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    • 1. 发明专利
    • 圧力ゲイン燃焼装置及び方法
    • 压力增益燃烧设备和方法
    • JP2016503482A
    • 2016-02-04
    • JP2015540975
    • 2013-11-07
    • エクスポネンシャル テクノロジーズ,インコーポレイテッドExponential Technologies,Inc.エクスポネンシャル テクノロジーズ,インコーポレイテッドExponential Technologies,Inc.
    • アレハンドロ フアンアレハンドロ フアン
    • F23C7/02F02C5/11F23D14/24F23R7/00
    • F23C3/006F23C3/00F23C15/00F23R7/00
    • 圧力ゲイン燃焼器は、デトネーションチャンバと、予燃焼チャンバと、酸化剤渦流発生器と、膨張−偏向(E−D)ノズルと、点火源とを含む。デトネーションチャンバは、上流吸入端部と下流放出端部を有し、超音速燃焼事象がそれを通って伝播することを可能にするように構成される。予燃焼チャンバは、デトネーションチャンバ吸入端部と流体連通している下流端と、燃料送出経路と連通している上流端と、上流端と下流端の間にあり、かつ環状酸化剤送出経路と連通している環状開口部を有する円周周囲とを有する。酸化剤渦流発生器は、酸化剤送出経路に位置付けられ、かつベーンを含み、ベーンは、それを過ぎて流れる酸化剤が、予燃焼チャンバ内に接線方向に流れ込むようにし、それによって予燃焼チャンバの環状開口部の周りに高渦流速度ゾーン及び中心部分内に低渦流速度ゾーンを生成する。膨張−偏向(E−D)ノズルは、予燃焼チャンバとデトネーションチャンバの間に位置決めされ、これらの間に拡散流路を与える。点火源は、予燃焼チャンバの低渦流速度ゾーンと連通している。この構成は、比較的短い全ランアップDDT距離及び時間を有し、それによって高い作動周波数及び相応に高い燃焼器性能を可能にする。【選択図】図5
    • 压力增益燃烧器,爆震室,预燃室,氧化剂涡流发生器,膨胀 - 包括一个偏转(E-D)的喷嘴,一个点火源。 爆震室具有上游进口端和下游排出端,配置成允许所述超音速燃烧事件通过它传播。 预燃烧室中,与引爆腔入口端流体连通的下游端,以及与所述燃料输送通道,位于上游端和下游端之间的通信的上游端,并与所述环形氧化剂输送路径连通 和具有环形开口你是一个周缘。 氧化剂涡流发生器,位于所述氧化剂输送路径,并且包括叶片,叶片,流过它的氧化剂,流入切向预燃烧室中,从而使预燃烧室 生成Kouzu流速区一个Teiuzu流速区和围绕环形开口的部分的中心。 膨胀 - 挠度(E-D)喷嘴位于预燃室和爆炸腔室之间,在它们之间提供一扩散的通道。 点火源与所述预燃室的低回旋速度区连通。 这种布置具有相对较短的总助跑DDT的距离和时间,从而允许更高的工作频率和相应的高燃烧器性能。 点域5