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    • 2. 发明专利
    • 一種具有彈性凸塊與測試區之接點結構與其製作方法 CONTACT STRUCTURE HAVING A COMPLIANT BUMP AND A TESTING AREA AND MANUFACTURING METHOD FOR THE SAME
    • 一种具有弹性凸块与测试区之接点结构与其制作方法 CONTACT STRUCTURE HAVING A COMPLIANT BUMP AND A TESTING AREA AND MANUFACTURING METHOD FOR THE SAME
    • TWI317164B
    • 2009-11-11
    • TW095127901
    • 2006-07-28
    • 中華民國台灣薄膜電晶體液晶顯示器產業協會中華映管股份有限公司友達光電股份有限公司廣輝電子股份有限公司瀚宇彩晶股份有限公司奇美電子股份有限公司財團法人工業技術研究院統寶光電股份有限公司
    • 張世明楊省樞安超群
    • H01L
    • H01L24/10H01L24/13H01L2224/05001H01L2224/05022H01L2224/051H01L2224/05548H01L2224/056H01L2224/13H01L2224/13008H01L2224/13099H01L2924/01013H01L2924/01033H01L2924/01079H01L2924/01082H01L2924/01322H01L2924/014H01L2924/09701H01L2924/14H01L2924/15788H01L2924/00H01L2924/00014
    • 一種具有彈性凸塊與測試區之接點結構與其製作方法,該彈性凸塊為形成於矽晶圓或電路板上之導電接點上,係為由高分子材料為核心,且為導電材料包覆的彈性凸塊,並設置於該接點結構之一側,使導電接點同時包括凸塊與測試區,其中測試區可以提供外部之功能測試,免除習知技術直接在彈性凸塊區測試時會破壞其上包覆的金屬層的缺點。 A contact structure having both a compliant bump and a testing area and the manufacturing method for the same is introduced. In which, the compliant bump is formed on a conductive contact of the silicon wafer or a printed circuit board. The core of the bump is made by polymeric material, and coated with conductive material. Particularly, the compliant bump is disposed on the one side of the conductive contact structure that includes both the bump and the testing area, wherein the testing area provides the area to be functionality tested, so as to prevent the damage of the coated conductive material of the compliant bump. 【創作特點】 習知技術為了解決基材上用於導電的凸塊在壓合其他電子元件時可能產生結構上的破壞,係使用高分子材料再包覆一層導電層形成的導電凸塊,然仍可能因為在測試時被探針碰觸而被破壞,雖仍有習知技術揭露用於探針測試的凸塊結構,但本發明所提出不同於習知技術之接點結構僅有一層披覆於凸塊結構的導電金屬層,且仍針對上述缺點提供一同時具有凸塊結構與測試區的導電金屬墊結構。
      本發明係為一種具有彈性凸塊與測試區之接點結構與其製作方法,該彈性凸塊為形成於矽晶圓或電路板上之導電接點上,係為由高分子材料為核心,且為導電材料包覆的彈性凸塊,其中較佳實施例係設置於該接點結構之一側,使之同時包括凸塊與測試區。
      本發明所揭露的接點結構之較佳實施例係將矽晶圓用於輸入/輸出接點之金屬墊,製作成為同時具有彈性凸塊與測試區之金屬墊,其中彈性凸塊之表面金屬提供電性連接,測試區則提供測試針偵測用。
      本發明製程實施例包括先製備一基材,其中至少具有該接點結構,之後塗佈高分子材料於該接點結構上,再以顯影/蝕刻手段蝕刻高分子材料,其中未經顯影/蝕刻部分形成一彈性凸塊,而經顯影/蝕刻部分形成一測試區,最後披覆一層導電材料,使該彈性凸塊形成一導電凸塊,故此,該導電凸塊與該測試區以該層導電材料電性連接,使測試區與導電凸塊導通,使測試接點結構之電氣特性時,不會破壞導電凸塊上披覆之導電材料。
      本發明製程之另一實施例包括先製備一矽晶圓,其已具有一作為輸入/輸出端子的金屬墊與一保護矽晶圓主體的鈍化層,再塗佈一高分子材料於晶片之金屬墊上,接著顯影/蝕刻該高分子材料,使未經顯影/蝕刻部分形成一彈性凸塊,而經顯影/蝕刻部分形成一測試區,之後製作一微凸點結構於該彈性凸塊上,再披覆導電金屬層於其中之彈性凸塊與測試區上,而彈性凸塊形成一導電凸塊,藉此,該導電凸塊與該測試區以該層導電金屬層電性連接,使該測試區與該導電凸塊導通,利用該測試區可得該接點結構之電氣特性,且不會破壞該導電凸塊上披覆之導電金屬層。
    • 一种具有弹性凸块与测试区之接点结构与其制作方法,该弹性凸块为形成于硅晶圆或电路板上之导电接点上,系为由高分子材料为内核,且为导电材料包覆的弹性凸块,并设置于该接点结构之一侧,使导电接点同时包括凸块与测试区,其中测试区可以提供外部之功能测试,免除习知技术直接在弹性凸块区测试时会破坏其上包覆的金属层的缺点。 A contact structure having both a compliant bump and a testing area and the manufacturing method for the same is introduced. In which, the compliant bump is formed on a conductive contact of the silicon wafer or a printed circuit board. The core of the bump is made by polymeric material, and coated with conductive material. Particularly, the compliant bump is disposed on the one side of the conductive contact structure that includes both the bump and the testing area, wherein the testing area provides the area to be functionality tested, so as to prevent the damage of the coated conductive material of the compliant bump. 【创作特点】 习知技术为了解决基材上用于导电的凸块在压合其他电子组件时可能产生结构上的破坏,系使用高分子材料再包覆一层导电层形成的导电凸块,然仍可能因为在测试时被探针碰触而被破坏,虽仍有习知技术揭露用于探针测试的凸块结构,但本发明所提出不同于习知技术之接点结构仅有一层披覆于凸块结构的导电金属层,且仍针对上述缺点提供一同时具有凸块结构与测试区的导电金属垫结构。 本发明系为一种具有弹性凸块与测试区之接点结构与其制作方法,该弹性凸块为形成于硅晶圆或电路板上之导电接点上,系为由高分子材料为内核,且为导电材料包覆的弹性凸块,其中较佳实施例系设置于该接点结构之一侧,使之同时包括凸块与测试区。 本发明所揭露的接点结构之较佳实施例系将硅晶圆用于输入/输出接点之金属垫,制作成为同时具有弹性凸块与测试区之金属垫,其中弹性凸块之表面金属提供电性连接,测试区则提供测试针侦测用。 本发明制程实施例包括先制备一基材,其中至少具有该接点结构,之后涂布高分子材料于该接点结构上,再以显影/蚀刻手段蚀刻高分子材料,其中未经显影/蚀刻部分形成一弹性凸块,而经显影/蚀刻部分形成一测试区,最后披覆一层导电材料,使该弹性凸块形成一导电凸块,故此,该导电凸块与该测试区以该层导电材料电性连接,使测试区与导电凸块导通,使测试接点结构之电气特性时,不会破坏导电凸块上披覆之导电材料。 本发明制程之另一实施例包括先制备一硅晶圆,其已具有一作为输入/输出端子的金属垫与一保护硅晶圆主体的钝化层,再涂布一高分子材料于芯片之金属垫上,接着显影/蚀刻该高分子材料,使未经显影/蚀刻部分形成一弹性凸块,而经显影/蚀刻部分形成一测试区,之后制作一微凸点结构于该弹性凸块上,再披覆导电金属层于其中之弹性凸块与测试区上,而弹性凸块形成一导电凸块,借此,该导电凸块与该测试区以该层导电金属层电性连接,使该测试区与该导电凸块导通,利用该测试区可得该接点结构之电气特性,且不会破坏该导电凸块上披覆之导电金属层。
    • 10. 发明专利
    • 液晶顯示器之製造方法 A MANUFACTURING METHOD FOR A LIQUID CRYSTAL DISPLAY
    • 液晶显示器之制造方法 A MANUFACTURING METHOD FOR A LIQUID CRYSTAL DISPLAY
    • TW200739915A
    • 2007-10-16
    • TW095112880
    • 2006-04-11
    • 廣輝電子股份有限公司 QUANTA DISPLAY INC.
    • 施明宏 SHIH, MINGHUNG
    • H01LG02F
    • G02F1/136209G02F2001/136222
    • 一種液晶顯示器之製造方法包含下列步驟:首先於具有彩色濾光層之彩色濾光基板上形成源/汲極及下電極。在源/汲極之上分別形成接合區,並於源/汲極之間形成通道區,閘介電層及閘極形成於接合區及通道區之上,此外,復於下電極之上形成複數個堆疊層及上電極。接著,於彩色濾光基板之彩色濾光層上方形成畫素電極,畫素電極係電性連接源/汲極其中之一與下電極。以背後曝光的方式將覆蓋於源/汲極、閘極、上電極與下電極上之保護層圖案形成於彩色濾光基板上。接著,於彩色濾光基板上方形成與該彩色濾光基板平行且具有共通電極之上基板。於上基板與彩色濾光基板之間注入液晶。
    • 一种液晶显示器之制造方法包含下列步骤:首先于具有彩色滤光层之彩色滤光基板上形成源/汲极及下电极。在源/汲极之上分别形成接合区,并于源/汲极之间形成信道区,闸介电层及闸极形成于接合区及信道区之上,此外,复于下电极之上形成复数个堆栈层及上电极。接着,于彩色滤光基板之彩色滤光层上方形成像素电极,像素电极系电性连接源/汲极其中之一与下电极。以背后曝光的方式将覆盖于源/汲极、闸极、上电极与下电极上之保护层图案形成于彩色滤光基板上。接着,于彩色滤光基板上方形成与该彩色滤光基板平行且具有共通电极之上基板。于上基板与彩色滤光基板之间注入液晶。