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    • 83. 发明申请
    • 感放射線性樹脂組成物及び感放射線性酸発生剤
    • 辐射敏感性树脂组合物和辐射敏感酸发生器
    • WO2012096264A1
    • 2012-07-19
    • PCT/JP2012/050290
    • 2012-01-10
    • JSR株式会社丸山 研
    • 丸山 研
    • G03F7/004C07C309/12C07C381/12C08K5/42C08L33/04C09K3/00G03F7/039H01L21/027
    • G03F7/0045C07C309/06C07C309/12C07C381/12C07D493/08C08K5/42G03F7/0046G03F7/0397G03F7/2041C08L101/00
    •  現像後のパターン倒れに対する耐性、LWR及びMEEFが良好で、それらのバランスに優れた化学増幅型レジスト膜を形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供することを目的とする。本発明の感放射線性樹脂組成物は、[A]下記式(1)で表される化合物、及び[B]ベース重合体を含む感放射線性樹脂組成物である。 (式(1)中、R 1 は、炭素数1~30の1価の炭化水素基である。但し、上記炭化水素基は、-CO-、-COO-、-OCO-、-O-CO-O-、-NHCO-、-CONH-、-NH-CO-O-、-O-CO-NH-、-NH-、-S-、-SO-、-SO 2 -及び-SO 2 -O-からなる群より選択される少なくとも1種の基を有していてもよい。また、上記炭化水素基が有する水素原子の一部又は全部は、置換されていてもよい。M + は、1価のカチオンである。)
    • 本发明的目的是提供一种能够形成化学放大抗蚀剂膜的辐射敏感性树脂组合物,其在显影时表现出优异的图案抗塌陷性,LWR和MEEF,并且具有优异的平衡性。 该辐射敏感性树脂组合物包含[A]式(1)表示的化合物和[B]基础聚合物。 式(1)中,R 1为碳原子数为1〜30的一价烃基,条件是烃基可以具有选自-CO - , - COO - , - OCO - , - O-CO-O-,-NHCO-,-CONH - , - NH-CO-O-,-O-CO-NH-,-NH-,-S-,-SO-,-SO2-和 - -SO 2 -O-,并且烃基的一些或全部氢原子可以被取代; M +是一价阳离子。