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1. 发明公开

KR20180042250A 연마 장치 审中-公开
公开(公告)号：KR20180042250A
公开(公告)日：2018-04-25
申请号：KR20187004634
申请日：2016-08-03
申请人： SHINETSU HANDOTAI KK , FUJIKOSHI MACHINERY CORP
发明人： SATO MICHITO , UENO JUNICHI , ISHII KAORU , KANAI YOSUKE , NAKANISHI YUYA
IPC分类号： B24B37/12 , B24B57/02 , H01L21/304
CPC分类号： B24B37/00 , B24B37/12 , B24B57/02 , H01L21/304 , Y02P70/177
摘要： 본발명은연마포가부착된정반과, 웨이퍼를보유지지하는연마헤드와, 연마제를저장하는탱크와, 탱크내에저장된연마제를연마포에공급하는연마제공급기구와, 정반상으로부터흘러내리는연마제를회수하는폐액받이와, 폐액받이에접속되고폐액받이에서회수한연마제를탱크내에공급하는순환기구를구비하고, 연마제공급기구에서탱크내로부터연마제를연마포에공급하며, 정반상으로부터흘러내리는사용한연마제를폐액받이에서회수하고, 회수한연마제를탱크내에공급함으로써연마제를순환시키면서연마헤드에보유지지된웨이퍼의표면을연마포에미끄럼접촉시켜연마하는연마장치로서, 폐액받이가정반에고정된것을특징으로하는연마장치이다. 이에의해, 재이용하는연마제를회수할때에다른용액과의혼합을억제하고, 연마제의회수효율의악화를억제할수 있으며, 유지보수도용이한연마장치가제공된다.

2. 发明公开

KR20180032176A 탄탈산리튬 결정의 제조 장치 및 탄탈산리튬 결정의 제조 방법 审中-公开
标题翻译：用于制造钽酸锂晶体的设备和制造钽酸锂晶体的方法
公开(公告)号：KR20180032176A
公开(公告)日：2018-03-29
申请号：KR20170114327
申请日：2017-09-07
申请人： UNIV SHINSHU , FUJIKOSHI MACHINERY CORP
发明人： HOSHIKAWA KEIGO , KOBAYASHI TAKUMI , OHBA ETSUKO
IPC分类号： C30B11/00 , C30B29/22
摘要： 본발명은, 백금제도가니를사용하여고품질의탄탈산리튬의결정을제조할수 있는제조장치를제공한다. 본발명에관한탄탈산리튬결정의제조장치(10)는, 기체(12)와, 기체(12)상에배설된내열성을갖는통형상의로본체(14)와, 로본체(14)를폐색하는덮개체(18)와, 로본체(14) 내에배설된발열체(20)와, 기체(12)를관통하여상하이동자유롭게마련된도가니받이축(24)과, 도가니받이축(24)상에배설되고, 발열체(20)에의해가열되는도가니(30)를구비하는, 수직브릿지만로또는수직온도구배응고로로이루어지는탄탈산리튬결정의제조장치(10)로서, 도가니(30)가, 백금제의도가니(30)인것을특징으로한다.
摘要翻译：本发明提供一种能够通过使用铂岛来制造高品质的钽酸锂晶体的制造装置。根据本发明的用于生产钽酸锂晶体的设备10包括基体12，设置在基体12上的具有耐热性的管状炉体14，配置在炉体14内的发热体20，以能够通过基体12升降的方式设置的坩埚接收轴24，和由加热体（20）加热的坩埚（30），其中坩埚（30）由铂制成并且是一个坩埚（30）。

3. 发明公开

KR20100130557A Double-side polishing apparatus and method for polishing both sides of wafer 审中-公开
标题翻译：双面抛光装置及其抛光方法
公开(公告)号：KR20100130557A
公开(公告)日：2010-12-13
申请号：KR20100051636
申请日：2010-06-01
申请人： FUJIKOSHI MACHINERY CORP
发明人： FURUKAWA MASANORI
IPC分类号： B24B37/08 , B24B37/27 , B24B37/28 , H01L21/304
CPC分类号： B24B37/28 , H01L21/304 , B24B9/065 , B24B37/08 , H01L21/02013
摘要： PURPOSE: An apparatus and a method for grinding both sides are provided to reduce the scratches of the outer periphery of wafer and to extend the life of a carrier. CONSTITUTION: An apparatus for grinding both sides comprises a lower grinding plate(32), an upper grinding plate(36), a carrier(44), a plate driving device(40) and a slurry supply source(64). Abrasive cloth is attached to the upper side of the lower grinding plate. The upper grinding plate freely moves up and down above the lower grinding plate. The abrasive cloth is attached to the lower side of the upper grinding plate. The carrier is arranged between the lower grinding plate and the upper grinding plate. The body of the carrier comprises a through-hole, which supports wafer. The plate driving device rotates the upper and lower grinding plates around an axial line. The carrier driving device rotates the carrier.
摘要翻译：目的：提供用于研磨两侧的装置和方法，以减少晶片外周的划痕并延长载体的使用寿命。构成：用于研磨两侧的装置包括下研磨板（32），上磨盘（36），载体（44），板驱动装置（40）和浆料供应源（64）。研磨布安装在下磨盘的上侧。上磨盘自由上下移动到下磨盘上方。研磨布附着在上磨盘的下侧。载体布置在下研磨板和上磨盘之间。载体的主体包括支撑晶片的通孔。板驱动装置围绕轴线旋转上和下研磨板。载体驱动装置使载体旋转。

4. 发明专利

TWI668075B 工件拋光設備有权
简体标题：工件抛光设备
公开(公告)号：TWI668075B
公开(公告)日：2019-08-11
申请号：TW104107118
申请日：2015-03-06
申请人：日商不二越機械工業股份有限公司 , FUJIKOSHI MACHINERY CORP.
发明人：澁谷和孝 , SHIBUYA, KAZUTAKA , 中村由夫 , NAKAMURA, YOSHIO
IPC分类号： B24B37/04 , B24B57/02 , H01L21/304

5. 发明专利

TW201807265A 氧化鎵結晶之製造裝置及氧化鎵結晶之製造方法审中-公开
简体标题：氧化镓结晶之制造设备及氧化镓结晶之制造方法
公开(公告)号：TW201807265A
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：TW106113204
申请日：2017-04-20
申请人：國立大學法人信州大學 , SHINSHU UNIVERSITY , 不二越機械工業股份有限公司 , FUJIKOSHI MACHINERY CORP.
发明人：干川圭吾 , HOSHIKAWA, KEIGO , 小林拓實 , KOBAYASHI, TAKUMI , 大葉悅子 , OHBA, ETSUKO , 柳澤潤 , YANAGISAWA, JUN
IPC分类号： C30B11/00 , C30B29/16 , H01L21/02
CPC分类号： C30B11/002 , C30B11/003 , C30B11/007 , C30B29/16 , H01L21/02565 , H01L21/02625
摘要：提供一種可將氧化鎵結晶大型化、高品質化的氧化鎵結晶之製造裝置。本發明的氧化鎵結晶之製造裝置10係包含垂直布里奇曼(Vertical Bridgman)爐的氧化鎵結晶之製造裝置10，該垂直布里奇曼爐具備：基體12；配設於基體12上的具耐熱性的筒狀爐本體14；蓋體18，閉塞爐本體14；發熱體20，配設於爐本體14內；貫通基體12而設置成上下移動自如的坩堝承接軸24；及坩堝30，配設於坩堝承接軸24上且藉由發熱體20加熱；該氧化鎵結晶之製造裝置10之特徵為：坩堝30是Pt系合金製的坩堝，爐本體14的內壁被形成於積層有複數個具有所需高度之環狀的耐熱構件32b的耐熱壁32，且環狀的耐熱構件32b是接合有複數個分割片32a並形成環狀。
简体摘要：提供一种可将氧化镓结晶大型化、高品质化的氧化镓结晶之制造设备。本发明的氧化镓结晶之制造设备10系包含垂直布里奇曼(Vertical Bridgman)炉的氧化镓结晶之制造设备10，该垂直布里奇曼炉具备：基体12；配设于基体12上的具耐热性的筒状炉本体14；盖体18，闭塞炉本体14；发热体20，配设于炉本体14内；贯通基体12而设置成上下移动自如的坩埚承接轴24；及坩埚30，配设于坩埚承接轴24上且借由发热体20加热；该氧化镓结晶之制造设备10之特征为：坩埚30是Pt系合金制的坩埚，炉本体14的内壁被形成于积层有复数个具有所需高度之环状的耐热构件32b的耐热壁32，且环状的耐热构件32b是接合有复数个分割片32a并形成环状。

6. 发明专利

TW201713461A 研磨裝置审中-公开
简体标题：研磨设备
公开(公告)号：TW201713461A
公开(公告)日：2017-04-16
申请号：TW105125238
申请日：2016-08-09
申请人：信越半導體股份有限公司 , SHIN-ETSU HANDOTAI CO., LTD. , 不二越機械工業股份有限公司 , FUJIKOSHI MACHINERY CORP.
发明人：佐藤三千登 , SATO, MICHITO , 上野淳一 , UENO, JUNICHI , 石井薰 , ISHII, KAORU , 金井洋介 , KANAI, YOSUKE , 中西勇矢 , NAKANISHI, YUYA
IPC分类号： B24B57/00 , B24B57/02 , H01L21/304
CPC分类号： B24B37/00 , B24B37/12 , B24B57/02 , H01L21/304 , Y02P70/177
摘要：本發明的研磨裝置，具備：平台，其貼附有研磨布；研磨頭，其用以保持晶圓；槽體，其用以儲藏研磨劑；研磨劑供給機構，其將儲藏在槽體內的研磨劑供給至研磨布；廢液承接器，其回收自平台上流下的研磨劑；及，循環機構，其被連接至廢液承接器，將利用廢液承接器所回收的研磨劑供給至槽體內；並且，利用研磨劑供給機構來將研磨劑自槽體內供給至研磨布，並利用廢液承接器來回收自平台上流下的已使用後的研磨劑，且將已回收後的研磨劑供給至槽體內，藉此一邊使研磨劑循環一邊使利用研磨頭所保持的晶圓的表面與研磨布作滑動接觸來進行研磨；其中，該研磨裝置的特徵在於：廢液承接器被固定在平台上。藉此，提供一種研磨裝置，當回收再利用的研磨劑時，其可以抑制與其他溶液的混合而抑制回收效率的惡化，且維修也容易。
简体摘要：本发明的研磨设备，具备：平台，其贴附有研磨布；研磨头，其用以保持晶圆；槽体，其用以储藏研磨剂；研磨剂供给机构，其将储藏在槽体内的研磨剂供给至研磨布；废液承接器，其回收自平台上流下的研磨剂；及，循环机构，其被连接至废液承接器，将利用废液承接器所回收的研磨剂供给至槽体内；并且，利用研磨剂供给机构来将研磨剂自槽体内供给至研磨布，并利用废液承接器来回收自平台上流下的已使用后的研磨剂，且将已回收后的研磨剂供给至槽体内，借此一边使研磨剂循环一边使利用研磨头所保持的晶圆的表面与研磨布作滑动接触来进行研磨；其中，该研磨设备的特征在于：废液承接器被固定在平台上。借此，提供一种研磨设备，当回收再利用的研磨剂时，其可以抑制与其他溶液的混合而抑制回收效率的恶化，且维修也容易。

7. 发明专利

TW201703930A 硏磨裝置审中-公开
简体标题：研磨设备
公开(公告)号：TW201703930A
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：TW105117802
申请日：2016-06-06
申请人：不二越機械工業股份有限公司 , FUJIKOSHI MACHINERY CORP. , 國立大學法人九州大學 , KYUSHU UNIVERSITY, NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION
发明人：宮下忠一 , MIYASHITA, TADAKAZU , 市川大造 , ICHIKAWA, DAIZO , 瀨下清 , SESHIMO, KIYOSHI , 大坪正德 , OHTSUBO, MASANORI
IPC分类号： B24B55/04 , B24B55/06
摘要：提供一種研磨裝置，可防止漿液的霧氣飛散。一種研磨裝置10，具備：保持工件20的研磨頭18、於表面貼附有研磨墊16的定盤12、供給研磨用漿液至研磨墊16上的漿液供給部24、沿著定盤12的外周設置且承接從研磨墊16流下的漿液的漿液承接器26、及使研磨頭18與定盤12相對運動的運動機構，其特徵為：具有形成環狀的漿液飛散防止用罩蓋34，其在與研磨墊16的外周部上表面之間空出從漿液供給部24供給至研磨墊16上的漿液僅會在該研磨墊16上朝外方流動的間隙而覆蓋研磨墊16的外周部上表面，並且覆蓋漿液承接器26的上側開口部。
简体摘要：提供一种研磨设备，可防止浆液的雾气飞散。一种研磨设备10，具备：保持工件20的研磨头18、于表面贴附有研磨垫16的定盘12、供给研磨用浆液至研磨垫16上的浆液供给部24、沿着定盘12的外周设置且承接从研磨垫16流下的浆液的浆液承接器26、及使研磨头18与定盘12相对运动的运动机构，其特征为：具有形成环状的浆液飞散防止用罩盖34，其在与研磨垫16的外周部上表面之间空出从浆液供给部24供给至研磨垫16上的浆液仅会在该研磨垫16上朝外方流动的间隙而覆盖研磨垫16的外周部上表面，并且覆盖浆液承接器26的上侧开口部。

8. 发明专利

TWI519685B 藍寶石單結晶之製造方法以及藍寶石單結晶之製造裝置有权
简体标题：蓝宝石单结晶之制造方法以及蓝宝石单结晶之制造设备
公开(公告)号：TWI519685B
公开(公告)日：2016-02-01
申请号：TW099122084
申请日：2010-07-06
申请人：國立大學法人信州大學 , SHINSHU UNIVERSITY , 不二越機械工業股份有限公司 , FUJIKOSHI MACHINERY CORP.
发明人：干川圭吾 , HOSHIKAWA, KEIGO , 宮川千宏 , MIYAGAWA, CHIHIRO , 中村太一 , NAKAMURA, TAICHI
IPC分类号： C30B11/14 , C30B29/20
CPC分类号： C30B29/20 , C30B11/002 , Y10T117/1024

9. 发明专利

TW201544236A 用於拋光工件的方法及工件拋光設備审中-公开
简体标题：用于抛光工件的方法及工件抛光设备
公开(公告)号：TW201544236A
公开(公告)日：2015-12-01
申请号：TW104107118
申请日：2015-03-06
申请人：不二越機械工業股份有限公司 , FUJIKOSHI MACHINERY CORP.
发明人：澁谷和孝 , SHIBUYA, KAZUTAKA , 中村由夫 , NAKAMURA, YOSHIO
IPC分类号： B24B1/00 , B24B57/02 , B24B37/00 , H01L21/304
CPC分类号： B24B37/04 , B24B57/02 , C23F1/08 , C23F1/12 , C23F1/14 , H01J37/32055 , H01J37/32073 , H01J37/32348 , H01L21/02024 , H01L21/30625 , H01L21/67075 , H01L21/67092 , H01L29/1602 , H01L29/1608 , H01L29/2003
摘要：本發明之方法能在高拋光效率下將一高硬度工件拋光。本方法包括下列步驟：將工件之表面推壓到一旋轉拋光板之拋光部；及在執行推壓步驟時供給漿液。此方法之特徵為：藉由氣體放電而活化的活化氣體轉變為氣泡且混合到漿液中。
简体摘要：本发明之方法能在高抛光效率下将一高硬度工件抛光。本方法包括下列步骤：将工件之表面推压到一旋转抛光板之抛光部；及在运行推压步骤时供给浆液。此方法之特征为：借由气体放电而活化的活化气体转变为气泡且混合到浆液中。

10. 发明专利

TWI402135B 研磨裝置有权
简体标题：研磨设备
公开(公告)号：TWI402135B
公开(公告)日：2013-07-21
申请号：TW094108879
申请日：2005-03-23
申请人：不二越機械工業股份有限公司 , FUJIKOSHI MACHINERY CORP.
发明人：宮下忠一 , TADAKAZU MIYASHITA , 岸田敬實 , HIROMI KISHIDA
IPC分类号： B24B37/04 , B24B49/08
CPC分类号： B24B49/16 , B24B37/30

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