCHED POLYMER SYNTHESIS METHOD, HYPERBRANCHED POLYMER, RESIST COMPOSITION, SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT, AND SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT MANUFACTURING METHOD
公开(公告)号：TW200900423A
公开(公告)日：2009-01-01
申请号：TW096150540
申请日：2007-12-27
申请人：獅子股份有限公司 LION CORPORATION
发明人：宇野彰記 UNO, AKINORI , 久保善靖 KUBO, YOSHIYASU , 佐佐木悠介 SASAKI, YUSUKE , 堀部峰子 HORIBE, MINEKO , 金子行裕 KANEKO, YUKIHIRO , 鈴木薰 SUZUKI, KAORU , 田村實 TAMURA, MINORU , 島真一郎 KABASHIMA, SHINICHIRO , 田中結子 TANAKA, YUKO
IPC分类号： C08F , G03F
CPC分类号： G03F7/0392 , C08F6/02 , C08F12/18 , C08F12/22 , C08F212/14 , C08F220/06 , C08F293/005 , C08F2220/1825 , C08F2438/01 , C08G83/005
摘要：本發明係以減低合成時所排出之廢液量下,可穩定且大量地合成核殼型超支鏈聚合物為目的,經由金屬觸媒存在下之單體的活性自由基聚合合成核殼型超支鏈聚合物時,將活性自由基聚合所合成之超支鏈聚合物作為核心部,藉由於核心部導入酸分解性基所形成之殼部中之一部份酸分解性基,使用酸觸媒進行分解形成酸基之核殼型超支鏈聚合物被形成。其後,藉由混合將核殼型超支鏈聚合物溶解於有機溶劑的溶液、與對於該溶液中之有機溶劑量的所定比率所成量之超純水,溶液與超純水之混合溶液中析出核殼型超支鏈聚合物,將析出之核殼型超支鏈聚合物由混合溶液萃取。
简体摘要：本发明系以减低合成时所排出之废液量下,可稳定且大量地合成核壳型超支链聚合物为目的,经由金属触媒存在下之单体的活性自由基聚合合成核壳型超支链聚合物时,将活性自由基聚合所合成之超支链聚合物作为内核部,借由于内核部导入酸分解性基所形成之壳部中之一部份酸分解性基,使用酸触媒进行分解形成酸基之核壳型超支链聚合物被形成。其后,借由混合将核壳型超支链聚合物溶解于有机溶剂的溶液、与对于该溶液中之有机溶剂量的所定比率所成量之超纯水,溶液与超纯水之混合溶液中析出核壳型超支链聚合物,将析出之核壳型超支链聚合物由混合溶液萃取。

6. 发明专利

TW200848507A 衣料用液體洗淨劑組成物 LIQUID DETERGENT COMPOSITION FOR CLOTHING 审中-公开
简体标题：衣料用液体洗净剂组成物 LIQUID DETERGENT COMPOSITION FOR CLOTHING
公开(公告)号：TW200848507A
公开(公告)日：2008-12-16
申请号：TW097105537
申请日：2008-02-18
申请人：獅子股份有限公司 LION CORPORATION
发明人：橋本惠美子 HASHIMOTO, EMIKO , 寺林剛 TERABAYASHI, TSUYOSHI
IPC分类号： C11D
摘要：本發明是以防止洗滌衣料時會發生的衣料僵硬及再污染作為課題。本發明是有關一種衣料用液體洗淨劑組成物,其含有:(A)非離子界面活性劑,10至50質量%;(B)長鏈三級胺及/或其鹽、及/或陽離子界面活性劑,0.1至10質量%;及(C)具有(c1)對苯二甲酸伸烷酯單元及/或間苯二甲酸伸烷酯單元與(c2)氧伸烷基(oxyalkylene)單元及/或聚氧伸烷基單元之水溶性聚合物,0.01至10質量%。
简体摘要：本发明是以防止洗涤衣料时会发生的衣料僵硬及再污染作为课题。本发明是有关一种衣料用液体洗净剂组成物,其含有:(A)非离子界面活性剂,10至50质量%;(B)长链三级胺及/或其盐、及/或阳离子界面活性剂,0.1至10质量%;及(C)具有(c1)对苯二甲酸伸烷酯单元及/或间苯二甲酸伸烷酯单元与(c2)氧伸烷基(oxyalkylene)单元及/或聚氧伸烷基单元之水溶性聚合物,0.01至10质量%。

7. 发明专利

TW200515430A 電絕緣油用基劑失效
简体标题：电绝缘油用基剂
公开(公告)号：TW200515430A
公开(公告)日：2005-05-01
申请号：TW093125548
申请日：2004-08-26
申请人：獅子股份有限公司 LION CORPORATION , 日本AE動力系統股份有限公司 JAPAN AE POWER SYSTEMS CORPORATION
发明人：竹居光彥 TAKEI, MITSUHIKO , 狩野孝明 KANOH, TAKAAKI , 小出英延 KOIDE, HIDENOBU , 藤井清 FUJII, KIYOSHI
IPC分类号： H01B
CPC分类号： H01B3/20 , C10M129/70 , C10M2207/021 , C10M2207/40 , C10N2220/027 , C10N2220/028 , C10N2240/201
摘要：本發明係有關由碳數8～20之高級脂肪酸，與碳數6～14之支鏈脂肪族1價醇類之酯化物所成之電絕緣油用基劑，或由來自棕櫚油混合脂肪酸及／或來自大豆油混合脂肪酸，與碳數1～5之脂肪族1價醇類或碳數6～14之支鏈脂肪族1價醇之酯化物所成之電氣絕緣油用基劑。依本發明可提供優異之黏度、流動性、化學安定性等，可充分發揮電絕緣油電特性之電絕緣油用基劑。
简体摘要：本发明系有关由碳数8～20之高级脂肪酸，与碳数6～14之支链脂肪族1价醇类之酯化物所成之电绝缘油用基剂，或由来自棕榈油混合脂肪酸及／或来自大豆油混合脂肪酸，与碳数1～5之脂肪族1价醇类或碳数6～14之支链脂肪族1价醇之酯化物所成之电气绝缘油用基剂。依本发明可提供优异之黏度、流动性、化学安定性等，可充分发挥电绝缘油电特性之电绝缘油用基剂。

8. 发明专利

TW200740426A 軟性隱形鏡片用組成物及抑制吸附之方法审中-公开
简体标题：软性隐形镜片用组成物及抑制吸附之方法
公开(公告)号：TW200740426A
公开(公告)日：2007-11-01
申请号：TW095148807
申请日：2006-12-25
申请人：獅子股份有限公司 LION CORPORATION
发明人：田淵照人 TABUCHI, NOBUHITO , 服部學 HATTORI, MANABU
IPC分类号： A61K , A61P
CPC分类号： A61K31/135 , A61K31/137 , A61K31/138 , A61K31/14 , A61K31/216 , A61K31/27 , A61K31/275 , A61K31/41 , A61K31/4164 , A61K31/4168 , A61K31/4174 , A61K31/4178 , A61K31/436 , A61K31/4402 , A61K31/4409 , A61K31/4425 , A61K31/4433 , A61K31/47 , A61K31/496 , A61K31/517
摘要：本發明係有關一種含有(A)選自具有2級胺基及/或3級胺基的胺、及其鹽之鹼性藥物、(B)1種或2種以上選自胺基酸及其鹽、酸性黏多糖及其鹽、以及環糊精,且pH値為3.5~4.8之鹼性藥物,可抑制吸附軟性隱形鏡片的軟性隱形鏡片用組成物,及抑制上述鹼性藥物對軟性隱形鏡片吸附之方法。
简体摘要：本发明系有关一种含有(A)选自具有2级胺基及/或3级胺基的胺、及其盐之碱性药物、(B)1种或2种以上选自氨基酸及其盐、酸性黏多糖及其盐、以及环煳精,且pH値为3.5~4.8之碱性药物,可抑制吸附软性隐形镜片的软性隐形镜片用组成物,及抑制上述碱性药物对软性隐形镜片吸附之方法。

9. 发明专利

TW200707103A 具有奈米平滑性與蝕刻耐性之光阻聚合物及光阻組成物 PHOTORESIST POLYMER HAVING NANOSMOOTHNESS AND ETCHING RESISTANCE AND RESIST COMPOSITION 审中-公开
简体标题：具有奈米平滑性与蚀刻耐性之光阻聚合物及光阻组成物 PHOTORESIST POLYMER HAVING NANOSMOOTHNESS AND ETCHING RESISTANCE AND RESIST COMPOSITION
公开(公告)号：TW200707103A
公开(公告)日：2007-02-16
申请号：TW095114759
申请日：2006-04-25
申请人：獅子股份有限公司 LION CORPORATION , 兵庫縣 HYOGO PREFECTURE
发明人：久保善靖 KUBO, YOSHIYASU , 金子行裕 KANEKO, YUKIHIRO , 鈴木薰 SUZUKI, KAORU , 田村實 TAMURA, MINORU , 木下博雄 KINOSHITA, HIROO , 渡邊健夫 WATANABE, TAKEO , 堀部峰子 HORIBE, MINEKO , 宇野彰記 UNO, AKINORI
IPC分类号： G03F
CPC分类号： C08F297/00 , C08G83/005 , G03F7/0392
摘要：本發明提供一種能利用為以光刻作為中心之奈米加工用的聚合物素材,其具有經改善乾蝕刻耐性、敏感度以及表面平滑性之芯殼構造,其殼層部具有乙烯基安息香酸第三丁酯等酸分解性的重複單元之超分枝聚合物,以及含有該超分枝聚合物之光阻組成物。
095114759-p01.bmp
简体摘要：本发明提供一种能利用为以光刻作为中心之奈米加工用的聚合物素材,其具有经改善干蚀刻耐性、敏感度以及表面平滑性之芯壳构造,其壳层部具有乙烯基安息香酸第三丁酯等酸分解性的重复单元之超分枝聚合物,以及含有该超分枝聚合物之光阻组成物。 095114759-p01.bmp

10. 发明专利

TWI232757B 皮膚或頭髮處理組成物 SKIN OR HAIR TREATMENT COMPOSITION 有权
简体标题：皮肤或头发处理组成物 SKIN OR HAIR TREATMENT COMPOSITION
公开(公告)号：TWI232757B
公开(公告)日：2005-05-21
申请号：TW091121372
申请日：2002-09-18
申请人：獅子股份有限公司 LION CORPORATION
发明人：橫幕敦司 , 青野惠 , 伊藤武利 , 渡邊真一 , 西田勇一
IPC分类号： A61K
摘要：本發明提供一種外用製劑，其特徵為其包含，以選自下列式(I)所示之沒食子酸衍生物為基礎，
(I)其中R1代表氫原子、鹼金屬、鹼土金屬、銨鹽、或具有從1至18個碳原子的烷基或烯基；R2、R3及R4獨立地代表氫原子、羥基，具有從1至18個碳原子之烷氧基、聚氧化乙烯基團、聚氧化丙烯基團、或單醣、雙醣或寡醣之殘質；
90重量%或更多之一或多種沒食子酸衍生物(A)(其中在式(I)中之R2、R3及R4的其中二項係代表單醣、雙醣、或寡醣之殘質)；及
從0.001重量%至少於10重量%之一或多種沒食子酸衍生物(B)(其中R2、R3和R4的其中一項代表單醣、雙醣、或寡醣之殘質)，而各重量%係以沒食子酸衍生物之全部含量計。
简体摘要：本发明提供一种外用制剂，其特征为其包含，以选自下列式(I)所示之没食子酸衍生物为基础， (I)其中R1代表氢原子、碱金属、碱土金属、铵盐、或具有从1至18个碳原子的烷基或烯基；R2、R3及R4独立地代表氢原子、羟基，具有从1至18个碳原子之烷氧基、聚氧化乙烯基团、聚氧化丙烯基团、或单糖、双糖或寡糖之残质； 90重量%或更多之一或多种没食子酸衍生物(A)(其中在式(I)中之R2、R3及R4的其中二项系代表单糖、双糖、或寡糖之残质)；及从0.001重量%至少于10重量%之一或多种没食子酸衍生物(B)(其中R2、R3和R4的其中一项代表单糖、双糖、或寡糖之残质)，而各重量%系以没食子酸衍生物之全部含量计。

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