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1. 发明申请

WO2007031630A1 EQUIPEMENT ET PROCEDE DE SURVEILLANCE D'UN DISPOSITIF LITHOGRAPHIQUE A IMMERSION 审中-公开
标题翻译：用于监测浸没式光刻设备的设备和方法
公开(公告)号：WO2007031630A1
公开(公告)日：2007-03-22
申请号：PCT/FR2006/002077
申请日：2006-09-11
申请人： SOCIETE DE PRODUCTION ET DE RECHERCHES APPLIQUEES (S.O.P.R.A) , PIEL, Jean-Philippe , STEHLE, Jean-Louis
发明人： PIEL, Jean-Philippe , STEHLE, Jean-Louis
IPC分类号： G01N21/43 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70858 , G01N21/431 , G03F7/70341
摘要： L'invention propose un équipement de surveillance d'un dispositif lithographique à immersion équipé d'une source lumineuse principale et d'une optique de projection pour imprimer des images sur une plaquette. Le milieu de propagation allant de l'optique de projection à la plaquette est constitué d'un liquide (3) . L'équipement comporte : - une enceinte (51) propre à recevoir une partie au moins dudit liquide (3), - un réseau de diffraction (50) immergé dans l'enceinte, - une source lumineuse secondaire (271) propre à envoyer un faisceau incident secondaire (202) vers le réseau de manière à obtenir un faisceau diffracté, - des organes de mesure d'angle (57) capables de mesurer au moins un angle de diffraction correspondant à un maximum d'intensité d'un ordre de diffraction du faisceau diffracté par le réseau (500) , et - des moyens de calcul (505) aptes à calculer une estimation d'une grandeur relative à l'indice de réfraction du liquide.
摘要翻译：本发明涉及一种用于监测浸没式光刻设备的设备，该设备具有主光源和用于在晶片上打印图像的投影光学元件。从投影光学器延伸到晶片的传播介质由液体（3）组成。该设备包括：用于容纳所述液体（3）的至少一部分的腔室（51），浸入所述腔室中的衍射光栅（50）; 用于向光栅发射次级入射光束（20）的二次光源（271），以便获得衍射光束; 能够测量与由光栅（500）衍射的光束的衍射级的最大强度对应的至少一个衍射角的角度测量部件（57），以及用于计算与光栅（500）相关的物理量的估计的计算装置（505）液体的折射率。

2. 发明申请

WO1997007392A1 HIGH SPATIAL RESOLUTION ELLIPSOMETRY DEVICE 审中-公开
标题翻译：高空间分辨率ELLIPSOMETRY设备
公开(公告)号：WO1997007392A1
公开(公告)日：1997-02-27
申请号：PCT/FR1996001035
申请日：1996-07-03
申请人： SOCIETE DE PRODUCTION ET DE RECHERCHES APPLIQUEES , PIEL, Jean-Philippe , STEHLE, Jean-Louis , ZAHORSKI, Dorian
发明人： SOCIETE DE PRODUCTION ET DE RECHERCHES APPLIQUEES
IPC分类号： G01N21/21
CPC分类号： G01N21/211
摘要： An ellipsometry device includes first focusing means (L1), combined with a first optical system (10), for focusing the light beam from said first optical system (10) onto the sample, second focusing means (L2), combined with a second optical system, for focusing the beam reflected by the sample surface onto the input of the second optical system, and optical correction means (PT) for correcting, together with the first and second focusing means (L1, L2), the position of the focused reflected beam so as to reject the interference reflections generated by the surface of the sample opposite the light beam receiving surface, and to obtain a maximum signal level at the photodetector (7).
摘要翻译：椭圆测量装置包括与第一光学系统（10）组合的第一聚焦装置（L1），用于将来自所述第一光学系统（10）的光束聚焦到样品上，第二聚焦装置（L2）与第二光学系统系统，用于将由样品表面反射的光束聚焦到第二光学系统的输入上;以及光学校正装置（PT），用于与第一和第二聚焦装置（L1，L2）一起校正聚焦反射的位置光束，以抵消由与光束接收表面相对的样品表面产生的干涉反射，并在光电检测器（7）处获得最大信号电平。

3. 发明申请

WO2005083516A2 MASQUE A MOTIFS PROTEGES, POUR LA LITHOGRAPHIE PAR REFLEXION DANS LE DOMAINE DE L’EXTREME UV ET DES RAYONS X MOUS 审中-公开
标题翻译：防紫外线或软X射线范围内的反射图形保护图案
公开(公告)号：WO2005083516A2
公开(公告)日：2005-09-09
申请号：PCT/FR2005/000168
申请日：2005-01-26
申请人： SOCIETE DE PRODUCTION ET DE RECHERCHES APPLIQUEES "SOPRA" , STEHLE, Jean-Louis
发明人： STEHLE, Jean-Louis
IPC分类号： G03F1/14
CPC分类号： G03F1/24 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/62
摘要： Un masque (MM) à motifs (MF) est destiné à être utilisé dans un dispositif de lithographie par réflexion d’un faisceau de photons de longueur d’onde inférieure à environ 120 nm. Ce masque (MM) comprend un substrat planaire (ST) solidarisé à une structure réfléchissante (SMR) comportant une face avant munie de motifs choisis (MF), réalisés dans un matériau absorbant à la longueur d’onde. Il comprend également des moyens de protection (SP) transparents à la longueur d’onde et agencés de manière à maintenir les particules perturbatrices (PP) à une distance (H) des motifs (MF) supérieure ou égale à l’une des valeurs prises par la profondeur de mise au point du dispositif lithographique et la hauteur qui est associée au pourcentage toléré d’absorption de photons par les particules perturbatrices (PP).
摘要翻译：具有图案（MF）的掩模（MM），用于具有波长小于约120nm的光子束的反射光刻设备。所述掩模（MM）包括固定到反射结构（SMR）的平面基板（ST），该平面基板包括具有由在给定波长下吸收的材料制成的选定图案（MF）的正面，并且还包括保护装置（SP）其对于给定的波长是透明的，并且布置成保持扰动颗粒（PP）和图案（MF）之间的距离（H）大于或等于光刻设备的焦深深度值之一，以及与通过扰动颗粒（PP）的光子吸收百分比相关的高度是可以接受的。

4. 发明申请

WO1997007424A1 FIBRE OPTIC DEVICE FOR HOMOGENISING A LASER BEAM 审中-公开
标题翻译：用于均匀激光束的光纤设备
公开(公告)号：WO1997007424A1
公开(公告)日：1997-02-27
申请号：PCT/FR1996001252
申请日：1996-08-06
申请人： SOCIETE DE PRODUCTION ET DE RECHERCHES APPLIQUEES , GODARD, Bruno , STEHLE, Robert
发明人： SOCIETE DE PRODUCTION ET DE RECHERCHES APPLIQUEES
IPC分类号： G02B27/09
CPC分类号： G02B27/0961 , B23K26/0604 , B23K26/066 , G02B27/09 , G02B27/0905
摘要： An optical device for homogenising a laser beam includes a plurality of abutting front lenses (LFnm) for dividing the laser beam to be homogenised into m x n laser beams, each having a substantially uniform cross-section, and a substantially homogeneous energy distribution; a first intermediate plane (PI1) located in the focal plane of the front lenses (LFmn) and having a plurality of entrance pupils (PEij) each of which is arranged at the focus of a front lens (LFmn) selected among said plurality of front lenses (LFmn); a second intermediate plane (PI2) having a plurality of exit pupils (PSij), a collecting lens (LC) capable of collecting the beams from the plurality of exit pupils (PSij); and optical transmission means for individually transmitting the light beams from the plurality of entrance pupils (PSij) to the plurality of exit pupils (PSkl).
摘要翻译：用于使激光束均匀化的光学装置包括多个邻接的前透镜（LFnm），用于将待均匀的激光束分割成m×n个激光束，每个激光束具有基本均匀的横截面和基本均匀的能量分布; 位于前透镜（LFmn）的焦平面中的第一中间平面（PI1），并且具有多个入射光瞳（PEij），每个入射光瞳被布置在从所述多个前视镜中选择的前透镜（LFmn）的焦点处镜头（LFmn）; 具有多个出射光瞳（PSij）的第二中间平面（PI2），能够收集来自多个出射瞳孔（PSij）的光束的收集透镜（LC）; 以及光传输装置，用于将来自多个入射光瞳（PSij）的光束单独传输到多个出射光瞳（PSk1）。

5. 发明申请

WO2004095658A2 CONTROLE DE L’UNIFORMITE SPATIO-TEMPORELLE DU FAISCEAU D’UN LASER A GAZ PULSE 审中-公开
标题翻译：脉冲气体激光束的时空均匀性控制
公开(公告)号：WO2004095658A2
公开(公告)日：2004-11-04
申请号：PCT/FR2004/000557
申请日：2004-03-09
申请人： SOCIETE DE PRODUCTION ET DE RECHERCHES APPLIQUEES (S.O.P.R.A) , MAKAROV, Maxime , STEHLE, Marc
发明人： MAKAROV, Maxime , STEHLE, Marc
IPC分类号： H01S3/097
CPC分类号： H01S3/09705 , H01S3/09716 , H01S3/104
摘要： L'invention concerne le contrôle de l'uniformité spatio-temporelle du faisceau d'un laser à gaz pulsé, notamment d'un laser à excimères de grande puissance. Elle consiste à prévoir sur l'une au moins des électrodes de décharge (101) deux parties latérales surélevées (111, 121), qui permette d'initialiser la décharge électrique à ce niveau et de l'y laisser constamment accrochée après qu'elle se soit étendue à la totalité de la surface de l'électrode comprise entre ces parties surélevées. Pour compenser le manque d'uniformité de la décharge créé par le manque d'uniformité du champ électrique, le masque de collimation (103) des rayons X de préionisation est aminci depuis ses bords jusque vers son centre pour renforcer la préionisation progressivement depuis le niveau extérieur de la décharge jusqu'au centre de celle-ci. Elle permet d'obtenir une décharge, et donc un plasma, à la fois uniformes dans l'espace et stables dans le temps. Le faisceau laser obtenu à partir de ce plasma et donc lui- même uniforme et stable.
摘要翻译：本发明涉及脉冲气体激光束的空间 - 时间均匀性的控制，特别是由大功率准分子激光器产生。根据本发明，在至少一个放电电极（101）上设置两个升高的侧向部分（111,121），所述部件使得放电能够以该水平初始化并且在具有分布在所述凸起部分之间的电极的整个表面上。为了补偿由于缺乏电场均匀性而导致的放电均匀性的缺失，将前置放电X射线的准直掩模（103）从其边缘朝向其中心变薄，以便逐渐加强从放电的外部水平到相同的中心的preionisation。本发明使得能够获得放电，并且因此能够在空间均匀和时间上稳定的等离子体。从所述等离子体获得的激光束本身是均匀和稳定的。

6. 发明申请

WO1997007578A1 DEVICE FOR CONTROLLING A LASER SOURCE WITH MULTIPLE LASER UNITS FOR THE ENERGY AND SPATIAL OPTIMISATION OF A LASER SURFACE TREATMENT 审中-公开
标题翻译：用于控制激光源的激光源的设备，用于激光表面处理的能量和空间优化的多个激光单元
公开(公告)号：WO1997007578A1
公开(公告)日：1997-02-27
申请号：PCT/FR1996001060
申请日：1996-07-05
申请人： SOCIETE DE PRODUCTION ET DE RECHERCHES APPLIQUEES , GODARD, Bruno , STEHLE, Marc
发明人： SOCIETE DE PRODUCTION ET DE RECHERCHES APPLIQUEES
IPC分类号： H01S03/23
CPC分类号： H01S3/2316 , B23K26/066 , H01S3/2383
摘要： A laser source has two or more laser units (LA1, LA2) and coupling means for coupling the laser beams from each unit so as to deliver a resulting beam for treating a surface. Concurrently with the laser surface treatment, the characteristics of the laser beam (FLA1, FLA2) from each unit (LA1, LA2) are adjusted to produce a resulting laser beam with a time profile of energy optimally adapted to said laser surface treatment. Homogenising means (HO) homogenise the energy distribution of the resulting laser beam, so that the energy and spatial distribution of said resulting laser beam are concurrently adapted for the selected surface treatment.
摘要翻译：激光源具有两个或更多个激光单元（LA1，LA2）和用于耦合来自每个单元的激光束的耦合装置，以便输送用于处理表面的所得光束。与激光表面处理同时，调整来自每个单元（LA1，LA2）的激光束（FLA1，FLA2）的特性，以产生具有最佳适应于所述激光表面处理的能量时间分布的所得激光束。均质装置（HO）均化所得激光束的能量分布，使得所得到的激光束的能量和空间分布同时适用于所选择的表面处理。

7. 发明申请

WO1997007539A1 LASER SURFACE TREATMENT DEVICE AND METHOD 审中-公开
标题翻译：激光表面处理装置和方法
公开(公告)号：WO1997007539A1
公开(公告)日：1997-02-27
申请号：PCT/FR1996001034
申请日：1996-07-03
申请人： SOCIETE DE PRODUCTION ET DE RECHERCHES APPLIQUEES , BOHER, Pierre , STEHLE, Marc
发明人： SOCIETE DE PRODUCTION ET DE RECHERCHES APPLIQUEES
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： B24B37/013 , H01L22/26 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要： In a laser surface treatement method, at least two generally similar surfaces of a given depth are provided, on each of wich a treatment laser beam is to be applied in one or several steps, with properties selected so as to change the physical state of each surface. At least one ellipsometry measurement is made at least before one of the applications of the beam on the second surface, in at least one region of the first surface, so as to obtain a physico-chemical characterisation of the said first surface, the laser beam application and the ellipsometry measurement being conducted in generally similar working conditions, so that the change of the physical state of each surface produced by the laser can be controlled in real time, in situ, rapidly and non destructively, on the basis of said characteristics.
摘要翻译：在激光表面处理方法中，提供给定深度的至少两个大致相似的表面，其中每个处理激光束将以一个或多个步骤施加，其特性被选择以改变每个的物理状态表面。至少一个椭圆测量测量至少在第一表面的至少一个区域中的第二表面上的光束的应用中的一个之前进行，以便获得所述第一表面的物理化学特性，激光束应用和椭偏仪测量在大致相似的工作条件下进行，使得可以基于所述特性实时，原位，快速和非破坏性地控制由激光产生的每个表面的物理状态的变化。

8. 发明申请

WO1997007423A1 OPTICAL DEVICE FOR HOMOGENISING A LASER BEAM 审中-公开
标题翻译：用于均质激光束的光学装置
公开(公告)号：WO1997007423A1
公开(公告)日：1997-02-27
申请号：PCT/FR1996001251
申请日：1996-08-06
申请人： SOCIETE DE PRODUCTION ET DE RECHERCHES APPLIQUEES , GODARD, Bruno , STEHLE, Robert
发明人： SOCIETE DE PRODUCTION ET DE RECHERCHES APPLIQUEES
IPC分类号： G02B27/09
CPC分类号： G02B27/0961 , B23K26/0604 , B23K26/066 , G02B27/09 , G02B27/0905
摘要： An optical device includes a plurality of abutting front lenses (LF), arranged in m rows and n columns, in a direction normal to the laser beam propagation direction, and capable of dividing the laser beam to be homogenised into m x n laser beams, each having a substantially uniform cross-section, and a substantially homogeneous energy distribution. Assembling means couple individual front lenses (LF) to each other, such that they do not interface with the progression of light beams passing through said coupled front lenses (LF). The lenses can be coupled by bonding and/or clamping.
摘要翻译：光学装置包括沿与激光束传播方向垂直的方向以m行n列排列的多个邻接的前透镜（LF），并且能够将待均匀的激光束分成m×n个激光束，每个激光束具有横截面基本均匀，能量分布基本均匀。装配意味着将各个前视镜（LF）彼此耦合，使得它们不与通过所述耦合的前透镜（LF）的光束的进展相接触。透镜可以通过粘合和/或夹紧来耦合。

9. 发明授权

US07763394B2 Protected pattern mask for reflection lithography in the extreme UV or soft X-ray range 失效
标题翻译：用于在极紫外或软X射线范围内进行反射光刻的保护图案掩模
公开(公告)号：US07763394B2
公开(公告)日：2010-07-27
申请号：US10587194
申请日：2005-01-26
申请人： Jean-Louis Stehle
发明人： Jean-Louis Stehle
IPC分类号： G03F1/14 , A61N5/00 , G03B27/62
CPC分类号： G03F1/24 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/62
摘要： A mask (MM) with patterns (MF) for use in a reflection lithography device with a photon beam with a wavelength of less than about 120 nm. Said mask (MM) comprises a planar substrate (ST) fixed to a reflecting structure (SMR) comprising a front face provided with selected patterns (MF) made from a material which is absorbent at the given wavelength and further comprises protection means (SP) which are transparent to the given wavelength and arranged such as to maintain a distance (H) between the perturbing particles (PP) and the patterns (MF) greater than or equal to one of the values of the depth of focus of the lithographic device and the height associated with the percentage of photon absorption by the perturbing particles (PP) which is acceptable.
摘要翻译：具有图案（MF）的掩模（MM），用于具有波长小于约120nm的光子束的反射光刻设备。所述掩模（MM）包括固定到反射结构（SMR）的平面基板（ST），该平面基板包括具有由以给定波长吸收的材料制成的选定图案（MF）的正面，并且还包括保护装置（SP）其对于给定的波长是透明的，并且布置成保持扰动颗粒（PP）和图案（MF）之间的距离（H）大于或等于光刻设备的焦深深度值之一，以及与通过扰动颗粒（PP）的光子吸收百分比相关的高度是可以接受的。

10. 发明授权

US07230701B2 Compact spectroscopic ellipsometer 有权
标题翻译：紧凑型光谱椭偏仪
公开(公告)号：US07230701B2
公开(公告)日：2007-06-12
申请号：US10333415
申请日：2001-07-16
申请人： Jean-Louis Stehle , Jean-Philippe Piel , Pierre Boher , Luc Tantart , Jean-Pierre Rey
发明人： Jean-Louis Stehle , Jean-Philippe Piel , Pierre Boher , Luc Tantart , Jean-Pierre Rey
IPC分类号： G01J4/00
CPC分类号： G01J4/04 , G01N21/211
摘要： The invention concerns an ellipsometer comprising: a source (2) capable of emitting a broadband ray (4), a polarizer (10) for producing a polarised incident beam (12) adapted to illuminate a sample (16) according to at least a selected angle; an analyzer (24) providing an output beam (28) in response to said reflected beam (20) and at least a reflecting optical element (14) arranged between the source (2) and the sample (16) and/or between the sample (16) and the sensor, and capable of focusing the incident beam (12) and/or the reflected beam (20) according to a selected spot The ellipsometer further comprises at least a first refracting optical element (22) arranged between the sample (16) and the sensor and/or between the source (2) and the sample (16) to collect and focus said reflected beam and/or said incident beam, thereby enabling to provide at least a refracting element (22) and a reflecting element (14) on either side of the sample (16) and hence to place the source and the sensor on the same side relative to said spot.
摘要翻译：本发明涉及一种光谱椭偏仪，包括：能够发射宽带射线（4）的源极（2），用于偏振宽带光束（4）的偏振器（10），以及用于产生适于照射光束的偏振入射光束至少一个选定角度的样品（16）; 分析器（24），用于接收由所述照明样品（16）反射的光束（20）并响应于所述反射光束（20）产生输出光束（28）; 以及至少一个布置在源（2）和样品（16）之间和/或样品和传感器之间并且能够聚焦入射光束（12）和/或反射光线（12）的反射光学元件（14） 20）根据选定的地点。椭偏仪还包括布置在样品（16）和传感器之间和/或在源（2）和样品（16）之间的至少第一折射元件（22），以收集和聚焦所述反射光束和/或所述事件从而能够在样品（16）的任一侧上提供至少一个折射元件（22）和反射元件（14），从而使源和传感器相对于所述光斑位于同一侧。

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