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1. 发明专利

TW201216847A 有害生物防除劑审中-公开
简体标题：有害生物防除剂
公开(公告)号：TW201216847A
公开(公告)日：2012-05-01
申请号：TW100124062
申请日：2011-07-07
申请人：明治製菓藥業股份有限公司 , 國立大學法人岐阜大學
发明人：利部伸三 , 三富正明 , 橘田繁輝 , 野村昌弘 , 中村哲 , 山本一美
IPC分类号： A01N
CPC分类号： A01N43/78 , A01N47/18 , A01N47/22 , A01N47/36 , C07D277/20 , C07D277/32 , C07D401/04 , C07D401/14 , C07D417/06 , C07D417/14
摘要：本發明係提供使用至少一種下述化學式(I)所示之亞胺衍生物的有害生物防除劑。
简体摘要：本发明系提供使用至少一种下述化学式(I)所示之亚胺衍生物的有害生物防除剂。

2. 发明专利

TW200700139A 排氣用乾式同時脫硫脫硝裝置审中-公开
简体标题：排气用干式同时脱硫脱硝设备
公开(公告)号：TW200700139A
公开(公告)日：2007-01-01
申请号：TW095114249
申请日：2006-04-21
申请人：國立大學法人岐阜大學 GIFU UNIVERSITY
发明人：神原信志 KAMBARA, SHINJI
IPC分类号： B01D , F23J
CPC分类号： B01D53/32 , B01D2257/302 , B01D2257/404 , B01D2257/406 , B01D2259/818
摘要：本發明提供一種可同時且高效率除去廢氣中的硫氧化物及氮氧化物之小型、價格低廉之排氣用乾式同時脫硫脫硝裝置。本發明之排氣用乾式同時脫硫脫硝裝置30,係利用自由基連鎖反應除去廢氣EG中之硫氧化物及氮氧化物,其特徵在於,係具備:旋轉式脫硝自由基產生機構22,係在由電極對構成之電漿反應器11內使脫硝用原料邊旋轉邊自由基化而產生脫硝自由基RN;以及脫硫自由基產生機構6,係設置於會受到該旋轉式脫硝自由基產生機構22影響之位置,使脫硫用原料自由基化而產生脫硫自由基。
简体摘要：本发明提供一种可同时且高效率除去废气中的硫氧化物及氮氧化物之小型、价格低廉之排气用干式同时脱硫脱硝设备。本发明之排气用干式同时脱硫脱硝设备30,系利用自由基连锁反应除去废气EG中之硫氧化物及氮氧化物,其特征在于,系具备:旋转式脱硝自由基产生机构22,系在由电极对构成之等离子反应器11内使脱硝用原料边旋转边自由基化而产生脱硝自由基RN;以及脱硫自由基产生机构6,系设置于会受到该旋转式脱硝自由基产生机构22影响之位置,使脱硫用原料自由基化而产生脱硫自由基。

3. 发明专利

TW202021617A 用於預測免疫檢查點阻礙藥之有效性之生物標記审中-公开
简体标题：用于预测免疫检查点阻碍药之有效性之生物标记
公开(公告)号：TW202021617A
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：TW108128317
申请日：2019-08-08
申请人：國立大學法人岐阜大學 , GIFU UNIVERSITY , 地方獨立行政法人東京都健康長壽醫療中心 , TOKYO METROPOLITAN GERIATRIC HOSPITAL AND INSTITUTE OF GERONTOLOGY , 日商小野藥品工業股份有限公司 , ONO PHARMACEUTICAL CO., LTD.
发明人：水谷晃輔 , MIZUTANI, KOSUKE , 加藤卓 , KATO, TAKU , 中根慶太 , NAKANE, KEITA , 堀江憲吾 , HORIE, KENGO , 伊藤雅史 , ITO, MASAFUMI , 藤田泰典 , FUJITA, YASUNORI , 川上恭司郎 , KAWAKAMI, KYOJIRO
IPC分类号： A61K39/395 , A61P43/00 , G01N33/574 , A61K45/00 , A61P35/00 , A61P35/02
摘要：本發明之目的在於利用血中PD-1濃度作為用於預測免疫檢查點阻礙物質對癌之治療效果、評估癌之進展度、或預測癌之復發風險的生物標記。本發明之癌之進展抑制、復發抑制及/或治療劑之特徵在於：包含免疫檢查點阻礙物質作為有效成分，對血中存在之PD-1之濃度未達預先規定之臨界值之癌患者進行投予。
简体摘要：本发明之目的在于利用血中PD-1浓度作为用于预测免疫检查点阻碍物质对癌之治疗效果、评估癌之进展度、或预测癌之复发风险的生物标记。本发明之癌之进展抑制、复发抑制及/或治疗剂之特征在于：包含免疫检查点阻碍物质作为有效成分，对血中存在之PD-1之浓度未达预先规定之临界值之癌患者进行投予。

4. 发明专利

TWI690485B 氫精製裝置及氫精製方法有权
简体标题：氢精制设备及氢精制方法
公开(公告)号：TWI690485B
公开(公告)日：2020-04-11
申请号：TW108109034
申请日：2019-03-18
申请人：國立大學法人岐阜大學 , GIFU UNIVERSITY , 日商澤藤電機股份有限公司 , SAWAFUJI ELECTRIC CO., LTD.
发明人：神原信志 , KAMBARA, SHINJI , 三浦友規 , MIURA, TOMONORI , 早川幸男 , HAYAKAWA, YUKIO
IPC分类号： C01B3/04 , C01B3/56 , B01J19/12 , H01J37/32

5. 发明专利

TW201422595A 氧化還原對及使用其之光電轉換元件审中-公开
简体标题：氧化还原对及使用其之光电转换组件
公开(公告)号：TW201422595A
公开(公告)日：2014-06-16
申请号：TW102137911
申请日：2013-10-21
申请人：國立大學法人岐阜大學 , GIFU UNIVERSITY , 第一工業製藥股份有限公司 , DAI-ICHI KOGYO SEIYAKU CO., LTD.
发明人：齊藤恭輝 , SAITO, YASUTERU , 日比野溫彥 , HIBINO, ATSUHIKO , 船曳一正 , FUNABIKI, KAZUMASA
IPC分类号： C07D257/04 , C07D403/12 , C07F1/00 , H01L31/04 , H01M14/00 , H01G9/20
CPC分类号： C07D207/06 , C07D233/58 , C07D257/04 , H01G9/2018 , H01G9/2031 , H01G9/2059 , Y02E10/542
摘要：本發明之課題在於提供一種高性能的氧化還原對及使用此氧化還原對之實用性高的光電轉換元件，其中該氧化還原對不會如碘類氧化還原對般，對可見光區域具有強吸收性，且容易密封。本發明之解決手段則是使用由下述通式(1)所示之化合物與通式(2)所示之化合物所構成之氧化還原對。但，通式(1)中，A為鋰、鉀或鈉，或者銨化合物、咪唑鎓化合物，或者是吡咯啶鎓化合物。通式(1)及通式(2)中之R1為碳數4~8之直鏈烷基，且令複數R1為彼此相同者、或者是一部分或全部不同者。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种高性能的氧化还原对及使用此氧化还原对之实用性高的光电转换组件，其中该氧化还原对不会如碘类氧化还原对般，对可见光区域具有强吸收性，且容易密封。本发明之解决手段则是使用由下述通式(1)所示之化合物与通式(2)所示之化合物所构成之氧化还原对。但，通式(1)中，A为锂、钾或钠，或者铵化合物、咪唑鎓化合物，或者是吡咯啶鎓化合物。通式(1)及通式(2)中之R1为碳数4~8之直链烷基，且令复数R1为彼此相同者、或者是一部分或全部不同者。

6. 发明专利

TW200540477A 光波導裝置 OPTICAL WAVEGUIDE DEVICE 审中-公开
简体标题：光波导设备 OPTICAL WAVEGUIDE DEVICE
公开(公告)号：TW200540477A
公开(公告)日：2005-12-16
申请号：TW094119228
申请日：2005-06-10
申请人：國立大學法人岐阜大學 GIFU UNIVERSITY
发明人：田中嘉津夫 TANAKA, KAZUO , 田中雅宏 TANAKA, MASAHIRO
IPC分类号： G01Q , G02B
CPC分类号： G01Q60/22 , G02B6/262 , Y10S977/862
摘要：光射入貫穿由電漿子活性介質即銀(Ag)所構成的裝置本體12中的光波導路14。在光波導路14(包含微小開口16)的界定面55，產生表面電漿子(plasmon)。而光波導路14內傳送光的強度，隨著光向微小開口16傳送而變強。此外，因為第一凸片13a的前端51比起第二凸片13b的前端52較為突出，在凸部13的前端部，根據前端部電場的強度分布，光會集中在第一凸片13a附近。因此，在偏光方向能抑制從微小開口16滲出的光的範圍。這麼一來，既不會導致光的範圍增大，維持良好的S／N比，又能以低成本增強經由光波導路14傳送光的光強度。
简体摘要：光射入贯穿由等离子子活性介质即银(Ag)所构成的设备本体12中的光波导路14。在光波导路14(包含微小开口16)的界定面55，产生表面等离子子(plasmon)。而光波导路14内发送光的强度，随着光向微小开口16发送而变强。此外，因为第一凸片13a的前端51比起第二凸片13b的前端52较为突出，在凸部13的前端部，根据前端部电场的强度分布，光会集中在第一凸片13a附近。因此，在偏光方向能抑制从微小开口16渗出的光的范围。这么一来，既不会导致光的范围增大，维持良好的S／N比，又能以低成本增强经由光波导路14发送光的光强度。

7. 发明专利

TW201240991A 具有七甲川（ＨＥＰＴＡＭＥＴＨＩＮＥ）構造之化合物、增感色素及光電轉換元件审中-公开
简体标题：具有七甲川（ＨＥＰＴＡＭＥＴＨＩＮＥ）构造之化合物、增感色素及光电转换组件
公开(公告)号：TW201240991A
公开(公告)日：2012-10-16
申请号：TW101106714
申请日：2012-03-01
申请人：國立大學法人岐阜大學 , 第一工業製藥股份有限公司
发明人：齊藤恭輝 , 船曳一正 , 日比野溫彥 , 田中渚
IPC分类号： C07D , C09B , H01M , H01L
CPC分类号： C07D209/14 , C09B23/0066 , C09B23/086 , H01G9/2059 , H01L51/0064 , Y02E10/542 , Y02E10/549
摘要：本發明係提供一種可使用為光電轉換元件增感色素之具有以下述式(1)表示之七甲川構造的化合物，及將其用作增感色素以解決以往之技術課題的光電轉換元件。在式(1)中，R 1 及R 2 係表示氫原子、烷基或芳基，R 3 ~R 6 係表示碳數1~12之烷基，X係表示鹵素原子，Y係表示一價之陰離子，Z係在R 3 ~R 6 的碳數為1~5的情況下表示烷基、烷氧基或芳基，在R 3 ~R 6 的碳數為6~5的情況下表示氫原子、烷基、烷氧基或芳基，m及n係為1~12的整數。
简体摘要：本发明系提供一种可使用为光电转换组件增感色素之具有以下述式(1)表示之七甲川构造的化合物，及将其用作增感色素以解决以往之技术课题的光电转换组件。在式(1)中，R 1 及R 2 系表示氢原子、烷基或芳基，R 3 ~R 6 系表示碳数1~12之烷基，X系表示卤素原子，Y系表示一价之阴离子，Z系在R 3 ~R 6 的碳数为1~5的情况下表示烷基、烷氧基或芳基，在R 3 ~R 6 的碳数为6~5的情况下表示氢原子、烷基、烷氧基或芳基，m及n系为1~12的整数。

8. 发明专利

TW201348234A 以咪唑并［１，５－ａ］吡啶衍生物為配位基之錯合物审中-公开
简体标题：以咪唑并［１，５－ａ］吡啶衍生物为配位基之错合物
公开(公告)号：TW201348234A
公开(公告)日：2013-12-01
申请号：TW102109367
申请日：2013-03-15
申请人：國立大學法人岐阜大學 , GIFU UNIVERSITY
发明人：村井利昭 , MURAI, TOSHIAKI
IPC分类号： C07D471/04 , C07F15/00
CPC分类号： C07D471/04 , B01J31/2243 , B01J2531/822 , C07F15/0033 , C09K11/06 , C09K2211/1007 , C09K2211/1011 , C09K2211/1029 , C09K2211/1044 , H01L51/008 , H01L51/0084 , H01L51/0085 , H01L51/5012 , H05B33/14
摘要：本發明係關於一種以咪唑并[1,5-a]吡啶衍生物為配位基之錯合物、其合成方法及該錯合物之用途，上述錯合物之特徵在於由通式(I)表示。該錯合物可由容易獲取之原料藉由簡略化之製造方法而獲得。
简体摘要：本发明系关于一种以咪唑并[1,5-a]吡啶衍生物为配位基之错合物、其合成方法及该错合物之用途，上述错合物之特征在于由通式(I)表示。该错合物可由容易获取之原料借由简略化之制造方法而获得。

9. 发明专利

TW201135214A 氫含有率取得裝置及氫含有率取得方法 HYDROGEN CONTENT PERCENTAGE OBTAINING APPARATUS AND HYDROGEN CONTENT PERCENTAGE OBTAINING METHOD 审中-公开
简体标题：氢含有率取得设备及氢含有率取得方法 HYDROGEN CONTENT PERCENTAGE OBTAINING APPARATUS AND HYDROGEN CONTENT PERCENTAGE OBTAINING METHOD
公开(公告)号：TW201135214A
公开(公告)日：2011-10-16
申请号：TW100105963
申请日：2011-02-23
申请人：大日本網屏製造股份有限公司 , 國立大學法人岐阜大學
发明人：山口真二 , 杉本克雄 , 藤原裕之
IPC分类号： G01N
CPC分类号： G01N21/211 , G01B11/065 , G01N21/8422 , G01N21/9501 , G01N2021/213 , G01N2021/3568 , H01L31/1804 , Y02E10/547 , Y02P70/521
摘要：於氫含有率取得裝置(1)中，預先生成且記憶有將既定之參數組之值與矽膜中所包含的SiH之含有率及SiH2之含有率建立關聯的參照資訊。本發明之氫含有率取得裝置(1)藉由以分光橢圓偏光計(3)對玻璃基板(9)上之矽膜進行測定而取得測定光譜，於電腦(6)中根據該測定光譜而求出該參數組之值。然後，基於參數組之值及參照資訊，高精度地求出SiH之含有率及SiH2之含有率之值。
简体摘要：于氢含有率取得设备(1)中，预先生成且记忆有将既定之参数组之值与硅膜中所包含的SiH之含有率及SiH2之含有率创建关联的参照信息。本发明之氢含有率取得设备(1)借由以分光椭圆偏光计(3)对玻璃基板(9)上之硅膜进行测定而取得测定光谱，于电脑(6)中根据该测定光谱而求出该参数组之值。然后，基于参数组之值及参照信息，高精度地求出SiH之含有率及SiH2之含有率之值。

10. 发明专利

TW201129561A 亞胺基衍生物及其製造方法、及含有其之殺蟲劑 IMINO DERIVATIVES AND METHODS FOR PRODUCING THE SAME, AND INSECTICIDES CONTAINING THE SAME 审中-公开
简体标题：亚胺基衍生物及其制造方法、及含有其之杀虫剂 IMINO DERIVATIVES AND METHODS FOR PRODUCING THE SAME, AND INSECTICIDES CONTAINING THE SAME
公开(公告)号：TW201129561A
公开(公告)日：2011-09-01
申请号：TW100100195
申请日：2011-01-04
申请人：國立大學法人岐阜大學 , 明治製菓股份有限公司
发明人：利部伸三 , 熊澤智 , 渡邊積 , 三宅泰司 , 野村昌弘 , 中村哲 , 三富正明
IPC分类号： C07D , A01N
CPC分类号： C07D417/06 , A01N43/78 , C07D417/14
摘要：本發明提供一種可製得具有持續效果或寬廣之光譜等優良特性之殺蟲性化合物的新穎之亞胺基衍生物。提供下述通式(A)所表示之亞胺基衍生物。
(式中，「Ar」表示環上可具有取代基之雜環基，「X」表示硫原子或CH2、NR。「R」表示氫原子或烷基。「Ya」為由「C(=S)NR1R2」、「C(=S)SR3」、「C(=O)SR4」、「C(=S)OR4」、「SO2Zα」，或「OZβ」所選出。「R1」~「R4」、「Zα」，及「Zβ」表示氫原子或特定之取代基。
简体摘要：本发明提供一种可制得具有持续效果或宽广之光谱等优良特性之杀虫性化合物的新颖之亚胺基衍生物。提供下述通式(A)所表示之亚胺基衍生物。 (式中，“Ar”表示环上可具有取代基之杂环基，“X”表示硫原子或CH2、NR。“R”表示氢原子或烷基。“Ya”为由“C(=S)NR1R2”、“C(=S)SR3”、“C(=O)SR4”、“C(=S)OR4”、“SO2Zα”，或“OZβ”所选出。“R1”~“R4”、“Zα”，及“Zβ”表示氢原子或特定之取代基。

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