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1. 发明申请

WO1986003610A1 METHOD AND APPARATUS FOR COMPRESSING IMAGE DATA 审中-公开
标题翻译：用于压缩图像数据的方法和装置
公开(公告)号：WO1986003610A1
公开(公告)日：1986-06-19
申请号：PCT/JP1985000671
申请日：1985-12-06
申请人： DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD. , INOUE, Toshifumi
发明人： DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
IPC分类号： G06F15/62
CPC分类号： G06T3/40 , H04N1/3935
摘要： To display image data of an original on a monitor, and to compress image data in reproducing the original at a reduction by a desired factor. Picture element data of an original is successively input in synchronism with a clock (CY), and an average value of image data up to that time is renewed by an averaging circuit (40) every time when the image data is input. The renewal of average value is repeated until a DDA circuit (30) produces a signal (CX) which divides the original into the same number of blocks as the number of picture elements of a compressed image adapted to a desired image compression. Output of the averaging circuit (40) represents an average value of image data for each block of the original in the vertical direction. A DDA circuit (50) determines division of the original into blocks in the lateral direction, and an averaging circuit (60) produces an average value of picture element data for each block adapted to desirably compressing the image. These values are used as picture element data for the compressed image.

2. 发明申请

WO2004106949A1 BOARD FOR PROBE CARD, INSPECTION APPARATUS, PHOTO-FABRICATION APPARATUS AND PHOTO-FABRICATION METHOD 审中-公开
标题翻译：探针卡，检查装置，照相装置和照相制作方法
公开(公告)号：WO2004106949A1
公开(公告)日：2004-12-09
申请号：PCT/JP2004/006569
申请日：2004-05-10
申请人： DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD. , JSR CORPORATION , KOYAGI, Yasuyuki , SHIMOZUMA, Hiroko , TANABE, Takayoshi , YASHIRO, Takao
发明人： KOYAGI, Yasuyuki , SHIMOZUMA, Hiroko , TANABE, Takayoshi , YASHIRO, Takao
IPC分类号： G01R1/073
CPC分类号： G01R3/00 , G01R1/06716 , G01R1/07378
摘要： A photo-fabrication apparatus (1) has a stage (2) for holding a base board (9) thereon, a feeding part (3) for feeding photosensitive material onto the base board (9), a layer forming part (4) for smoothly spreading the fed photosensitive material to form a material layer and a light emitting part (5) for emitting a spatially-modulated light beam onto the material layer. The photo-fabrication apparatus (1) forms a lot of elastic microstructures for fine probe and arranges the microstructures at microscopic intervals in a very small range with high positional accuracy on the base board (9) by repeating formation of a material layer and light emission. The microstructures become elastic probes through plating in a later process.
摘要翻译：一种光制造装置（1）具有用于在其上保持基板（9）的载物台（2），用于将感光材料馈送到基板（9）上的馈送部分（3），用于平滑地扩展馈送的感光材料以形成材料层，以及用于将空间调制的光束发射到材料层上的发光部分（5）。光致制造装置（1）形成大量用于精细探针的弹性微结构，并且通过重复形成材料层和发光，在基板（9）上以非常小的范围以非常小的范围以高位置精度布置微结构。微结构在后续工艺中通过电镀成为弹性探针。

3. 发明申请

WO1989007329A1 SLOT-TYPE SHADOW MASK 审中-公开
标题翻译： SLOT型阴影面膜
公开(公告)号：WO1989007329A1
公开(公告)日：1989-08-10
申请号：PCT/JP1989000077
申请日：1989-01-27
申请人： DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD. , YAMAMOTO, Toshio
发明人： DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
IPC分类号： H01J29/07
CPC分类号： H01J29/076
摘要： A slot-type shadow mask (3) used for a color picture tube. The slot-type shadow mask (3) according to the invention has a shadow mask plate (4) composed of a front plate (4a) and a back plate (4b), and the relationship between them is such that the bridges (6a, 6b) on one plate divide the slot holes (5b, 5a) of the other.

4. 发明专利

TWI576946B 電漿ＣＶＤ裝置有权
简体标题：等离子ＣＶＤ设备
公开(公告)号：TWI576946B
公开(公告)日：2017-04-01
申请号：TW103134793
申请日：2014-10-06
申请人：大日本網屏製造股份有限公司 , DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：米山典孝 , YONEYAMA, NORITAKA , 大澤篤史 , OSAWA, ATSUSHI , 阪本拓海 , SAKAMOTO, TAKUMI , 中島直人 , NAKASHIMA, NAOTO
IPC分类号： H01L21/677 , H05H1/46

5. 发明专利

TW201523778A 電漿ＣＶＤ裝置审中-公开
简体标题：等离子ＣＶＤ设备
公开(公告)号：TW201523778A
公开(公告)日：2015-06-16
申请号：TW103134793
申请日：2014-10-06
申请人：大日本網屏製造股份有限公司 , DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：米山典孝 , YONEYAMA, NORITAKA , 大澤篤史 , OSAWA, ATSUSHI , 阪本拓海 , SAKAMOTO, TAKUMI , 中島直人 , NAKASHIMA, NAOTO
IPC分类号： H01L21/677 , H05H1/46
摘要：本發明使電感耦合方式之電漿CVD裝置之產能提昇。本發明之電漿CVD裝置包括：腔室；保持搬送部，其於腔室內保持成為處理對象之基板並沿著搬送路徑相對地搬送；至少一個電感耦合型天線，其捲繞數未達一周，且與搬送路徑對向地設置於腔室內；高頻電力供給部，其對至少一個電感耦合型天線供給高頻電力；及氣體導入部，其對腔室內導入規定之氣體。而且，電漿CVD裝置於自氣體導入部對腔室內導入規定之氣體之狀態下，自高頻電力供給部對至少一個電感耦合型天線供給高頻電力而使電漿產生，並藉由保持搬送部沿著搬送路徑搬送基板。
简体摘要：本发明使电感耦合方式之等离子CVD设备之产能提升。本发明之等离子CVD设备包括：腔室；保持搬送部，其于腔室内保持成为处理对象之基板并沿着搬送路径相对地搬送；至少一个电感耦合型天线，其卷绕数未达一周，且与搬送路径对向地设置于腔室内；高频电力供给部，其对至少一个电感耦合型天线供给高频电力；及气体导入部，其对腔室内导入规定之气体。而且，等离子CVD设备于自气体导入部对腔室内导入规定之气体之状态下，自高频电力供给部对至少一个电感耦合型天线供给高频电力而使等离子产生，并借由保持搬送部沿着搬送路径搬送基板。

6. 发明专利

TW201448089A 吐出檢查裝置及基板處理裝置审中-公开
简体标题：吐出检查设备及基板处理设备
公开(公告)号：TW201448089A
公开(公告)日：2014-12-16
申请号：TW103109413
申请日：2014-03-14
申请人：大日本網屏製造股份有限公司 , DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：古川至 , FURUKAWA, ITARU , 佐野洋 , SANO, HIROSHI
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： H01L21/67023 , G06T7/0004 , G06T7/194 , G06T2207/10016 , G06T2207/30148 , H01L21/67051 , H01L21/67253
摘要：本發明之基板處理裝置之吐出檢查部係具備有光線射出部與攝像部。光線射出部係沿著預先被決定之光線存在面射出光線，對自吐出頭之複數個吐出口所吐出之處理液照射光線。攝像部係對通過來自光線射出部之面狀光之處理液進行拍攝，而取得包含有複數個亮點之檢查圖像。在吐出檢查部中，藉由判定框設定部在檢查圖像上加以設定與複數個吐出口產生對應之複數個正常吐出判定框。然後，藉由判定部，取得在各正常吐出判定框內之亮點之存否資訊，並根據該存否資訊而加以判定與各正常吐出判定框產生對應之於吐出口之吐出動作的良否。藉此，可個別且精準地判定在複數個吐出口之各者中之吐出動作的良否。
简体摘要：本发明之基板处理设备之吐出检查部系具备有光线射出部与摄像部。光线射出部系沿着预先被决定之光线存在面射出光线，对自吐出头之复数个吐出口所吐出之处理液照射光线。摄像部系对通过来自光线射出部之面状光之处理液进行拍摄，而取得包含有复数个亮点之检查图像。在吐出检查部中，借由判定框设置部在检查图像上加以设置与复数个吐出口产生对应之复数个正常吐出判定框。然后，借由判定部，取得在各正常吐出判定框内之亮点之存否信息，并根据该存否信息而加以判定与各正常吐出判定框产生对应之于吐出口之吐出动作的良否。借此，可个别且精准地判定在复数个吐出口之各者中之吐出动作的良否。

7. 发明专利

TW201446382A 石質平台、石質平台之加工方法、石質平台之製造方法及基板處理裝置审中-公开
简体标题：石质平台、石质平台之加工方法、石质平台之制造方法及基板处理设备
公开(公告)号：TW201446382A
公开(公告)日：2014-12-16
申请号：TW103109885
申请日：2014-03-17
申请人：大日本網屏製造股份有限公司 , DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：池田文彥 , IKEDA, FUMIHIKO
IPC分类号： B23K26/34 , B05C13/00
摘要：本發明提供一種能夠保持石質平台之平面度且防止產生鏡面化的石質平台、石質平台之加工方法、石質平台之製造方法及基板處理裝置。雷射加工機係將自雷射刻號機41所射出之雷射光，照射至石質平台，藉此對在石質平台上之基板的載置面進行加工而形成凸部者，其包括有框架51、被支持於該框架51上之雷射刻號機41、控制器42、及排氣管43。雷射刻號機41與控制器42係藉由纜線45而加以連接。又，排氣管43與控制器42係藉由連接管而加以連接。在被框架51所包圍之區域中，於雷射光對石質平台之照射區域，配設有保護罩蓋。
简体摘要：本发明提供一种能够保持石质平台之平面度且防止产生镜面化的石质平台、石质平台之加工方法、石质平台之制造方法及基板处理设备。激光加工机系将自激光刻号机41所射出之激光光，照射至石质平台，借此对在石质平台上之基板的载置面进行加工而形成凸部者，其包括有框架51、被支持于该框架51上之激光刻号机41、控制器42、及排气管43。激光刻号机41与控制器42系借由缆线45而加以连接。又，排气管43与控制器42系借由连接管而加以连接。在被框架51所包围之区域中，于激光光对石质平台之照射区域，配设有保护罩盖。

8. 发明专利

TWI462215B 基板處理裝置、轉換方法、及轉移方法有权
简体标题：基板处理设备、转换方法、及转移方法
公开(公告)号：TWI462215B
公开(公告)日：2014-11-21
申请号：TW099130903
申请日：2010-09-13
申请人：大日本網屏製造股份有限公司 , DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：高木善則 , TAKAGI, YOSHINORI , 十雅夫 , TSUJI, MASAO
IPC分类号： H01L21/677 , B65G49/06

9. 发明专利

TWI462213B 基板處理裝置有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWI462213B
公开(公告)日：2014-11-21
申请号：TW097125936
申请日：2008-07-09
申请人：大日本網屏製造股份有限公司 , DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：光吉一郎 , MITSUYOSHI, ICHIRO
IPC分类号： H01L21/677 , B65G49/07 , B65G49/06 , H01L21/30
CPC分类号： H01L21/67766 , H01L21/67772 , H01L21/67778

10. 发明专利

TW201444010A 基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW201444010A
公开(公告)日：2014-11-16
申请号：TW102145530
申请日：2013-12-11
申请人：大日本網屏製造股份有限公司 , DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：宮城雅宏 , MIYAGI, MASAHIRO , 新居健一郎 , ARAI, KENICHIRO
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/02
CPC分类号： H01L21/6715 , H01L21/02057 , H01L21/6704 , H01L21/67051
摘要：在基板處理裝置10中，隨著液溫上昇而比電阻逐漸減小之去靜電液之溫度，係藉由溫度調整部61而被加以調整，而使去靜電液的比電阻形成大於被利用於在單片式處理裝置1中之處理之處理液(SPM液)的比電阻。去靜電液係貯存在去靜電液貯存部71。然後，將保持於卡匣73之複數個基板9浸漬於去靜電液貯存部71內之去靜電液中，使基板9之兩側之主表面以遍及全表面之方式與去靜電液產生接觸。藉此，基板9係以比較緩慢之方式被加以除去靜電。並且，於去靜電處理及藉由基板乾燥部75所進行之乾燥處理結束之後，於單片式處理裝置1中將SPM液供給至基板9之上表面91上，加以進行SPM處理。藉此，於SPM處理之時，可防止大量之電荷自基板9朝向SPM液以急遽之方式產生移動，進而可防止基板9之損傷。
简体摘要：在基板处理设备10中，随着液温上升而比电阻逐渐减小之去静电液之温度，系借由温度调整部61而被加以调整，而使去静电液的比电阻形成大于被利用于在单片式处理设备1中之处理之处理液(SPM液)的比电阻。去静电液系贮存在去静电液贮存部71。然后，将保持于卡匣73之复数个基板9浸渍于去静电液贮存部71内之去静电液中，使基板9之两侧之主表面以遍及全表面之方式与去静电液产生接触。借此，基板9系以比较缓慢之方式被加以除去静电。并且，于去静电处理及借由基板干燥部75所进行之干燥处理结束之后，於单片式处理设备1中将SPM液供给至基板9之上表面91上，加以进行SPM处理。借此，于SPM处理之时，可防止大量之电荷自基板9朝向SPM液以急遽之方式产生移动，进而可防止基板9之损伤。

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