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热词
    • 1. 发明申请
    • STRICKBEKLEIDUNG
    • WO2019179750A1
    • 2019-09-26
    • PCT/EP2019/055162
    • 2019-03-01
    • OBREZKINA, Anna
    • OBREZKINA, Anna
    • D04B1/24
    • Die Erfindung betrifft eine Strickbekleidung (1) mit dreidimensionaler Textilformung für Körperwölbungen (2, 2', 2"). Bei einer solchen Strickbekleidung (1) soll eine optimale dreidimensionale Textilformung mit großem Volumen erzielt werden, bei der sich das Gestrick auch an große Volumen sauber anpaßt und optische Unterbrechungen des Anschmiegens des Gestricks an den Körper vermieden werden. Dies wird dadurch erreicht, daß die dreidimensionale Textilformung an dem Strickteil (5, 6) mit der Körperwölbung (2, 2', 2") bzw. den Körperwölbungen (2, 2', 2") dadurch erzielt wird, daß im Bereich einer Körperwölbung (2, 2', 2") innerhalb des Strickteils (5, 6), das diese bedeckt, entsprechend der Wölbung über mehrere Strickreihen eine Maschenzunahme auf der Außenseite des vorher aufgrund der Körperabmessungen bestimmten Mittelstücks des Gestricks stattfindet, danach eine Beibehaltung der Maschenzahl und dann eine Maschenabnahme, auch hier auf der Außenseite des vorher bestimmten Mittelstücks des Gestricks, wobei ohne eine temporäre Unterbrechung des Strickvorgangs für einzelne Maschenreihen, wie bei der Zwickel- oder Spickeltechnik, der Strickvorgang fortlaufend weitergeführt wird.
    • 3. 发明申请
    • VERFAHREN UND VORRICHTUNGEN ZUR MODULATION EINES STRAHLS ELEKTRISCH GELADENER TEILCHEN SOWIE ANWENDUNGSBEISPIELE FÜR DIE PRAKTISCHE ANWENDUNG SOLCHER VORRICHTUNGEN
    • 方法和设备的带电粒子与应用电气梁的这种装置的实际应用调制
    • WO2017055349A1
    • 2017-04-06
    • PCT/EP2016/073110
    • 2016-09-28
    • CEOS CORRECTED ELECTRON OPTICAL SYSTEMS GMBHFORSCHUNGSZENTRUM JÜLICH GMBH
    • POPPE, UlrichTHUST , AndreasDUNIN-BORKOWSKI, Rafal
    • H05H9/00H05H9/04
    • H05H9/005H05H9/048
    • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Modulation eines Strahls (1) elektrisch geladener Teilchen, wobei Pulse (46) ausgewählter Teilchen (6) einer vorgegebenen Geschwindigkeit ausgesondert werden, deren Pulsfolge mit der Periodendauer (5') eines Laserlichts (5) oder einem ganzzahligen Vielfachen davon synchron ist, diese Pulse (46) werden einem durch dieses Laserlicht (5) oder durch ein phasenkorreliertes Laserlicht gleicher Frequenz (25) erzeugten evaneszenten elektromagnetischen Feld (23) zugeführt, das die Pulse (46) der ausgewählten Teilchen (6) für den gewünschten Verwendungszweck moduliert. Die Erfindung betrifft weiterhin eine Vorrichtung zur Erzeugung der Pulse (46) ausgewählter Teilchen (6), die durch ein mittels des Lasers (5) erzeugtes evaneszentes elektromagnetisches Feld (2) einer gekrümmten dielektrischen Struktur (4', 4", 4"') mittels Ablenkung und einer die Pulsdauer (6') bestimmenden Blende (7) ausgewählt werden. Die Erfindung betrifft auch eine weitere Vorrichtung (22), die durch das Laserlicht (5, 25) ein evaneszentes elektromagnetisches Feld (23) erzeugt, das die Pulse (46) ausgewählter Teilchen (6) für den jeweiligen Verwendungszweck moduliert.
    • 本发明涉及调节带电粒子束(1)的方法,所述选择的粒子(6)的脉冲(46)是分开的预定速度时,用激光光(5)的周期(5“)或整数倍的脉冲串 这是在同步中,这些脉冲(46)是由该激光的光馈送到(5)或由相同的频率(25)的同相相关性的激光,该瞬态电磁场生成(23),用于将所选择的粒子(6)的脉冲(46) 所需用途调制。 本发明还涉及一种装置,用于产生选择的粒子的脉冲(46)(6),由激光的装置(5)(2)的弯曲的电介质结构中产生的瞬态电磁场(4”,4”,4" ') 通过偏转和脉冲持续时间(6“),其限定膜片(7)的装置被选中。 本发明还涉及通过激光(5,25)的另一装置(22),一瞬态电磁场(23)生成,调制预期用途选择的粒子(6)的脉冲(46)。
    • 9. 发明公开
    • TEILCHENOPTISCHER KORREKTOR FREI VON AXIALEN FEHLERN SECHSTER ORDNUNG UND ELEKTRONENMIKROSKOP MIT KORREKTOR
    • EP3780064A1
    • 2021-02-17
    • EP20186011.1
    • 2020-07-15
    • Ceos Corrected Electron Optical Systems GmbH
    • Uhlemann, Dr., Stephan
    • H01J37/153
    • Die Erfindung betrifft einen teilchenoptischen Korrektor (5) zum Korrigieren von Abbildungsfehlern, wobei der Korrektor (5) ein zentrales Multipolelement (2) der Länge L zur Erzeugung eines Hexapolfeldes ( Ψ HP2 ) in der Symmetrieebene (6) des Korrektors (5) sowie zwei äußere identische Multipolelemente (1, 3) der Länge L 'zur Erzeugung gleich starker Hexapolfelder (ψ HP1 , ψ HP3 ) und zwei Rundlinsendupletts (7 und 8) mit Rundlinsen (7', 7", 8', 8") aufweist.
      Bei einem derartigen Korrektor wird der Dreilappfehler sechster Ordnung (D 6 ) dadurch vermieden, daß die Stärke des zentralen Hexapolfeldes ( Ψ HP2 ) zu den Stärken der beiden gleich starken äußeren Hexapolfelder ( Ψ HP1,3 ) derart gewählt ist, daß der dreizählige axiale Astigmatismus (A 2 ) verschwindet und die Stärken ( Ψ HP1,3 ) letzterer so gewählt sind, daß der Korrektor (5) insgesamt keinen sechszähligen axialen Astigmatismus (A 5 ) hat, daß der Abstand der Multipolelemente (1 und 3) von den der Symmetrieebene (6) weiter entfernten Rundlinsen (7", 8"), deren Brennweite ( f ') zuzüglich eines weiteren Abstands ( Δz ) entspricht, der so gewählt ist, daß für die gegebenen Längen L und L' der axiale Dreilappfehler vierter Ordnung (D 4 ) verschwindet, und daß die Länge ( L ) des zentralen Multipolelements (2) im Verhältnis zu den Längen ( L ') der Multipolelemente (1 und 3) derart gewählt ist, daß der axiale Dreilappfehler sechster Ordnung (D 6 ) - für das vorgegebene Verhältnis (M = f / f' ) der Brennweite ( f ') der zur Symmetrieebene (6) näheren Rundlinsen (7', 8') zu der Brennweite ( f ') der zur Symmetrieebene (6) weiter entfernten Rundlinsen (7", 8") - verschwindet.
    • 10. 发明公开
    • Korrektor
    • 校对
    • EP2466613A3
    • 2014-12-31
    • EP11009523.9
    • 2011-12-02
    • Ceos Corrected Electron Optical Systems GmbH
    • Zach, Joachim, Dr.Uhlemann, Stephan, Dr.
    • H01J37/153H01J37/28
    • H01J37/153H01J2237/1534H01J2237/28H01J2237/2802
    • Die Erfindung betrifft einen Korrektor (10) für die Farb- und Öffnungsfehlerkorrektur bei einem Elektronenmikroskop mit im Strahlengang (7) nacheinander symmetrisch zu einer Symmetrieebene (8) angeordneten sechs Multipolelementen (1, 2, 3, 4, 5, 6), von denen alle zur Erzeugung von Quadrupolfeldern (1', 2', 3', 4', 5', 6') und das dritte (3) und vierte (4) auch zur Erzeugung von Oktupolfeldern (3", 4") dienen, wobei letztere gleichgerichtet und die Quadrupolfelder (1', 2', 3', 4', 5', 6') aller sechs Multipolelemente (1, 2, 3, 4, 5, 6) von einem zum nächsten um 90° gedreht und bezüglich Ihrer Feldstärken punktsymmetrisch zum Schnittpunkt der optischen Achse (11) mit der Symmetrieebene (8) sind, wobei durch das Zusammenwirken der als magnetische und elektrische Felder (3', 4') ausgebildeten Quadrupolfelder (3', 4') des dritten (3) und vierten (4) Multipolelements eine Farbfehlerkorrektur sowie mittels der Quadrupolfelder (1', 2', 3', 4', 5', 6') und der Oktupolfelder (3", 4") eine Öffnungsfehlerkorrektur möglich ist.
      Ein solcher Korrektor (10) wird erfindungsgemäß dadurch gegenüber Schwankungen der elektrischen Energieversorgung unempfindlicher, daß im Quadrupolfeld (1') des ersten Quadrupolelements (1) ein stigmatisches Zwischenbild (9) der axialen Fundamentalbahnen (x α , y β ) entsteht und dieses Quadrupolfeld (1') derart eingestellt ist, daß astigmatische Zwischenbilder (12, 13) der außeraxialen Fundamentalbahnen (x γ , y δ ) im Bereich der Mitte der Quadrupolfelder (3', 4') des dritten (3) und vierten Multipolelements (4) entstehen und dort auch durch die Einstellung des Quadrupolfeldes (2') des zweiten Quadrupolelements (2) die axialen Fundamentalbahnen (x α , y β ) des gleichen Schnitts (x, y), in dem die Zwischenbilder (12, 13) der außeraxialen Fundamentalbahnen (x γ , y δ ) liegen, jeweils ein Maximum aufweisen.