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81. 发明专利

TW200829540A 二烷基胺基烷基(甲基)丙烯酸酯四級鹽之製造方法及其製造裝置审中-公开
简体标题：二烷基胺基烷基(甲基)丙烯酸酯四级盐之制造方法及其制造设备
公开(公告)号：TW200829540A
公开(公告)日：2008-07-16
申请号：TW096133685
申请日：2007-09-10
申请人：東亞合成股份有限公司 TOAGOSEI CO., LTD.
发明人：廣瀨邦彥 HIROSE, KUNIHIKO , 青山武嗣 AOYAMA, TAKETSUGU , 後藤壽一 GOTOH, JUICHI , 山本新樹 YAMAMOTO, SHINJU
IPC分类号： C07C
CPC分类号： C07C213/08 , C07C219/08
摘要：本發明係提供藉由有效率地冷卻反應液,控制反應器內之溫度上升,而可以高生產性製造高純度之DAM的方法、及適合該製造方法之製造裝置。本發明係有關於一種製造方法,其係藉由二烷基胺基烷基(甲基)丙烯酸酯、四級化劑及水連續供應至反應器,並將該反應器中之反應液連續抽出,製造二烷基胺基烷基(甲基)丙烯酸酯四級鹽的方法。該方法係從該反應器中抽出一部分之反應液,再通過熱交換器使其冷卻,然後藉由噴射器將該冷卻後之反應液和四級化劑一併供應至該反應器內。
简体摘要：本发明系提供借由有效率地冷却反应液,控制反应器内之温度上升,而可以高生产性制造高纯度之DAM的方法、及适合该制造方法之制造设备。本发明系有关于一种制造方法,其系借由二烷基胺基烷基(甲基)丙烯酸酯、四级化剂及水连续供应至反应器,并将该反应器中之反应液连续抽出,制造二烷基胺基烷基(甲基)丙烯酸酯四级盐的方法。该方法系从该反应器中抽出一部分之反应液,再通过热交换器使其冷却,然后借由喷射器将该冷却后之反应液和四级化剂一并供应至该反应器内。

82. 发明专利

TW200823150A 鉍化合物之無機陰離子交換體及利用該化合物之電子零件封裝用樹脂組成物审中-公开
简体标题：铋化合物之无机阴离子交换体及利用该化合物之电子零件封装用树脂组成物
公开(公告)号：TW200823150A
公开(公告)日：2008-06-01
申请号：TW096143354
申请日：2007-11-16
申请人：東亞合成股份有限公司 TOAGOSEI CO., LTD.
发明人：大野康晴 YASUHARU ONO
IPC分类号： C01G , H01L
CPC分类号： C01G29/00 , B01J41/10 , C01P2002/72 , C01P2002/74 , C08K3/22 , C08K3/28 , C09D1/00 , C09D7/61
摘要：【課題】藉由提供新型鉍化合物,解決一般所知的無機陰離子交換體之間的問題,提供對環境無害又高性能的無機陰離子交換體。【解決方法】粉末X射線繞射圖形中,2��=27.9�-28.1�的波峰强度為900-2000cps、且2��=8.45�-8.55�的波峰强度為100-800cps的下列化學式(1)所表之新型鉍化合物、含有該化合物的無機陰離子交換體、及含有該無機陰離子交換體的電子零件封裝用樹脂組成物。Bi(OH)x(NO3)y‧nH2O(1)⋘化學式(1)中,x係2.5以上、3以下之正數,y係0.5以下之正數,係符合x+y=3的値,n係0或正數⋙
简体摘要：【课题】借由提供新型铋化合物,解决一般所知的无机阴离子交换体之间的问题,提供对环境无害又高性能的无机阴离子交换体。【解决方法】粉末X射线绕射图形中,2��=27.9�-28.1�的波峰强度为900-2000cps、且2��=8.45�-8.55�的波峰强度为100-800cps的下列化学式(1)所表之新型铋化合物、含有该化合物的无机阴离子交换体、及含有该无机阴离子交换体的电子零件封装用树脂组成物。Bi(OH)x(NO3)y‧nH2O(1)⋘化学式(1)中,x系2.5以上、3以下之正数,y系0.5以下之正数,系符合x+y=3的値,n系0或正数⋙

83. 发明专利

TWI292768B 熱塑性樹脂組成物及其加工品 THERMOPLASTIC RESIN COMPOSITION AND PRODUCT THEREOF 有权
简体标题：热塑性树脂组成物及其加工品 THERMOPLASTIC RESIN COMPOSITION AND PRODUCT THEREOF
公开(公告)号：TWI292768B
公开(公告)日：2008-01-21
申请号：TW091112010
申请日：2002-06-04
申请人：東亞合成股份有限公司 TOAGOSEI CO., LTD.
发明人：河合道弘 MICHIHIRO KAAI , 古田圓 MADOKA FURUTA
IPC分类号： C08L
CPC分类号： C08L27/06 , C08L25/12 , C08L33/06 , C08L55/02 , C08L2666/04
摘要：本發明係提供一種可塑化效果高、柔軟性良好之熱塑性樹脂組成物者。本發明組成物係由聚合物及熱塑性樹脂所成者。聚合物為含有下記所示化學式(1)至(4)任意所代表之20重量%以上單體單元及其他單體單元為80重量%以下者。樹脂可使用聚甲基丙烯酸甲酯樹脂、聚氯乙烯樹脂、ABS樹脂等。 CH2=CHCOO(CH2CH2O)m-R……(1) CH2=C(CH3)COO(CH2CH2O)m-R……(2) CH2=CHCOO(CH2C(CH3)HO)m-R……(3) CH2=C(CH3)COO(CH2C(CH3)HO)m-R……(4)惟，化學式(1)至(4)中，m為1、2或3者， R為氫或碳數1～4之烷基者。
简体摘要：本发明系提供一种可塑化效果高、柔软性良好之热塑性树脂组成物者。本发明组成物系由聚合物及热塑性树脂所成者。聚合物为含有下记所示化学式(1)至(4)任意所代表之20重量%以上单体单元及其他单体单元为80重量%以下者。树脂可使用聚甲基丙烯酸甲酯树脂、聚氯乙烯树脂、ABS树脂等。 CH2=CHCOO(CH2CH2O)m-R……(1) CH2=C(CH3)COO(CH2CH2O)m-R……(2) CH2=CHCOO(CH2C(CH3)HO)m-R……(3) CH2=C(CH3)COO(CH2C(CH3)HO)m-R……(4)惟，化学式(1)至(4)中，m为1、2或3者， R为氢或碳数1～4之烷基者。

84. 发明专利

TWI286556B 可交錯聯結之樹脂組合物 CROSSLINKABLE RESIN COMPOSITIONS 失效
简体标题：可交错联结之树脂组合物 CROSSLINKABLE RESIN COMPOSITIONS
公开(公告)号：TWI286556B
公开(公告)日：2007-09-11
申请号：TW090112974
申请日：2001-05-29
申请人：東亞合成股份有限公司 TOAGOSEI CO., LTD.
发明人：岡崎榮一 EIICHI OKAZAKI , 松崎英男 HIDEO MATSUZAKI , 前田佳治 KEIJI MAEDA , 水谷邦彥 KUNIHIKO MIZUTANI
IPC分类号： C08F
CPC分类号： C08F8/30
摘要：藉由活性能量束照射很容易就固化，而且應用紫外線照射時固化特別快的交聯樹脂合成物，其包含：一個含有馬來醯亞胺基和一個烯鏈不飽和基。合成物可以是水性的組成，它們形成的固化膜在耐久性、不變色和氣味都極佳，同時也在磨蝕抗力、對受體膠黏性、表面平滑性、和化學抗力也非常好。
简体摘要：借由活性能量束照射很容易就固化，而且应用紫外线照射时固化特别快的交联树脂合成物，其包含：一个含有马来酰亚胺基和一个烯链不饱和基。合成物可以是水性的组成，它们形成的固化膜在耐久性、不变色和气味都极佳，同时也在磨蚀抗力、对受体胶黏性、表面平滑性、和化学抗力也非常好。

85. 发明专利

TW200728271A (偏)丙烯酸鹽之洗淨方法及製造方法审中-公开
简体标题： (偏)丙烯酸盐之洗净方法及制造方法
公开(公告)号：TW200728271A
公开(公告)日：2007-08-01
申请号：TW096102567
申请日：2007-01-23
申请人：東亞合成股份有限公司 TOAGOSEI CO., LTD.
发明人：丹羽真 MAKOTO NIWA , 木村幸治 KOUJI KIMURA , 美保享 SUSUMU MIHO
IPC分类号： C07C
CPC分类号： C07C67/58 , C07C69/54
摘要：【課題】提供透明度很高、金屬離子等雜質含量很低的(偏)丙烯酸鹽。【解決方法】係以低硬度水洗淨藉由合成所得到之(偏)丙烯酸鹽的方法。所謂低硬度水,以碳酸鈣換算,鈣離子及鎂離子之合計含量在60ppm以下之水才合於理想,可以使用。
简体摘要：【课题】提供透明度很高、金属离子等杂质含量很低的(偏)丙烯酸盐。【解决方法】系以低硬度水洗净借由合成所得到之(偏)丙烯酸盐的方法。所谓低硬度水,以碳酸钙换算,钙离子及镁离子之合计含量在60ppm以下之水才合于理想,可以使用。

86. 发明专利

TW200728270A (偏)丙烯酸酯之製造方法审中-公开
简体标题： (偏)丙烯酸酯之制造方法
公开(公告)号：TW200728270A
公开(公告)日：2007-08-01
申请号：TW095142698
申请日：2006-11-17
申请人：東亞合成股份有限公司 TOAGOSEI CO., LTD.
发明人：橋本直樹 NAOKI HASHIMOTO , 佐內康之 YASUYUKI SANAI
IPC分类号： C07C , B01J
CPC分类号： C07C67/08 , C07C67/60 , C07C69/54
摘要：在酸性催化劑存在下,使(偏)丙烯酸((meta)acrylic acid)和醇類(alcohol)做脫水酯化反應,在反應液中添加下列化學通式(1)所表之化合物及鹼金屬氫氧化物水溶液,於45~100℃之範圍內進行加熱處理,以此為特徵之(偏)丙烯酸酯的製造方法。
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简体摘要：在酸性催化剂存在下,使(偏)丙烯酸((meta)acrylic acid)和醇类(alcohol)做脱水酯化反应,在反应液中添加下列化学通式(1)所表之化合物及碱金属氢氧化物水溶液,于45~100℃之范围内进行加热处理,以此为特征之(偏)丙烯酸酯的制造方法。 095142698-p01.bmp

87. 发明专利

TW200724253A 碳酸乙烯酯含有材料的填充方法及其填充裝置审中-公开
简体标题：碳酸乙烯酯含有材料的填充方法及其填充设备
公开(公告)号：TW200724253A
公开(公告)日：2007-07-01
申请号：TW095141696
申请日：2006-11-10
申请人：東亞合成股份有限公司 TOAGOSEI CO., LTD.
发明人：新妻裕志 NIIZUMA, HIROSHI , 飯沼知久 IINUMA, TOMOHISA
IPC分类号： B08B , G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/422
摘要：本發明之目的是在於提供在處理環境溫度例如常溫下,可簡單、正確且再現性良好地測定固體狀態的EC含有原料中之顆粒數,將品質優良的EC含有材料穩定地填充至製品用容器等的填充用容器之方法、及此EC含有材料之填充裝置。本發明之方法,是將碳酸乙烯酯含有原料由碳酸乙烯酯含有原料儲藏部輸送(通液)於填充用配管,然後,將上述碳酸乙烯酯含有原料以線內(inline)的方式連續地輸送於連接於顆粒測定用配管(該配管是由該填充配管的中途分歧且被加溫),藉由連接於上述顆粒測定用配管之顆粒測定裝置,測定上述碳酸乙烯酯含有原料中的顆粒數,接著,在0.2��m以上的顆粒數到達基準値以下的時間點,將上述碳酸乙烯酯含有材料由上述填充用配管的出口填充至上述填充用容器。
简体摘要：本发明之目的是在于提供在处理环境温度例如常温下,可简单、正确且再现性良好地测定固体状态的EC含有原料中之颗粒数,将品质优良的EC含有材料稳定地填充至制品用容器等的填充用容器之方法、及此EC含有材料之填充设备。本发明之方法,是将碳酸乙烯酯含有原料由碳酸乙烯酯含有原料储藏部输送(通液)于填充用配管,然后,将上述碳酸乙烯酯含有原料以线内(inline)的方式连续地输送于连接于颗粒测定用配管(该配管是由该填充配管的中途分歧且被加温),借由连接于上述颗粒测定用配管之颗粒测定设备,测定上述碳酸乙烯酯含有原料中的颗粒数,接着,在0.2��m以上的颗粒数到达基准値以下的时间点,将上述碳酸乙烯酯含有材料由上述填充用配管的出口填充至上述填充用容器。

88. 发明专利

TW200720282A 新穎的有機矽化合物及其製造方法审中-公开
简体标题：新颖的有机硅化合物及其制造方法
公开(公告)号：TW200720282A
公开(公告)日：2007-06-01
申请号：TW095125266
申请日：2006-07-11
申请人：東亞合成股份有限公司 TOAGOSEI CO., LTD.
发明人：北村昭憲 KITAMURA, AKINORI , 鈴木浩 SUZUKI, HIROSHI , 佐藤大悟 SATO, DAIGO
IPC分类号： C07F
CPC分类号： C07F7/1836
摘要：本發明的目的,在於提供一種新穎的烷氧基矽烷化合物及其製造方法。本發明的有機矽化合物,係下述一般式(1)所表示的烷氧矽烷化合物。
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【式中,R^1、R^2、R^4、R^5及R^6係互為獨立之碳數1~10的烷基、碳數7~10的芳烷基或碳數6~10的芳香基,R＄3為碳數2~20的2價有機基,a以及b為滿足a≧0、b≧1及a+b=3之整數。但OR^2存在複數個的情況下,可分別為相同或相異。】
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简体摘要：本发明的目的,在于提供一种新颖的烷氧基硅烷化合物及其制造方法。本发明的有机硅化合物,系下述一般式(1)所表示的烷氧硅烷化合物。 095125266-p01.bmp 【式中,R^1、R^2、R^4、R^5及R^6系互为独立之碳数1~10的烷基、碳数7~10的芳烷基或碳数6~10的芳香基,R＄3为碳数2~20的2价有机基,a以及b为满足a≧0、b≧1及a+b=3之整数。但OR^2存在复数个的情况下,可分别为相同或相异。】 095125266-p01.bmp

89. 发明专利

TW200715052A 活性能線硬化型組成物(二) 审中-公开
简体标题：活性能线硬化型组成物(二)
公开(公告)号：TW200715052A
公开(公告)日：2007-04-16
申请号：TW095136967
申请日：2006-10-04
申请人：東亞合成股份有限公司 TOAGOSEI CO., LTD.
发明人：長谷川三高 MITSUTAKA HASEGAWA , 谷內健太郎 KENTARO YACHI
IPC分类号： G03F , C08F , G02B
CPC分类号： C08F290/06 , C08F8/12 , C08F222/1006 , G03F7/027
摘要：作為活性能源線硬化膜圖形形成用組成物而使用之情形時,能形成感光度高、顯影性良好、精密又正確的圖形,而且,提供在硬化後具塗膜强度、耐高溫性及抗化學藥品性等各種物理性質優良之活性能源線硬化膜組成物或圖形形成方法。該組成物係,於含有3個以上(偏)丙烯醯基和羥基之化合物中附加酸酐所形成之化合物(a)、以及酸酐或/及酸酐之水解物(b),以(a)及(b)作為必須成分,該組成物係含有此必須成分之組成物,相對於(a)成分100質量部分,(b))成分含有0.1~20質量部分之比例。該方法係將前述組成物塗佈於基板上,形成塗膜後,其上通過特定圖形之遮片,照射活性能源線使之硬化,將未硬化部分用顯影液使其顯影。
简体摘要：作为活性能源线硬化膜图形形成用组成物而使用之情形时,能形成感光度高、显影性良好、精密又正确的图形,而且,提供在硬化后具涂膜强度、耐高温性及抗化学药品性等各种物理性质优良之活性能源线硬化膜组成物或图形形成方法。该组成物系,于含有3个以上(偏)丙烯酰基和羟基之化合物中附加酸酐所形成之化合物(a)、以及酸酐或/及酸酐之水解物(b),以(a)及(b)作为必须成分,该组成物系含有此必须成分之组成物,相对于(a)成分100质量部分,(b))成分含有0.1~20质量部分之比例。该方法系将前述组成物涂布于基板上,形成涂膜后,其上通过特定图形之遮片,照射活性能源线使之硬化,将未硬化部分用显影液使其显影。

90. 发明专利

TW200700464A 聚碳矽烷及其製造方法审中-公开
简体标题：聚碳硅烷及其制造方法
公开(公告)号：TW200700464A
公开(公告)日：2007-01-01
申请号：TW095112481
申请日：2006-04-07
申请人：東亞合成股份有限公司 TOAGOSEI CO., LTD.
发明人： 野稔久 SHIMANO, TOSHIHISA , 北村昭憲 KITAMURA, AKINORI , 荒野明男 ARANO, AKIO , 鈴木浩 SUZUKI, HIROSHI
IPC分类号： C08G
CPC分类号： C08G77/60
摘要：本發明係提供一種對於汎用有機溶媒具良好溶解性之聚碳矽烷及其製造方法。本發明之聚碳矽烷係於下述一般式(1)所示側鏈中具氧雜環丁烷基之聚合物。R^1為不具氧雜環丁烷基之烷基、不具氧雜環丁烷基之芳基、或具有氧雜環丁烷基之有機基、R^2為具有氧雜環丁烷基之有機基、R^3為伸烷基、伸芳基、或伸芳烷基、n為5-200之整。
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简体摘要：本发明系提供一种对于泛用有机溶媒具良好溶解性之聚碳硅烷及其制造方法。本发明之聚碳硅烷系于下述一般式(1)所示侧链中具氧杂环丁烷基之聚合物。R^1为不具氧杂环丁烷基之烷基、不具氧杂环丁烷基之芳基、或具有氧杂环丁烷基之有机基、R^2为具有氧杂环丁烷基之有机基、R^3为伸烷基、伸芳基、或伸芳烷基、n为5-200之整。 095112481-p01.bmp 095112481-p01.bmp

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