专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

81. 发明专利

GB0906717D0 Backside reflection optical display 未知
公开(公告)号：GB0906717D0
公开(公告)日：2009-06-03
申请号：GB0906717
申请日：2007-09-21
申请人： UNI PIXEL DISPLAYS INC
摘要： The disclosure generally involves an optical (perhaps flat panel) display utilizing backside reflection for time-multiplexed optical shuttering. One display comprises a side-illuminated light guide associated with conditions for total internal reflection. A first surface of the light guide is elastomeric. Disposed against this elastomeric surface is an active layer that selectively deforms the elastomeric surface in locations that can correspond to display pixels. This resulting change in the geometry of the elastomeric surface can be sufficient to defeat the conditions for total internal reflection. When appropriate, light is reflected by the particular deformation and is ejected from another surface of the light guide. In this case, each location that allows light to exit could represent an activated display pixel. In certain situations, color flat panel displays of varying sizes may further implement field sequential color and time-multiplexed optical shuttering.

82. 发明专利

CA2619978A1 ELECTROMECHANICAL DYNAMIC FORCE PROFILE ARTICULATING MECHANISM 未知
公开(公告)号：CA2619978A1
公开(公告)日：2007-03-08
申请号：CA2619978
申请日：2006-08-30
申请人： UNI PIXEL DISPLAYS INC
发明人： SELBREDE MARTIN G , VAN OSTRAND DAN , KING CAREY
IPC分类号： G02B26/02
摘要： An electromechanical dynamic force profile articulating mechanism for recovering or emulating true parallel plate capacitor actuation behaviors fr om deformable membranes used in MEMS systems. The curved deformation of flexibl e membranes causes their MEMS behavior to deviate from known interactions between rigid plates that maintain geometric parallelism during ponderomotiv e actuation. The present invention teaches three methods for reacquiring parallel plate behavior: superaddition or in situ integration of a rigid region within or upon the deformable MEMS membrane; creation of isodyne regions to secure parallelism by altering the force profile upon the membran e by introducing tuned and shaped voids within the conductive region associate d with the membrane; and a hybrid composite approach wherein the conductive region is deposited after deposition of a raised rigid zone, thereby emulati ng isodyne behavior due to the increased inter-conductor distance in the vicini ty of the rigid zone, in conjunction with rigidity benefits stemming directly from said zone.

83. 发明专利

TW201635113A 具有隨機化節距的金屬網格觸控感測器审中-公开
简体标题：具有随机化节距的金属网格触摸传感器
公开(公告)号：TW201635113A
公开(公告)日：2016-10-01
申请号：TW104113660
申请日：2015-04-29
申请人：優尼畫素顯示器公司 , UNI-PIXEL DISPLAYS, INC.
发明人：洪舒 , SHU, HONG , 波森傑克詹姆士史帝芬 , POSENJAK, JAMES STEVE , 福來姆肯尼斯B , FRAME, KENNETH B. , 撒爾達那法蘭西斯寇D , SALDANA, FRANCISCO D. , 溫德特馬克 , WENDT, MARK , 多德森賴瑞C , DODSON, LARRY C. , 潘姆肯尼惠 , PHAM, KENNY HUY
IPC分类号： G06F3/041 , H01L23/52
CPC分类号： G06F17/50 , G06F3/044 , G06F2203/04103 , G06F2203/04112
摘要：本發明提供一種設計具有隨機化節距的金屬網格觸控感測器的方法，其包含擺放被配向在第一方向中的第一複數個平行導體線路代表符，被配向在該第一方向中的相鄰平行導體線路代表符之間有固定的分隔節距。針對被配向在該第一方向中的該第一複數個平行導體線路代表符中的一平行導體線路的每一個已擺放的代表符來說，一落在預設隨機化限制值裡面的第一隨機偏移量數額會被產生。該平行導體線路的該已擺放的代表符會被移動該第一隨機偏移量。
简体摘要：本发明提供一种设计具有随机化节距的金属网格触摸传感器的方法，其包含摆放被配向在第一方向中的第一复数个平行导体线路代表符，被配向在该第一方向中的相邻平行导体线路代表符之间有固定的分隔节距。针对被配向在该第一方向中的该第一复数个平行导体线路代表符中的一平行导体线路的每一个已摆放的代表符来说，一落在默认随机化限制值里面的第一随机偏移量数额会被产生。该平行导体线路的该已摆放的代表符会被移动该第一随机偏移量。

84. 发明专利

TW201635112A 具有隨機化通道位移的金屬網格觸控感測器审中-公开
简体标题：具有随机化信道位移的金属网格触摸传感器
公开(公告)号：TW201635112A
公开(公告)日：2016-10-01
申请号：TW104113659
申请日：2015-04-29
申请人：優尼畫素顯示器公司 , UNI-PIXEL DISPLAYS, INC.
发明人：胡羅丹寇阿諾德 , KHOLODENKO, ARNOLD , 洪舒 , SHU, HONG , 溫德特馬克 , WENDT, MARK , 福來姆肯尼斯B , FRAME, KENNETH B. , 撒爾達那法蘭西斯寇D , SALDANA, FRANCISCO D.
IPC分类号： G06F3/041 , G02F1/1333
CPC分类号： G06F3/044 , G06F2203/04112
摘要：一種設計具有隨機化通道位移的金屬網格觸控感測器的方法包含產生一第一導體圖樣的代表符。該第一導體圖樣的代表符會被分割成複數個行通道代表符。一隨機通道位移會被施加至至少一行通道。一第二導體圖樣的代表符會被產生。該第二導體圖樣的代表符會被分割成複數個列通道代表符。一隨機通道位移會被施加至至少一列通道。
简体摘要：一种设计具有随机化信道位移的金属网格触摸传感器的方法包含产生一第一导体图样的代表符。该第一导体图样的代表符会被分割成复数个行信道代表符。一随机信道位移会被施加至至少一行信道。一第二导体图样的代表符会被产生。该第二导体图样的代表符会被分割成复数个列信道代表符。一随机信道位移会被施加至至少一列信道。

85. 发明专利

TW201635015A 用於光刻金屬網格觸控感應器的製造之催化性光阻审中-公开
简体标题：用于光刻金属网格触摸感应器的制造之催化性光阻
公开(公告)号：TW201635015A
公开(公告)日：2016-10-01
申请号：TW104112359
申请日：2015-04-17
申请人：優尼畫素顯示器公司 , UNI-PIXEL DISPLAYS, INC.
发明人：佩特卡維奇羅伯特J , PETCAVICH, ROBERT J.
IPC分类号： G03F7/004 , G06F3/041
CPC分类号： G03F7/40 , G03F7/0047 , G03F7/038 , G03F7/16 , G03F7/162 , G03F7/2032 , G03F7/30 , G03F7/322 , G03F7/325 , G06F2203/00
摘要：本發明係關於一種催化性光阻組成物，其包括負性光阻組分及包括催化性奈米粒子之催化劑組分。負性光阻組分含量在該組成物之30重量%與95重量%之間的範圍內。催化劑組分含量在該組成物之5重量%與70重量%之間的範圍內。
简体摘要：本发明系关于一种催化性光阻组成物，其包括负性光阻组分及包括催化性奈米粒子之催化剂组分。负性光阻组分含量在该组成物之30重量%与95重量%之间的范围内。催化剂组分含量在该组成物之5重量%与70重量%之间的范围内。

86. 发明专利

TW201606125A 控制用於催化性細線或特徵之無電電鍍之氧濃度之方法审中-公开
简体标题：控制用于催化性细线或特征之无电电镀之氧浓度之方法
公开(公告)号：TW201606125A
公开(公告)日：2016-02-16
申请号：TW103128763
申请日：2014-08-21
申请人：優尼畫素顯示器公司 , UNI-PIXEL DISPLAYS, INC.
发明人：歐尼爾約翰保羅 , O'NEIL, JOHN-PAUL , 金丹良 , JIN, DANLIANG , 錢予 , CHYAN, YIEU
IPC分类号： C23C18/31
CPC分类号： C23C18/1683 , C23C18/1608 , C23C18/1617 , C23C18/1675
摘要：本發明提供一種控制用於催化性細線或特徵之無電電鍍之氧濃度的方法，該方法包括選擇基板，該基板包括作為該基板之一部分或安置在該基板上之複數個催化性線或特徵。該複數個催化性線或特徵包括至少一個催化性細線或特徵及至少一個催化性標準線或特徵。將無電電鍍溶液之溶氧濃度調節至候選控制氧濃度。在第一遍該方法中，將候選控制氧濃度設定成調節範圍中之最小值。將該基板浸在溶液中，持續一段足以起始該至少一個催化性標準線或特徵之電鍍的時間。評估該基板且增加候選控制氧濃度或選擇先前值作為調節氧濃度。
简体摘要：本发明提供一种控制用于催化性细线或特征之无电电镀之氧浓度的方法，该方法包括选择基板，该基板包括作为该基板之一部分或安置在该基板上之复数个催化性线或特征。该复数个催化性线或特征包括至少一个催化性细线或特征及至少一个催化性标准线或特征。将无电电镀溶液之溶氧浓度调节至候选控制氧浓度。在第一遍该方法中，将候选控制氧浓度设置成调节范围中之最小值。将该基板浸在溶液中，持续一段足以起始该至少一个催化性标准线或特征之电镀的时间。评估该基板且增加候选控制氧浓度或选择先前值作为调节氧浓度。

87. 发明专利

TW201606124A 用於受控制的基板深度的捲對捲無電電鍍系統审中-公开
简体标题：用于受控制的基板深度的卷对卷无电电镀系统
公开(公告)号：TW201606124A
公开(公告)日：2016-02-16
申请号：TW103134854
申请日：2014-10-07
申请人：優尼畫素顯示器公司 , UNI-PIXEL DISPLAYS, INC.
发明人：錢予 , CHYAN, YIEU , 金丹良 , JIN, DANLIANG , 歐尼爾約翰保羅 , O'NEIL, JOHN-PAUL
IPC分类号： C23C18/16
摘要：一種用於受控基板深度之捲對捲無電電鍍系統包含：無電電鍍液，配置於一無電電鍍液缸之內；一輸送系統，被組構成用以輸送一捲對捲基板材料通過該無電電鍍液；一第一深度設定輥軸，配置於該捲對捲基板材料通往該無電電鍍液之一入口位置處；以及一第二深度設定輥軸，配置於該捲對捲基板離開該無電電鍍液之一出口位置處。該第一及第二深度設定輥軸之一直徑被選擇以將該捲對捲基板材料配置於該無電電鍍液之一特定深度處。
简体摘要：一种用于受控基板深度之卷对卷无电电镀系统包含：无电电镀液，配置于一无电电镀液缸之内；一输送系统，被组构成用以输送一卷对卷基板材料通过该无电电镀液；一第一深度设置辊轴，配置于该卷对卷基板材料通往该无电电镀液之一入口位置处；以及一第二深度设置辊轴，配置于该卷对卷基板离开该无电电镀液之一出口位置处。该第一及第二深度设置辊轴之一直径被选择以将该卷对卷基板材料配置于该无电电镀液之一特定深度处。

88. 发明专利

TW201542054A 製造具有高光學穿透度、低反射率及低可見度之導電圖案的方法审中-公开
简体标题：制造具有高光学穿透度、低反射率及低可见度之导电图案的方法
公开(公告)号：TW201542054A
公开(公告)日：2015-11-01
申请号：TW103116966
申请日：2014-05-14
申请人：優尼畫素顯示器公司 , UNI-PIXEL DISPLAYS, INC.
发明人：拉馬克里斯南愛德S , RAMAKRISHNAN, ED S. , 金丹良 , JIN, DANLIANG , 錢予 , CHYAN, YEIU
IPC分类号： H05K3/10 , H05K1/02 , G06F3/041
CPC分类号： G06F3/041 , C23C18/1608 , C23C18/1651 , C23C18/40 , C23C18/54 , G06F3/044 , G06F2203/04103 , G06F2203/04112
摘要：本發明提供一種製造導電圖案之方法，該方法包括將該導電圖案之影像安置於基板上。該影像包括能夠進行無電極電鍍之材料。對該影像進行無電極電鍍以電鍍上第一金屬，從而形成經電鍍影像。該第一金屬包括銅。將該經電鍍影像浸浴於浸泡浴中，該浸泡浴包括與該第一金屬起反應之第二金屬的金屬離子源。該第二金屬包括鈀。該導電圖案包括具有第一金屬厚度之第一金屬層、金屬間第一金屬-第二金屬界面層，及具有第二金屬厚度之第二金屬層。
简体摘要：本发明提供一种制造导电图案之方法，该方法包括将该导电图案之影像安置于基板上。该影像包括能够进行无电极电镀之材料。对该影像进行无电极电镀以电镀上第一金属，从而形成经电镀影像。该第一金属包括铜。将该经电镀影像浸浴于浸泡浴中，该浸泡浴包括与该第一金属起反应之第二金属的金属离子源。该第二金属包括钯。该导电图案包括具有第一金属厚度之第一金属层、金属间第一金属-第二金属界面层，及具有第二金属厚度之第二金属层。

89. 发明专利

TW201540878A 製造具有高光學穿透度和低可見度之導電圖案的方法审中-公开
简体标题：制造具有高光学穿透度和低可见度之导电图案的方法
公开(公告)号：TW201540878A
公开(公告)日：2015-11-01
申请号：TW103116803
申请日：2014-05-13
申请人：優尼畫素顯示器公司 , UNI-PIXEL DISPLAYS, INC.
发明人：金丹良 , JIN, DANLIANG , 錢予 , CHYAN, YIEU , 拉馬克里斯南愛德S , RAMAKRISHNAN, ED. S.
IPC分类号： C25D5/14 , C25D7/12
CPC分类号： G06F3/044 , G06F2203/04103 , G06F2203/04112
摘要：本發明提供一種製造導電圖案的方法，其包含設置該導電圖案的一影像於一基板上。該影像包含能夠被無電極電鍍的材料。該影像會被一第一金屬無電極電鍍，從而形成一第一電鍍影像。第一電鍍影像會被一第二金屬無電極電鍍，從而形成一第二電鍍影像。該第二金屬會鈍化該第一金屬。該第二電鍍影像會被浸浴在一包括致黑材料(darkening material)的沉浸槽之中。
简体摘要：本发明提供一种制造导电图案的方法，其包含设置该导电图案的一影像于一基板上。该影像包含能够被无电极电镀的材料。该影像会被一第一金属无电极电镀，从而形成一第一电镀影像。第一电镀影像会被一第二金属无电极电镀，从而形成一第二电镀影像。该第二金属会钝化该第一金属。该第二电镀影像会被浸浴在一包括致黑材料(darkening material)的沉浸槽之中。

90. 发明专利

TW201531893A 使用莫爾干涉對準透明基板的方法审中-公开
简体标题：使用莫尔干涉对准透明基板的方法
公开(公告)号：TW201531893A
公开(公告)日：2015-08-16
申请号：TW103108112
申请日：2014-03-10
申请人：優尼畫素顯示器公司 , UNI-PIXEL DISPLAYS, INC.
发明人：德里克斯凱文J , DERICHS, KEVIN J.
IPC分类号： G06F3/041 , G02B27/60
CPC分类号： B32B38/1841 , B32B37/12 , B32B37/18 , B32B2307/412 , B32B2309/06 , B32B2457/208 , B32B2551/00 , Y10T156/10
摘要：一種對準透明基板的方法包含在一第一透明基板的一側面上設置一或更多莫爾(Moiré)干涉圖案，在一第二透明基板的一側面上設置一或更多倒反莫爾干涉圖案，以及利用莫爾干涉以將該第一透明基板對準於該第二透明基板。各個莫爾干涉圖案係中心對準於一相對應的倒反莫爾干涉圖案。
简体摘要：一种对准透明基板的方法包含在一第一透明基板的一侧面上设置一或更多莫尔(Moiré)干涉图案，在一第二透明基板的一侧面上设置一或更多倒反莫尔干涉图案，以及利用莫尔干涉以将该第一透明基板对准于该第二透明基板。各个莫尔干涉图案系中心对准于一相对应的倒反莫尔干涉图案。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式