专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TWI670286B 團聯共聚物、分散劑及顏料分散組成物有权
简体标题：团联共聚物、分散剂及颜料分散组成物
公开(公告)号：TWI670286B
公开(公告)日：2019-09-01
申请号：TW106137279
申请日：2017-10-30
申请人：日商大塚化學股份有限公司 , OTSUKA CHEMICAL CO., LTD.
发明人：清水達彥 , SHIMIZU, TATSUHIKO , 梅本光 , UMEMOTO, HIKARU
IPC分类号： C08F293/00 , C08F6/06 , C09D17/00 , B01F17/52

2. 发明专利

TWI652307B 橡膠組成物、輪胎、二苯基二胺化合物及老化防止劑有权
简体标题：橡胶组成物、轮胎、二苯基二胺化合物及老化防止剂
公开(公告)号：TWI652307B
公开(公告)日：2019-03-01
申请号：TW104116278
申请日：2015-05-21
申请人：日商大塚化學股份有限公司 , OTSUKA CHEMICAL CO., LTD.
发明人：斉木彩 , SAIKI, AYA , 皆嶋英洋 , MINASHIMA, HIDEHIRO , 矢野友三郎 , YANO, YUZABURO , 椎名紀彰 , SHIINA, NORIAKI , 児玉和博 , KODAMA, KAZUHIRO , 植野真布夕 , UENO, MIFUYU , 佐藤崇 , SATO, TAKASHI , 中島慎也 , NAKASHIMA, SHINYA , 阿部正樹 , ABE, MASAKI
IPC分类号： C08L7/00 , C08L9/00 , C08K5/18 , C08K5/20 , B60C1/00 , C07C211/49 , C07C235/72 , C07C235/74 , C07C211/55 , C09K3/00

3. 发明专利

TW201815978A 樹脂組合物、三維列印機用絲及樹脂粉末、與造形物及其製造方法审中-公开
简体标题：树脂组合物、三维打印机用丝及树脂粉末、与造形物及其制造方法
公开(公告)号：TW201815978A
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：TW106129297
申请日：2017-08-29
申请人：日商大塚化學股份有限公司 , OTSUKA CHEMICAL CO., LTD.
发明人：稲田幸輔 , INADA, KOUSUKE , 岡田政五郎 , OKADA, MASAGORO , 寶田彰 , TAKARADA, AKIRA
IPC分类号： C08L101/00 , C08K7/04 , B29C64/118 , B29C67/00 , B33Y70/00 , B33Y80/00 , B33Y10/00
摘要：本發明提供一種樹脂組合物、三維列印機用絲及樹脂粉末、與造形物及其製造方法，上述樹脂組合物係製造容易，且可於使用三維列印機之造形中，改善造形物之層間剝離、造形物之翹曲、收縮。本發明之樹脂組合物之特徵在於其係含有平均纖維長為1 μm～300 μm且平均縱橫比為3～200之無機纖維、及熱塑性樹脂者，且為三維列印機用造形材料。
简体摘要：本发明提供一种树脂组合物、三维打印机用丝及树脂粉末、与造形物及其制造方法，上述树脂组合物系制造容易，且可于使用三维打印机之造形中，改善造形物之层间剥离、造形物之翘曲、收缩。本发明之树脂组合物之特征在于其系含有平均纤维长为1 μm～300 μm且平均纵横比为3～200之无机纤维、及热塑性树脂者，且为三维打印机用造形材料。

4. 发明专利

TW201714904A 光反射體材料、光反射體以及照明器具审中-公开
简体标题：光反射体材料、光反射体以及照明器具
公开(公告)号：TW201714904A
公开(公告)日：2017-05-01
申请号：TW105116221
申请日：2016-05-25
申请人：福道股份有限公司 , FUDOW COMPANY LIMITED , 大塚化學股份有限公司 , OTSUKA CHEMICAL CO., LTD.
发明人：原田健司 , HARADA, KENJI , 高田貴文 , TAKADA, TAKAFUMI , 水口礼子 , MIZUGUCHI, AYAKO
IPC分类号： C08F283/01 , F21V7/22 , G02B5/08 , H01L33/60
CPC分类号： C08F283/01 , F21V7/22 , G02B5/08 , H01L33/60
摘要：本發明係提供：翹曲與縮痕少、尺寸精度高、耐熱性‧耐光性‧耐候性均優異(因熱‧光造成的變色小)、耐衝擊性亦優異、且加工性優異的光反射體材料。本發明的光反射體材料係光反射體材料，其中，上述材料係至少含有熱硬化性樹脂與白色系顏料；上述熱硬化性樹脂係至少使用非結晶性不飽和聚酯樹脂、與酞酸二烯丙酯及/或異酞酸二烯丙酯構成；且50/50(質量比)≦(上述酞酸二烯丙酯及/或異酞酸二烯丙酯)/(上述非結晶性不飽和聚酯樹脂)。
简体摘要：本发明系提供：翘曲与缩痕少、尺寸精度高、耐热性‧耐光性‧耐候性均优异(因热‧光造成的变色小)、耐冲击性亦优异、且加工性优异的光反射体材料。本发明的光反射体材料系光反射体材料，其中，上述材料系至少含有热硬化性树脂与白色系颜料；上述热硬化性树脂系至少使用非结晶性不饱和聚酯树脂、与酞酸二烯丙酯及/或异酞酸二烯丙酯构成；且50/50(质量比)≦(上述酞酸二烯丙酯及/或异酞酸二烯丙酯)/(上述非结晶性不饱和聚酯树脂)。

5. 发明专利

TW201400494A 寡糖化合物之製造方法审中-公开
简体标题：寡糖化合物之制造方法
公开(公告)号：TW201400494A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：TW102110255
申请日：2013-03-22
申请人：大塚製藥股份有限公司 , OTSUKA PHARMACEUTICAL CO., LTD. , 大塚化學股份有限公司 , OTSUKA CHEMICAL CO., LTD.
发明人：後藤文孝 , GOTO, FUMITAKA , 友安崇浩 , TOMOYASU, TAKAHIRO , 岡崎宏紀 , OKAZAKI, HIROKI , 湯淺宏昭 , YUASA, HIROAKI , 落合洋文 , OCHIAI, HIROFUMI , 赤木博 , AKAGI, HIROSHI , 佐藤雄大 , SATO, YUTA , 空處弘一 , SORAJO, KOICHI
IPC分类号： C07H1/00 , C07H5/04 , C07H13/00
CPC分类号： C07H15/12 , C07H19/04 , Y02P20/55
摘要：本發明之課題在於提供一種可製造經保護之硫酸化寡糖且泛用性甚高之寡糖製造方法，且該經保護之硫酸化寡糖可成為多硫酸化玻尿酸之製造中間產物。亦即，藉由使用經特定保護基保護之糖予體，即使對於具有電子吸引基之糖受體，諸如葡萄糖醛酸及具有經保護硫酸基之糖受體，仍可使葡萄糖胺或半乳胺糖等中之2位胺基發生反應。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种可制造经保护之硫酸化寡糖且泛用性甚高之寡糖制造方法，且该经保护之硫酸化寡糖可成为多硫酸化玻尿酸之制造中间产物。亦即，借由使用经特定保护基保护之糖予体，即使对于具有电子吸引基之糖受体，诸如葡萄糖醛酸及具有经保护硫酸基之糖受体，仍可使葡萄糖胺或半乳胺糖等中之2位胺基发生反应。

6. 发明专利

TWI391377B 神經鞘胺醇化合物、其製造方法及神經鞘磷脂酶抑制劑失效
简体标题：神经鞘胺醇化合物、其制造方法及神经鞘磷脂酶抑制剂
公开(公告)号：TWI391377B
公开(公告)日：2013-04-01
申请号：TW097108119
申请日：2008-03-07
申请人：大塚化學股份有限公司 , OTSUKA CHEMICAL CO., LTD.
发明人：西澤麦夫 , NISHIZAWA, MUGIO , 今川洋 , IMAGAWA, HIROSHI , 櫻井純 , SAKURAI, JUN , 小田真隆 , ODA, MASATAKA
IPC分类号： C07D213/22 , C07C233/16 , A61K31/44 , A61K31/164
CPC分类号： C07D213/22

7. 发明专利

TW201249862A 具有唾液酸糖鏈的糖肽之製造方法、使用於該製造方法的唾液酸糖鏈加成胺基酸衍生物、及該糖肽审中-公开
简体标题：具有唾液酸糖链的糖肽之制造方法、使用于该制造方法的唾液酸糖链加成氨基酸衍生物、及该糖肽
公开(公告)号：TW201249862A
公开(公告)日：2012-12-16
申请号：TW101108125
申请日：2012-03-09
申请人：大塚化學股份有限公司
发明人：梶原康弘 , 村上真淑 , 石井一之
IPC分类号： C07K , C07H
CPC分类号： C07K14/001 , C07H1/00 , C07K1/006 , C07K1/068
摘要：本發明為提供藉由Boc固相合成法合成糖肽時，位於糖鏈之非還原末端的唾液酸不會分解下，可在高產率下得到目的之具有唾液酸糖鏈的糖肽之製造方法。本發明技術特徵在於Boc固相合成法中將使用的Boc-唾液酸糖鏈加成胺基酸衍生物成為糖鏈之非還原末端的唾液酸之羧基以苯甲醯甲基保護者。
简体摘要：本发明为提供借由Boc固相合成法合成糖肽时，位于糖链之非还原末端的唾液酸不会分解下，可在高产率下得到目的之具有唾液酸糖链的糖肽之制造方法。本发明技术特征在于Boc固相合成法中将使用的Boc-唾液酸糖链加成氨基酸衍生物成为糖链之非还原末端的唾液酸之羧基以苯甲酰甲基保护者。

8. 发明专利

TWI376707B 電解液用添加劑及電解液 ADDITIVE FOR ELECTROLYTE SOLUTION AND ELECTROLYTE SOLUTION 有权
简体标题：电解液用添加剂及电解液 ADDITIVE FOR ELECTROLYTE SOLUTION AND ELECTROLYTE SOLUTION
公开(公告)号：TWI376707B
公开(公告)日：2012-11-11
申请号：TW096123667
申请日：2007-06-29
申请人：大塚化學股份有限公司
发明人：岡昭範 , 志摩博昭 , 引田章二 , 阿部吉伸 , 鍋島亮浩 , 上谷昌稔
IPC分类号： H01G
CPC分类号： H01G9/038 , H01G11/64 , H01M10/05 , H01M10/0567 , Y02E60/13
摘要：本發明係提供如式(1)所示之電解液用添加劑及含有該添加劑之電解液：
(1)
〔A表示-CH(X)-、-C=C(X)-，X表示氫、鹵素、碳數1至4之烷基、碳數2至5之烷氧羰基、苯甲醯基、碳數3至9之烷氧羰基烷基，Q1、Q2可相同或相異，表示碳數1至6之烷基、碳數1至4之烷氧基、碳數3至9之烷氧羰基烷基、具有碳數1至4之烷基做為取代基之胺基，且A、Q1及Q2亦可構成環狀結構〕。
简体摘要：本发明系提供如式(1)所示之电解液用添加剂及含有该添加剂之电解液： (1) 〔A表示-CH(X)-、-C=C(X)-，X表示氢、卤素、碳数1至4之烷基、碳数2至5之烷氧羰基、苯甲酰基、碳数3至9之烷氧羰基烷基，Q1、Q2可相同或相异，表示碳数1至6之烷基、碳数1至4之烷氧基、碳数3至9之烷氧羰基烷基、具有碳数1至4之烷基做为取代基之胺基，且A、Q1及Q2亦可构成环状结构〕。

9. 发明专利

TWI370805B 鈦酸膜被覆樹脂基板之製造方法 METHOD FOR PRODUCING A SUBSTRATE COATING WITH A TITANIC ACID FILM 失效
简体标题：钛酸膜被覆树脂基板之制造方法 METHOD FOR PRODUCING A SUBSTRATE COATING WITH A TITANIC ACID FILM
公开(公告)号：TWI370805B
公开(公告)日：2012-08-21
申请号：TW095103423
申请日：2006-01-27
申请人：大塚化學股份有限公司
发明人：山本實 , 鈴木大助
IPC分类号： C01G , B32B
CPC分类号： C09C1/3653 , C01P2002/22 , C01P2004/54
摘要：本發明係有關得到透明性、表面硬度、氣體阻隔性等俱優之無機被膜，對各種類之樹脂基板可以形成密著性良好之鈦酸膜被覆樹脂基板之製造方法。
本發明之特徵是將層狀鈦酸鹽以酸或溫水處理，接著使具層間膨潤作用之鹼性化合物起作用，將層間膨潤或剝離所得之薄片狀鈦酸懸濁液塗佈在樹脂基板上，藉由在未達該樹脂基板之軟化點溫度，較佳是在未達100℃之溫度，施以熱處理，以便在樹脂基板上形成鈦酸膜。
简体摘要：本发明系有关得到透明性、表面硬度、气体阻隔性等俱优之无机被膜，对各种类之树脂基板可以形成密着性良好之钛酸膜被覆树脂基板之制造方法。本发明之特征是将层状钛酸盐以酸或温水处理，接着使具层间膨润作用之碱性化合物起作用，将层间膨润或剥离所得之薄片状钛酸悬浊液涂布在树脂基板上，借由在未达该树脂基板之软化点温度，较佳是在未达100℃之温度，施以热处理，以便在树脂基板上形成钛酸膜。

10. 发明专利

TWI364424B 青黴烷化合物之製造方法有权
简体标题：青霉烷化合物之制造方法
公开(公告)号：TWI364424B
公开(公告)日：2012-05-21
申请号：TW094137673
申请日：2005-10-27
申请人：大塚化學股份有限公司
发明人：和田功 , 德丸祥久 , 島林昭裕
IPC分类号： C07D
CPC分类号： C07D499/00
摘要：本發明目的是提供可明顯抑制不適宜之頭孢唑肟中間體化合物之副生成、且有效率製造作為目的之2 α-甲基-2 β-[(1,2,3-三唑-1-基)甲基]青黴烷-3 α-羧酸酯之工業上有利的方法。
本發明係使2 β-溴甲基-2 α-甲基青黴烷-3 α-羧酸二苯甲基酯(BMPB)與1,2,3-三唑在-5℃以下於鹵化烴中反應。藉由在-5℃以下反應，可明顯抑制不適宜之頭孢唑肟中間體化合物之副生成，有效製造作為目的之2 α-甲基-2 β-[(1,2,3-三唑-1-基)甲基]青黴烷-3 α-羧酸二苯甲基酯(TMPB)。
简体摘要：本发明目的是提供可明显抑制不适宜之头孢唑肟中间体化合物之副生成、且有效率制造作为目的之2 α-甲基-2 β-[(1,2,3-三唑-1-基)甲基]青霉烷-3 α-羧酸酯之工业上有利的方法。本发明系使2 β-溴甲基-2 α-甲基青霉烷-3 α-羧酸二苯甲基酯(BMPB)与1,2,3-三唑在-5℃以下于卤化烃中反应。借由在-5℃以下反应，可明显抑制不适宜之头孢唑肟中间体化合物之副生成，有效制造作为目的之2 α-甲基-2 β-[(1,2,3-三唑-1-基)甲基]青霉烷-3 α-羧酸二苯甲基酯(TMPB)。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式