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    • 2. 发明申请
    • 微細化パターン形成用水溶性樹脂組成物およびこれを用いた微細パターン形成方法
    • 用于形成微波炉的水溶性树脂组合物及其形成微波炉的方法
    • WO2008136499A1
    • 2008-11-13
    • PCT/JP2008/058341
    • 2008-05-01
    • AZエレクトロニックマテリアルズ株式会社洪 聖恩高野 祐輔カン ウェンビン
    • 洪 聖恩高野 祐輔カン ウェンビン
    • G03F7/40H01L21/027
    • H01L21/0271G03F7/40H01L21/3085H01L21/3086H01L21/3088
    •  下地基板1上に設けられたレジストパターン2上に、水溶性ビニル樹脂、分子内に少なくとも2個のアミノ基を有する化合物、溶剤および必要に応じ界面活性剤などの添加剤からなる水溶性樹脂組成物を塗布して水溶性樹脂膜3を形成した後、ミキシングによりレジストパターンに隣接する前記水溶性樹脂膜を変性させることによって、レジストパターン表面に水洗で除去出来ない水不溶化層4を形成し、次いで前記水溶性樹脂膜の未変性部を水洗除去することにより、レジストパターンの分離サイズまたはホール開口サイズを実効的に露光波長の限界解像以下に微細化する。水溶性ビニル樹脂としては、窒素原子を含有するビニルモノマー、例えばアリルアミン、アクリルアミド、ビニルピロリドン、ビニルイミダゾールなどの単一重合体、窒素原子を含有するビニルモノマーの2種以上からなる共重合体、または窒素原子を含有するビニルモノマーの少なくとも1種と窒素原子を含有しないビニルモノマーの少なくとも1種からなる共重合体が好ましい。
    • 一种方法,其包括将包含水溶性乙烯基树脂的水溶性树脂组合物,分子中具有至少两个氨基的化合物,溶剂和必要时在抗蚀图案上添加表面活性剂等添加剂 2)形成在基板(1)上以形成水溶性树脂膜(3),通过混合将与抗蚀剂图案相邻的水溶性树脂膜的一部分进行改性以形成水不溶性层(4) 通过在抗蚀剂图案的表面上进行水洗除去,并且通过水洗除去未改性的水溶性树脂膜的部分,并且能够将抗蚀剂图案的分离尺寸和开孔尺寸有效地缩小到比 曝光波长的分辨率极限。 作为水溶性乙烯基树脂,优选使用丙烯酰胺,丙烯酰胺,乙烯基吡咯烷酮或乙烯基咪唑等含氮乙烯基单体的均聚物,两种以上含氮乙烯基单体的共聚物或至少一种 含氮乙烯基单体和至少一种无氮乙烯基单体。