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    • 7. 发明专利
    • パターンベースの電源グランド(PG)ルーティングおよびビア生成
    • 基于模式的电源地(PG)路由和通孔产生
    • JP2016507817A
    • 2016-03-10
    • JP2015550795
    • 2013-12-27
    • シノプシス, インコーポレイテッドSyn0Psys, Inc.シノプシス, インコーポレイテッドSyn0Psys, Inc.
    • リン,ヤンジャン,イ−ミンタイ,フィリップ・エイチユエン,リン
    • G06F17/50
    • G06F17/5077
    • パターンベースの電源グランド(PG)ルーティングと、ビア生成に基づいたビアルールとのためのシステムおよび技術が説明される。PG配線をルーティングするためのパターンが受け付けられ得る。次に、インスタンス化計画が受け付けられ得、当該インスタンス化計画は、当該パターンに基づいてPG配線がインスタンス化される集積回路(IC)設計レイアウトのエリアを規定し、当該インスタンス化されたPG配線に割り当てられる1つ以上のネット識別子を規定する。当該PG配線は、当該パターンおよび当該インスタンス化計画に基づいてIC設計レイアウトにおいてインスタンス化され得る。さらに、ビアルールのセットが受け付けられ得、各ビアルールは、2つの異なる金属層にある2つのPG配線の交点でインスタンス化されるビアのタイプを規定する。次に、1つ以上のビアが、当該ビアルールのセットに基づくIC設計レイアウトにおいてインスタンス化され得る。
    • 和基于模式的电源地(PG)路由的基础上,通过生成用于Biaruru系统和技术进行说明。 图案用于路由PG布线可以被接受。 然后,将所得实例计划被接受时,实例化计划,PG线限定的集成电路的面积(IC)设计布局,其基于模式实例化,所述实例化的PG导线 定义分配的一个或多个网标识符。 在PG布线可以在基于模式和实例化计划的IC设计的布局被实例化。 此外,以获得一组Biaruru的被接受时,每个Biaruru限定通孔的类型是在两个PG导线在两个不同的金属层中的交叉点被实例化。 然后,一个或多个通孔可在基于一组的Biaruru的IC设计的布局被实例化。