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1. 发明申请

WO2022200210A1 MESSVORRICHTUNG ZUM INTERFEROMETRISCHEN VERMESSEN EINER OBERFLÄCHENFORM 审中-公开
公开(公告)号：WO2022200210A1
公开(公告)日：2022-09-29
申请号：PCT/EP2022/057158
申请日：2022-03-18
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： ENDRES, Martin
IPC分类号： G01B9/02015 , G01B9/02 , G01B11/24 , G01B21/04
摘要： Eine Messvorrichtung (10) zum interferometrischen Vermessen einer Form einer Oberfläche (12) eines Prüflings (14) in Bezug auf eine Referenzform (41) umfasst ein diffraktives optisches Element (30) zum Erzeugen einer Prüfwelle (32) aus einer Messstrahlung (22), wobei eine Wellenfront (42) der Prüfwelle an eine als erste nicht-sphärische Fläche konfigurierte Sollform (43) der Oberfläche (12) des Prüflings (14) angepasst ist, ein Referenzelement (38) mit einer die Referenzform (41) aufweisenden Referenzoberfläche (40), wobei die Referenzform als eine weitere nicht-sphärische Fläche konfiguriert ist, eine erste Halterung (60), welche dazu konfiguriert ist, in einer Messkonfiguration den Prüfling (14) im Strahlengang der Prüfwelle (32) anzuordnen, sowie eine weitere Halterung (62), welche dazu konfiguriert ist, in der Messkonfiguration das Referenzelement (38) im Strahlengang einer Referenzwelle (34) anzuordnen.

2. 发明申请

WO2022023189A1 MESSVORRICHTUNG ZUR INTERFEROMETRISCHEN FORMVERMESSUNG EINER OBERFLÄCHE EINES TESTOBJEKTS 审中-公开
公开(公告)号：WO2022023189A1
公开(公告)日：2022-02-03
申请号：PCT/EP2021/070632
申请日：2021-07-23
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： SCHWAB, Markus , SCHULTE, Stefan
IPC分类号： G01B9/02 , G02B5/00
摘要： Eine Messvorrichtung (10) zur interferometrischen Formvermessung einer Oberfläche (12) eines Testobjekts (14) umfasst einen Strahlteiler (24) zur Aufspaltung einer Eingangsstrahlung (18) in eine Nutzstrahlung (26) sowie eine Vergleichsstrahlung (28), ein Referenzelement (58; 158) zur Erzeugung eines Interferogramms auf einer Detektionsfläche (48) durch Überlagerung eines Teils der Nutzstrahlung (26p) nach Wechselwirkung mit der Oberfläche des Testobjekts mit einer am Referenzelement erzeugten Referenzwelle (62), eine Reflexionseinrichtung (52), welche dazu konfiguriert ist, in einem Vergleichsmodus der Messvorrichtung die Vergleichsstrahlung (28) derart auf den Strahlteiler (24) zurück zu reflektieren, dass diese nach Wechselwirkung mit dem Strahlteiler auf der Detektionsfläche (48) auftrifft, sowie eine Strahlabdunkelungseinrichtung (32), welche dazu konfiguriert ist, die vom Strahlteiler ausgehende Vergleichsstrahlung in einem Messmodus der Messvorrichtung derart zu manipulieren, dass eine Intensität der durch Rückstrahlung auf der Detektionsfläche (48) auftreffenden Vergleichsstrahlung (28d) höchstens 10-9 der Intensität der vom Strahlteiler ausgehenden Vergleichsstrahlung (28) beträgt.

3. 发明申请

WO2021228723A1 VERFAHREN ZUM INTERFEROMETRISCHEN VERMESSEN EINER FORM EINER OBERFLÄCHE 审中-公开
公开(公告)号：WO2021228723A1
公开(公告)日：2021-11-18
申请号：PCT/EP2021/062216
申请日：2021-05-07
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： FUCHS, Sebastian , HETZLER, Jochen , STIEPAN, Hans, Michael
IPC分类号： G01B9/02 , G01B11/24 , G01M11/00 , G01M11/02 , G03F7/20
摘要： Ein Verfahren zum interferometrischen Vermessen einer Form einer Oberfläche (12) eines Testobjekts (14) umfasst die Schritte: Erzeugen einer Prüfwelle (34) sowie mindestens zweier Kalibrierwellen (36-1, 36-2) mittels eines diffraktiven optischen Elements (32) aus einer Eingangswelle (18), wobei die Prüfwelle eine zumindest teilweise an eine Sollform der Oberfläche des Testobjekts angepasste Wellenfront aufweist und die Kalibrierwellen jeweils eine sphärische Wellenfront aufweisen, Bereitstellen einer Kalibriersphäre (52), nacheinander Anordnen der Kalibriersphäre in einem jeweiligen Strahlengang jeder der mindestens zwei Kalibrierwellen (36-1, 36-2) sowie jeweiliges Ermitteln von Kalibrierabweichungen des diffraktiven optischen Elements aus den Kalibrierwellen nach jeweiliger Reflexion an der Kalibriersphäre, sowie interferometrisches Vermessen der Form der Oberfläche des Testobjekts mittels der Prüfwelle unter Berücksichtigung der ermittelten Kalibrierabweichungen.

4. 发明申请

WO2019154793A1 VERFAHREN ZUR VERMESSUNG VON STRUKTUREN AUF EINEM SUBSTRAT FÜR DIE MIKROLITHOGRAPHIE 审中-公开
公开(公告)号：WO2019154793A1
公开(公告)日：2019-08-15
申请号：PCT/EP2019/052742
申请日：2019-02-05
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： CARL, Michael , BAUER, Markus
IPC分类号： G03F7/20 , G01N21/88 , G01B9/02
摘要： Ein Verfahren zur Vermessung von Strukturen auf einem Substrat (12), welches für den Einsatz in der Mikrolithographie konfiguriert ist, wird bereitgestellt. Die Strukturen umfassen eine Mehrzahl von über zumindest einen Abschnitt des Substrats verteilten Strukturelementanordnungen (14) mit jeweils mindestens zwei Strukturelementen (16), bei denen der jeweilige Mitte-zu-Mitte-Abstand zwischen den Strukturelementen an einen Sollabstand angepasst ist. Das Verfahren umfasst ein Aufspalten eines Messstrahls (32) in mindestens zwei, auf eine Oberfläche (13) des Substrats gerichtete Teilstrahlen (38, 40) sowie ein Rekombinieren der Teilstrahlen (38, 40) nach Wechselwirkung mit dem Substrat und Aufzeichnen einer Intensitätsverteilung der rekombinierten Teilstrahlen mittels eines Detektors (46). Die mindestens zwei, auf die Substratoberfläche gerichteten Teilstrahlen werden derart an den Sollabstand angepasst, dass im Sollabstand oder einem Vielfachen des Sollabstandes angeordnete Strukturelemente einander überlagernd auf den Detektor abgebildet werden.

5. 发明申请

WO2012041457A2 PROJECTION EXPOSURE TOOL FOR MICROLITHOGRAPHY AND METHOD FOR MICROLITHOGRAPHIC IMAGING 审中-公开
标题翻译：微刻法投影曝光工具及微刻成像方法
公开(公告)号：WO2012041457A2
公开(公告)日：2012-04-05
申请号：PCT/EP2011/004741
申请日：2011-09-22
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , HETZLER, Jochen , GÖHNERMEIER, Aksel
发明人： HETZLER, Jochen , GÖHNERMEIER, Aksel
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70675 , G01B9/02015 , G01B11/14 , G01B2290/65 , G03F7/70483 , G03F7/70616 , G03F7/70683 , G03F7/70733 , G03F7/7085 , G03F9/7003 , G03F9/7049
摘要： A projection exposure tool (10) for microlithography for imaging mask structures (22) of an image-providing substrate (20) onto a substrate (30) to be structured comprises a measuring apparatus (40) which is configured to determine a relative position of measurement structures (32) disposed on a surface of one of the substrates (20; 30) in relation to one another in at least one lateral direction in respect of the substrate surface and to thereby simultaneously measure a number of measurement structures (32) disposed laterally offset in relation to one another.
摘要翻译：用于将用于将图像提供基板（20）的掩模结构（22）成像到要构造的基板（30）上的用于微光刻的投影曝光工具（10）包括测量装置（40），该测量装置被配置为确定在相对于所述衬底表面的至少一个横向方向上相对于彼此确定布置在所述衬底（20; 30）之一的表面上的测量结构（32）的相对位置，并且由此同时测量测量结构（32）的数量相对于彼此侧向偏置。

6. 发明申请

WO2009021670A1 METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING SCATTERED LIGHT ON AN OPTICAL SYSTEM 审中-公开
标题翻译：用于测量光学系统上的散射光的方法和装置
公开(公告)号：WO2009021670A1
公开(公告)日：2009-02-19
申请号：PCT/EP2008/006498
申请日：2008-08-07
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ARNZ, Michael
发明人： ARNZ, Michael
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70941
摘要： A method of measuring scattered light on an optical system comprises the following steps: providing a first measuring field (22a) and a second measuring field (22b), both measuring fields respectively being either of a first light manipulation type or a second light manipulation type, which first light manipulation type is configured to cause incoming light to enter the optical system and which second light manipulation type is configured to prevent incoming light from entering the optical system, and both measuring fields respectively having a second light manipulation type reference structure (30) and a respective measuring structure, which measuring structures are of the second light manipulation type in the case where the measuring fields are of the first light manipulation type, and are first light manipulation type regions of the measuring fields in the case where the measuring fields are of the second light manipulation type, wherein the measuring structures of the respective measuring fields (22a, 22b) are offset in different directions in relation to the respective reference structure, imaging the first measuring field by means of the optical system into an image plane and measuring a first light intensity produced herewith at a location in the region of the image of the reference structure of the first measuring field, and imaging the second measuring field by means of the optical system into the image plane and measuring a second light intensity produced herewith at a location in the region of the image of the reference structure of the second measuring field.
摘要翻译：测量光学系统上的散射光的方法包括以下步骤：提供第一测量场（22a）和第二测量场（22b），测量场分别是第一光操作型或第二光操作型所述第一光操作型被配置为使得入射光进入所述光学系统，并且所述第二光操作类型被配置为防止入射光进入所述光学系统，并且两个测量场分别具有第二光操作型参考结构（30 ）和各测量结构，在测量场为第一光操作型的情况下，测量结构为第二光操作型，并且在测量场的情况下为测量场的第一光操作型区域是第二光操纵型，其中各自的测量结构相对于各个参考结构，沿着不同的方向偏移测量场（22a，22b），通过光学系统将第一测量场成像到图像平面中，并测量在此处产生的第一光强度第一测量场的参考结构的图像，以及通过光学系统将第二测量场成像到图像平面中，并测量在此处产生的第二光强度，该第二光强度在参考结构的图像的区域中的位置处第二个测量领域。

7. 发明申请

WO2022038163A1 CONTROL DEVICE FOR CONTROLLING MANIPULATORS FOR A PROJECTION LENS 审中-公开
公开(公告)号：WO2022038163A1
公开(公告)日：2022-02-24
申请号：PCT/EP2021/072876
申请日：2021-08-18
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： SCHLEMMER, Maximilian , RIST, Stefan
IPC分类号： G03F7/20
摘要： ZE7150WO – 2020P00299WO 33 Abstract Control device for controlling manipulators for a projection lens A control device (14) for controlling manipulators (M1-M4, 36) for changing an op-5 tical behaviour of a microlithographic projection lens (16) by generating respective stipulations (38) for a plurality of travel variables which define manipulations, to be undertaken by means of the manipulators, of at least one optical element (E1-E4) of the projection lens for the purposes of changing state parameters (34) of the projection lens is provided. The control device is configured to generate a respec-10 tive approximation (38-1) of the stipulations for the travel variables by optimizing a uniform scaling factor (86) using a first optimization algorithm (74), said scaling factor, in constraints (82) of the first optimization algorithm, defining a uniform scaling of limits (84) specified for the individual state parameters, and to ascertain a respective final result (38) of the stipulations for the travel variables by means of 15 at least one further optimization algorithm (76, 78) in the case where an optimiza- tion result (87) for the uniform scaling factor, as ascertained by means of the first optimization algorithm, does not exceed a specified threshold (85). (Fig. 3) 20 25

8. 发明申请

WO2022023188A1 METHOD FOR DETERMINING A WAVEFRONT GENERATED BY MEANS OF A DIFFRACTIVE OPTICAL ELEMENT 审中-公开
公开(公告)号：WO2022023188A1
公开(公告)日：2022-02-03
申请号：PCT/EP2021/070631
申请日：2021-07-23
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： WOLF, Alexander
IPC分类号： G01B9/02
摘要： A method for determining a wavefront (54) generated by means of a diffractive optical element (24) comprises the following steps: providing an n-dimensional aperiodic pattern (58) which represents diffraction structures (34) arranged on the diffractive optical element, where n has a value of 1 or 2, and computationally determining the wavefront (54) generated by means of the diffractive optical element while taking account of the n-dimensional aperiodic pattern, wherein the n-dimensional aperiodic pattern (58) is embedded in a higher-dimensional representation during the computational determination of the wavefront, the diffraction structures being represented by a periodic pattern (64) in said higher- dimensional representation.

9. 发明申请

WO2021063766A1 MESSVORRICHTUNG ZUR INTERFEROMETRISCHEN BESTIMMUNG EINER OBERFLÄCHENFORM 审中-公开
公开(公告)号：WO2021063766A1
公开(公告)日：2021-04-08
申请号：PCT/EP2020/076557
申请日：2020-09-23
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： SCHULTE, Stefan , FREIMANN, Rolf
IPC分类号： G01B9/02 , G01M11/00 , G03H1/00 , G02B5/32 , G02B5/18
摘要： Eine Messvorrichtung (10) zur interferometrischen Bestimmung einer Form einer Oberfläche (12) eines Testobjekts (14) umfasst: eine Strahlungsquelle zum Bereitstellen einer Eingangswelle (42), ein mehrfach kodiertes diffraktives optisches Element (60), welches dazu konfiguriert ist, durch Beugung aus der Eingangswelle eine auf das Testobjekt (14) gerichtete Prüfwelle (66) mit einer Wellenfront in Gestalt einer Freiformfläche sowie mindestens eine Kalibrierwelle (70) zu erzeugen, wobei die Kalibrierwelle eine Wellenfront mit einer nicht-rotationssymmetrischen Form (68f) aufweist, wobei Querschnitte durch die Wellenfront der Kalibrierwelle entlang quer zueinander ausgerichteten Querschnittsflächen jeweils eine gebogene Form aufweisen und wobei sich die gebogenen Formen in den verschiedenen Querschnittsflächen in einem Öffnungsparameter unterscheiden. Weiterhin umfasst die Messvorrichtung eine Erfassungseinrichtung (46) zum Erfassen eines durch Überlagerung einer Referenzwelle (40) mit der Kalibrierwelle nach Wechselwirkung mit einem Kalibrierobjekt (74) gebildeten Kalibrierinterferogramms.

10. 发明申请

WO2014012641A3 PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR MICROLITHOGRAPHY COMPRISING AN OPTICAL DISTANCE MEASUREMENT SYSTEM 审中-公开
公开(公告)号：WO2014012641A3
公开(公告)日：2014-01-23
申请号：PCT/EP2013/002074
申请日：2013-07-12
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： WOLF, Alexander , SCHWAB, Markus , GRUNER, Toralf , HARTJES, Joachim
IPC分类号： G03F7/20 , G01B9/02
摘要： A projection exposure apparatus (10) for microlithography comprises a plurality of optical components (M1-M6) forming an exposure beam path, and comprises a distance measurement system (30, 130, 230) for measuring a distance between at least one of the optical components (M1-M6) and a reference element (40, 140, 240). The distance measurement system comprises a frequency comb generator (32, 132, 232), which is configured for generating electromagnetic radiation (36, 236) with a comb-shaped frequency spectrum.

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