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基本信息:
- 专利标题: Teilchenstrahlgerät mit Ablenksystem
- 专利标题(英):Particle beam apparatus with deflection system
- 专利标题(中):粒子束与偏转
- 申请号:EP11191531.0 申请日:2011-12-01
- 公开(公告)号:EP2461346A2 公开(公告)日:2012-06-06
- 发明人: Preikszas, Dirk , Hayn, Armin Heinz
- 申请人: Carl Zeiss NTS GmbH , Carl Zeiss NTS Ltd.
- 申请人地址: Carl-Zeiss-Strasse 56 73447 Oberkochen DE
- 专利权人: Carl Zeiss NTS GmbH,Carl Zeiss NTS Ltd.
- 当前专利权人: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH
- 当前专利权人地址: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH
- 代理机构: Carl Zeiss AG - Patentabteilung
- 优先权: DE102010053194 20101203
- 主分类号: H01J37/147
- IPC分类号: H01J37/147 ; H01J37/28
摘要:
Die Erfindung betrifft ein Teilchenstrahlgerät mit einem Teilchenstrahlerzeuger, einer Objektivlinse (10) zum Fokussieren eines vom Teilchenstrahlerzeuger in einer Objektebene (16) erzeugten Teilchenstrahls, wobei die Objektivlinse eine optische Achse (20) definiert, und einem ersten und einem zweiten Ablenksystem (9,12) zur Ablenkung des Teilchenstrahls in der Objektebene, wobei das erste und das zweite Ablenksystem seriell hintereinander entlang der optischen Achse angeordnet sind. In einem ersten Betriebsmodus erzeugt das erste Ablenksystem ein erstes Ablenkfeld und das zweite Ablenksystem ein zweites Ablenkfeld und das erste und das zweite Ablenkfeld weisen eine erste Winkelorientierung zu einander auf un sind so zu einander ausgerichtet, dass sie gemeinsam in der Objektebene eine Auslenkung des Teilchenstrahls in einer ersten Richtung erzeugen. In einem zweiten Betriebsmodus erzeugt das erste Ablenksystem ein drittes Ablenkfeld und das zweite Ablenksystem ein viertes Ablenkfeld und das dritte und das vierte Ablenkfeld weisen eine zweite Winkelorientierung zu einander auf und sind so zu einander ausgerichtet, ass sie gemeinsam in der Objektebene eine Auslenkung des Teilchenstrahls in der ersten Richtung erzeugen. Die zweite Winkelorientierung weicht dabei von der ersten Winkelorientierung ab.
摘要(中):
本发明涉及用粒子束,物镜(10),用于聚焦由所述粒子束产生的粒子束在物平面(16),其中所述物镜限定光轴(20),以及第一和第二偏转系统中的粒子射线装置(9,12 ),用于在物平面,其特征在于,所述第一和第二偏转系统沿光轴串联布置一个在另一个后面偏转粒子束。 在第一操作模式中,第一偏转系统产生第一偏转和第二偏转的第二偏转场和所述第一和第二偏转场具有第一角定向到彼此上的未对准以彼此使得它们一起在物平面,粒子束在偏转 产生第一方向。 在第二操作模式中,第一偏转系统产生第三偏转和第二偏转系统,第四偏转场和定向,以便在第三和第四偏转场具有第二角度取向,彼此是彼此,在物平面一起屁股它们,粒子束在偏转 产生所述第一方向。 第二角取向从第一角度方位偏离。
公开/授权文献:
- EP2461346B1 Teilchenstrahlgerät mit Ablenksystem 公开/授权日:2018-05-02
IPC结构图谱:
H | 电学 |
--H01 | 基本电气元件 |
----H01J | 放电管或放电灯 |
------H01J37/00 | 有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管,如为了对其检验或加工的 |
--------H01J37/02 | .零部件 |
----------H01J37/04 | ..电极装置及与产生或控制放电的部件有关的装置,如电子光学装置,离子光学装置 |
------------H01J37/147 | ...沿所需路径导引或偏转电子流的装置 |