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    • 8. 发明公开
    • 광전 반도체 소자를 제조하는 방법 및 광전 반도체 소자
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    • H01L33/00H01L33/12H01L33/42H01L33/44
    • H01L33/44H01L33/12H01L33/42
    • 광전반도체소자를제조하는방법이제공되며, 본방법은, 반도체층 시퀀스(1)를제공하는단계 - 상기반도체층 시퀀스는발광및/또는광흡수활성영역(12) 및상기반도체층 시퀀스(1)의주 연장평면에수직으로연장되는스택방향(z)으로상기활성영역(12) 후방에배치되는커버면(1a)을포함함 -; 상기커버면(1a) 상에층 스택(2)을적층하는단계 - 상기층 스택(2)은인듐을함유하는산화물층(20) 및상기스택방향(z)으로상기커버면(1a) 후방에배치되는중간면(2a)을포함함 -; 상기중간면(2a) 상에인듐주석산화물로형성된접촉층(3)을적층하는단계를포함하고, 상기층 스택(2)은제조공차의범위내에서주석이없다.
    • 本发明提供的光电半导体元件,该方法包括的制造方法,包括:提供半导体层序列(1),其中,所述半导体层序列是发光和/或光吸收有源区12和半导体层序列(1) 以及在垂直于边缘延伸平面延伸的堆叠方向(z)上布置在有源区(12)后面的覆盖表面(1a) (2)在所述覆盖表面(1a)上,所述叠层(2)包括在所述覆盖表面的后侧上的包含铟的氧化物层(20)和氧化物层(20) 中间表面(2a)被布置; 并且在中间表面(2a)上层压由铟锡氧化物形成的接触层(3),其中堆叠(2)在制造公差内不含锡。