专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

US20120138814A1 PARTICLE BEAM DEVICE WITH DEFLECTION SYSTEM 有权
标题翻译：具有偏转系统的粒子束装置
公开(公告)号：US20120138814A1
公开(公告)日：2012-06-07
申请号：US13306529
申请日：2011-11-29
申请人： Dirk Preikszas , Armin Heinz Hayn
发明人： Dirk Preikszas , Armin Heinz Hayn
IPC分类号： H01J3/26 , H01J3/14
CPC分类号： H01J37/1474 , H01J37/28 , H01J2237/1534 , H01J2237/188 , H01J2237/31749
摘要： A particle beam device includes a particle beam generator, an objective lens, and first and second deflection systems for deflecting the particle beam in an object plane defined by the objective lens. In a first operating mode, the first deflection system generates a first deflection field and the second deflection system generates a second deflection field. In a second operating mode, the first deflection system generates a third deflection field and the second deflection system generates a fourth deflection field.
摘要翻译：粒子束装置包括粒子束发生器，物镜，以及用于使粒子束偏转在由物镜限定的物平面中的第一和第二偏转系统。在第一操作模式中，第一偏转系统产生第一偏转场，而第二偏转系统产生第二偏转场。在第二操作模式中，第一偏转系统产生第三偏转场，第二偏转系统产生第四偏转场。

2. 发明授权

US08405045B2 Particle beam device with deflection system 有权
标题翻译：带偏转系统的粒子束装置
公开(公告)号：US08405045B2
公开(公告)日：2013-03-26
申请号：US13306529
申请日：2011-11-29
申请人： Dirk Preikszas , Armin Heinz Hayn
发明人： Dirk Preikszas , Armin Heinz Hayn
IPC分类号： H01J3/26 , H01J3/14
CPC分类号： H01J37/1474 , H01J37/28 , H01J2237/1534 , H01J2237/188 , H01J2237/31749
摘要： A particle beam device includes a particle beam generator, an objective lens, and first and second deflection systems for deflecting the particle beam in an object plane defined by the objective lens. In a first operating mode, the first deflection system generates a first deflection field and the second deflection system generates a second deflection field. In a second operating mode, the first deflection system generates a third deflection field and the second deflection system generates a fourth deflection field.
摘要翻译：粒子束装置包括粒子束发生器，物镜，以及用于使粒子束偏转在由物镜限定的物平面中的第一和第二偏转系统。在第一操作模式中，第一偏转系统产生第一偏转场，而第二偏转系统产生第二偏转场。在第二操作模式中，第一偏转系统产生第三偏转场，第二偏转系统产生第四偏转场。

3. 发明申请

US20120104250A1 Microscope System, Method for Operating a Charged-Particle Microscope 有权
标题翻译：显微镜系统，操作带电粒子显微镜的方法
公开(公告)号：US20120104250A1
公开(公告)日：2012-05-03
申请号：US13287927
申请日：2011-11-02
申请人： Stewart Bean , Roger Rowland , Simon Hees
发明人： Stewart Bean , Roger Rowland , Simon Hees
IPC分类号： H01J37/26
CPC分类号： H01J37/222 , G02B21/367 , H01J37/244 , H01J37/26 , H01J2237/047 , H01J2237/22 , H01J2237/221 , H01J2237/225 , H01J2237/2482 , H01J2237/28
摘要： A method of operating a charged-particle microscope, the method comprising: recording a first image of a first region of an object in a first setting; recording a second image of a second region of the object using the charged-particle microscope in a second setting; reading a third image of a third region using the charged-particle microscope, wherein the first and second regions are contained at least partially within the third region; displaying a representation of the first image at least partly within the displayed third image, wherein the representation of the first image includes a first indicator which is indicative of the first setting; displaying a representation of the second image at least partly within the displayed third image, wherein the representation of the second image includes a second indicator which is indicative of the second setting, and wherein the displayed second indicator is different from the displayed first indicator.
摘要翻译：一种操作带电粒子显微镜的方法，所述方法包括：在第一设置中记录物体的第一区域的第一图像; 在第二设置中使用带电粒子显微镜记录物体的第二区域的第二图像; 使用所述带电粒子显微镜读取第三区域的第三图像，其中所述第一和第二区域至少部分地包含在所述第三区域内; 至少部分地在显示的第三图像内显示第一图像的表示，其中第一图像的表示包括指示第一设置的第一指示符; 至少部分地在所显示的第三图像内显示第二图像的表示，其中第二图像的表示包括指示第二设置的第二指示符，并且其中所显示的第二指示符与所显示的第一指示符不同。

4. 发明公开

EP2565900A3 Beam device and system comprising a particle beam device and an optical microscope 有权转让
标题翻译：射线装置及系统与粒子辐射装置和光学显微镜
公开(公告)号：EP2565900A3
公开(公告)日：2013-08-14
申请号：EP12191504.5
申请日：2007-11-13
申请人： Carl Zeiss NTS Ltd.
发明人： Spruck, Bernd , Edelmann, Martin , Craven, John , Taylor, Robert , Kühner, Martin
IPC分类号： H01J37/20 , H01J37/18 , H01J37/22 , H01J37/26 , G02B21/00
CPC分类号： H01J37/20 , G02B21/0004 , H01J37/18 , H01J37/228 , H01J37/26 , H01J2237/2003 , H01J2237/2006 , H01J2237/204 , H01J2237/2608
摘要： The invention refers to a beam device (1), in particular a particle beam device, for analyzing an object (12), as well as a system comprising a particle beam device and an optical microscope for optically analyzing an object. It is an object of the invention to provide a beam device (1) comprising a means to simplify the exchange and to reduce the time of the exchange of objects to be examined. According to the invention a beam device (1) is provided comprising at least one beam generator (2) that generates a beam, at least one objective lens (6) that focuses the beam on an object (12) arranged in a holding element (25), wherein the objective lens (6) comprises at least one connecting element (26), the holding element (25) is connected to the connecting element (26) so that the holding element (25) is removable from the connecting element (26) for modification of the object (12). Alternatively, the holding element is mounted to a beam column.

5. 发明公开

EP2461346A2 Teilchenstrahlgerät mit Ablenksystem 有权转让
标题翻译：粒子束与偏转
公开(公告)号：EP2461346A2
公开(公告)日：2012-06-06
申请号：EP11191531.0
申请日：2011-12-01
申请人： Carl Zeiss NTS GmbH , Carl Zeiss NTS Ltd.
发明人： Preikszas, Dirk , Hayn, Armin Heinz
IPC分类号： H01J37/147 , H01J37/28
CPC分类号： H01J37/1474 , H01J37/28 , H01J2237/1534 , H01J2237/188 , H01J2237/31749
摘要： Die Erfindung betrifft ein Teilchenstrahlgerät mit einem Teilchenstrahlerzeuger, einer Objektivlinse (10) zum Fokussieren eines vom Teilchenstrahlerzeuger in einer Objektebene (16) erzeugten Teilchenstrahls, wobei die Objektivlinse eine optische Achse (20) definiert, und einem ersten und einem zweiten Ablenksystem (9,12) zur Ablenkung des Teilchenstrahls in der Objektebene, wobei das erste und das zweite Ablenksystem seriell hintereinander entlang der optischen Achse angeordnet sind. In einem ersten Betriebsmodus erzeugt das erste Ablenksystem ein erstes Ablenkfeld und das zweite Ablenksystem ein zweites Ablenkfeld und das erste und das zweite Ablenkfeld weisen eine erste Winkelorientierung zu einander auf un sind so zu einander ausgerichtet, dass sie gemeinsam in der Objektebene eine Auslenkung des Teilchenstrahls in einer ersten Richtung erzeugen. In einem zweiten Betriebsmodus erzeugt das erste Ablenksystem ein drittes Ablenkfeld und das zweite Ablenksystem ein viertes Ablenkfeld und das dritte und das vierte Ablenkfeld weisen eine zweite Winkelorientierung zu einander auf und sind so zu einander ausgerichtet, ass sie gemeinsam in der Objektebene eine Auslenkung des Teilchenstrahls in der ersten Richtung erzeugen. Die zweite Winkelorientierung weicht dabei von der ersten Winkelorientierung ab.
摘要翻译：本发明涉及用粒子束，物镜（10），用于聚焦由所述粒子束产生的粒子束在物平面（16），其中所述物镜限定光轴（20），以及第一和第二偏转系统中的粒子射线装置（9,12 ），用于在物平面，其特征在于，所述第一和第二偏转系统沿光轴串联布置一个在另一个后面偏转粒子束。在第一操作模式中，第一偏转系统产生第一偏转和第二偏转的第二偏转场和所述第一和第二偏转场具有第一角定向到彼此上的未对准以彼此使得它们一起在物平面，粒子束在偏转产生第一方向。在第二操作模式中，第一偏转系统产生第三偏转和第二偏转系统，第四偏转场和定向，以便在第三和第四偏转场具有第二角度取向，彼此是彼此，在物平面一起屁股它们，粒子束在偏转产生所述第一方向。第二角取向从第一角度方位偏离。

6. 发明授权

EP2264738B1 Electron gun used in a particle beam device 有权转让
标题翻译：电子枪用于粒子束装置
公开(公告)号：EP2264738B1
公开(公告)日：2017-12-06
申请号：EP09163176.2
申请日：2009-06-18
申请人： Carl Zeiss NTS Ltd. , York Probe Sources Limited
发明人： Hayn, Armin , El-Gomati, Mohamed
IPC分类号： H01J37/063
CPC分类号： H01J37/063 , H01J2237/06308 , H01J2237/06341 , H01J2237/06375
摘要： The invention relates to an electron gun (101, 201) used in a particle beam device, for example in an electron microscope. The electron gun (101, 201) has a relatively good brightness and may be operated under vacuum conditions which can be easily achieved (i.e., for example, at a residual pressure of about 10 -6 or 10 -7 mbar). The electron gun (101, 201) comprises an electron source (300) having an electron emission surface (306). Furthermore, the electron gun (101, 201) comprises a first electrode (301) configured to control a path of electrons emitted from the electron emission surface (306), a second electrode (304) which is configured to suppress emissions of electrons from a side surface of the electron source (300) and a third electrode (305) configured to accelerate electrons emitted from the electron source (300) to a final energy. A first voltage, a second voltage and a third voltage are adjusted to avoid any crossover of electrons emitted from the electron emission surface (306).

7. 发明公开

EP2565900A2 Beam device and system comprising a particle beam device and an optical microscope 有权转让
标题翻译：包括粒子束装置和光学显微镜的束装置和系统
公开(公告)号：EP2565900A2
公开(公告)日：2013-03-06
申请号：EP12191504.5
申请日：2007-11-13
申请人： Carl Zeiss NTS Ltd.
发明人： Spruck, Bernd , Edelmann, Martin , Craven, John , Taylor, Robert , Kühner, Martin
IPC分类号： H01J37/20 , H01J37/18 , H01J37/22 , H01J37/26 , G02B21/00
CPC分类号： H01J37/20 , G02B21/0004 , H01J37/18 , H01J37/228 , H01J37/26 , H01J2237/2003 , H01J2237/2006 , H01J2237/204 , H01J2237/2608
摘要： The invention refers to a beam device (1), in particular a particle beam device, for analyzing an object (12), as well as a system comprising a particle beam device and an optical microscope for optically analyzing an object. It is an object of the invention to provide a beam device (1) comprising a means to simplify the exchange and to reduce the time of the exchange of objects to be examined. According to the invention a beam device (1) is provided comprising at least one beam generator (2) that generates a beam, at least one objective lens (6) that focuses the beam on an object (12) arranged in a holding element (25), wherein the objective lens (6) comprises at least one connecting element (26), the holding element (25) is connected to the connecting element (26) so that the holding element (25) is removable from the connecting element (26) for modification of the object (12). Alternatively, the holding element is mounted to a beam column.
摘要翻译：本发明涉及用于分析物体（12）的束装置（1），特别是粒子束装置，以及包括用于光学分析物体的粒子束装置和光学显微镜的系统。本发明的一个目的是提供一种包括简化交换和减少待检查物体交换时间的装置的射束装置（1）。根据本发明，提供一种光束装置（1），其包括至少一个产生光束的光束发生器（2），至少一个将光束聚焦在布置在保持元件（12）上的物体（12）上的物镜（6）其中物镜（6）包括至少一个连接元件（26），保持元件（25）连接到连接元件（26），使得保持元件（25）可从连接元件用于修改物体（12）。或者，保持元件安装在梁柱上。

8. 发明公开

EP2461346A3 Teilchenstrahlgerät mit Ablenksystem 有权转让
标题翻译： Teilchenstrahlgerätmit Ablenksystem
公开(公告)号：EP2461346A3
公开(公告)日：2013-12-04
申请号：EP11191531.0
申请日：2011-12-01
申请人： Carl Zeiss NTS GmbH , Carl Zeiss NTS Ltd.
发明人： Preikszas, Dirk , Hayn, Armin Heinz
IPC分类号： H01J37/147 , H01J37/28
CPC分类号： H01J37/1474 , H01J37/28 , H01J2237/1534 , H01J2237/188 , H01J2237/31749
摘要： Die Erfindung betrifft ein Teilchenstrahlgerät mit einem Teilchenstrahlerzeuger, einer Objektivlinse (10) zum Fokussieren eines vom Teilchenstrahlerzeuger in einer Objektebene (16) erzeugten Teilchenstrahls, wobei die Objektivlinse eine optische Achse (20) definiert, und einem ersten und einem zweiten Ablenksystem (9,12) zur Ablenkung des Teilchenstrahls in der Objektebene, wobei das erste und das zweite Ablenksystem seriell hintereinander entlang der optischen Achse angeordnet sind. In einem ersten Betriebsmodus erzeugt das erste Ablenksystem ein erstes Ablenkfeld und das zweite Ablenksystem ein zweites Ablenkfeld und das erste und das zweite Ablenkfeld weisen eine erste Winkelorientierung zu einander auf un sind so zu einander ausgerichtet, dass sie gemeinsam in der Objektebene eine Auslenkung des Teilchenstrahls in einer ersten Richtung erzeugen. In einem zweiten Betriebsmodus erzeugt das erste Ablenksystem ein drittes Ablenkfeld und das zweite Ablenksystem ein viertes Ablenkfeld und das dritte und das vierte Ablenkfeld weisen eine zweite Winkelorientierung zu einander auf und sind so zu einander ausgerichtet, ass sie gemeinsam in der Objektebene eine Auslenkung des Teilchenstrahls in der ersten Richtung erzeugen. Die zweite Winkelorientierung weicht dabei von der ersten Winkelorientierung ab.
摘要翻译：两个偏转单元（9,12）沿着光轴（20）一个在另一个之后连续布置，以使物体平面（16）中的粒子束偏转。具有第一和第二偏转场的偏转单元（9）设置在第一操作模式中，使得具有第一角度取向的场在物平面中相对于彼此对准。具有第三和第四偏转场的偏转单元（12）设置在第二操作模式中，使得具有不同于第一角度取向的角取向的场在物平面中相对于彼此对准。

9. 发明授权

EP2450936B1 Microscope system, method for operating a charged-particle microscope 有权转让
标题翻译：一种操作带电粒子显微镜的显微镜系统，方法
公开(公告)号：EP2450936B1
公开(公告)日：2013-03-13
申请号：EP10014245.4
申请日：2010-11-03
申请人： Carl Zeiss NTS Ltd.
发明人： Bean, Stewart , Rowland, Roger
IPC分类号： H01J37/22 , H01J37/244 , H01J37/26 , G02B21/36
CPC分类号： H01J37/222 , G02B21/367 , H01J37/244 , H01J37/26 , H01J2237/047 , H01J2237/22 , H01J2237/221 , H01J2237/225 , H01J2237/2482 , H01J2237/28

10. 发明公开

EP2450936A1 Microscope system, method for operating a charged-particle microscope 有权转让
标题翻译： Mikroskopsystem，Verfahren zum Betreiben einesLadungsträger-Mikroskops
公开(公告)号：EP2450936A1
公开(公告)日：2012-05-09
申请号：EP10014245.4
申请日：2010-11-03
申请人： Carl Zeiss NTS Ltd.
发明人： Bean, Stewart , Rowland, Roger
IPC分类号： H01J37/22 , H01J37/244 , H01J37/26 , G02B21/36
CPC分类号： H01J37/222 , G02B21/367 , H01J37/244 , H01J37/26 , H01J2237/047 , H01J2237/22 , H01J2237/221 , H01J2237/225 , H01J2237/2482 , H01J2237/28
摘要： A method of operating a charged-particle microscope, the method comprising: recording a first image of a first region of an object using the charged-particle microscope in a first setting; recording a second image of a second region of the object using the charged-particle microscope in a second setting, wherein the second setting differs from the first setting with respect to at least one of a kinetic energy of primary charged particles used for imaging, a detector setting used for imaging, a beam current of the primary charged particles used for imaging and a pressure in a measuring chamber of the charged-particle microscope; reading a third image of a third region of the object using the charged-particle microscope, wherein the first and second regions are contained at least partially within the third region; displaying at least a portion of the third image; displaying a representation of the first image at least partly within the displayed third image, wherein the representation of the first image includes a first indicator which is indicative of the first setting; displaying a representation of the second image at least partly within the displayed third image, wherein the representation of the second image includes a second indicator which is indicative of the second setting, and wherein the displayed second indicator is different from the displayed first indicator.
摘要翻译：一种操作带电粒子显微镜的方法，所述方法包括：在第一设置中使用所述带电粒子显微镜记录物体的第一区域的第一图像; 使用所述带电粒子显微镜在第二设定中记录所述物体的第二区域的第二图像，其中所述第二设定与所述第一设定相对于用于成像的初级带电粒子的动能中的至少一个不同，用于成像的检测器设置，用于成像的初级带电粒子的束电流和带电粒子显微镜的测量室中的压力; 使用所述带电粒子显微镜读取所述物体的第三区域的第三图像，其中所述第一和第二区域至少部分地包含在所述第三区域内; 显示所述第三图像的至少一部分; 至少部分地在所显示的第三图像内显示第一图像的表示，其中第一图像的表示包括指示第一设置的第一指示符; 至少部分地在所显示的第三图像内显示第二图像的表示，其中第二图像的表示包括指示第二设置的第二指示符，并且其中所显示的第二指示符不同于所显示的第一指示符。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式