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    • 8. 发明申请
    • VERFAHREN ZUR GENERATION EINER ZWEIDIMENSIONALEN PHOTOMASKE
    • WO2003027769A3
    • 2003-04-03
    • PCT/EP2002/010610
    • 2002-09-20
    • HOPF, Jörn
    • HOPF, Jörn
    • G03F1/00
    • Es wird ein Verfahren zur Generation einer zweidimensionalen Photomaske beschrieben, wobei die Photomaske eine Vielzahl von lichtdurchlässigen Bereichen mit jeweils einem oder mehreren Maskenelementen aufweist, die so angeordnet werden, dass bei Belichtung eines Targets durch die Photomaske auf dem Target ein Belichtungsbild erzeugt wird, das an ein vorbestimmtes Grauwertbild angepasst ist, wobei die Anzahl, Geometrie und/oder Positionen der Maskenelemente mit einer evolutionären Auswahlprozedur mit einer Vielzahl von Mutationsschritten ermittelt werden, bei denen ausgehend von einer Startverteilung von Maskenelementen mit einem Operator, der aus einer Gruppe von statistischen Operatoren ausgewählt ist, aufeinanderfolgend jeweils eine Verteilung von Maskenelementen erzeugt werden, bis ein Abbruchkriterium erfüllt ist, und für jede aktuelle Verteilung das zugehörige Belichtungsbild ermittelt wird, das sich bei Belichtung des Targets durch eine Photomaske mit der aktuellen Verteilung ergeben würde, wobei das Abbruchkriterium erfüllt ist, wenn eine Approximationsgüte, die für die Anpassung des Belichtungsbildes an das Grauwertbild charakteristisch ist, einen Grenzwert erreicht hat oder über eine Anzahl von Mutationsschritten nicht verbessert wurde.