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82. 发明专利

JP2012532448A Chucking system having a support features retracted 有权
公开(公告)号：JP2012532448A
公开(公告)日：2012-12-13
申请号：JP2012517505
申请日：2010-07-02
申请人：モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド
发明人：ガナパシスブラマニアン，マハデヴァン , メイスル，マリオ，ジョハネス , パンガ，アヴィナッシュ , チョイ，ビュン−ジン
IPC分类号： H01L21/027 , B29C33/30 , B29C59/02
CPC分类号： G03F7/7035 , B25B11/005 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03F7/703 , G03F7/70375
摘要：インプリントリソグラフィシステムにおいて、テンプレートチャック上の引っ込んだ支持体が、上部に配置されたテンプレートの形状を変化させ、ナノインプリントリソグラフィプロセスにおいてテンプレートの外縁が早期に下方偏向するのを最小限に抑え、及び／又はこれを排除することができる。
【選択図】図７

83. 发明专利

JP5084823B2 Patterning a plurality of fields on a substrate 有权
公开(公告)号：JP5084823B2
公开(公告)日：2012-11-28
申请号：JP2009504252
申请日：2007-03-29
申请人：モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド
发明人：スリーニヴァッサン，シトルガタ・ヴイ , シューメイカー，フィリップ・ディ
IPC分类号： H01L21/027 , B81C99/00
CPC分类号： G03F7/0002 , B81C1/0046 , B82Y10/00 , B82Y40/00

84. 发明专利

JP2012507859A Peeling in imprint lithography process 有权
公开(公告)号：JP2012507859A
公开(公告)日：2012-03-29
申请号：JP2011534499
申请日：2009-10-23
申请人：モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド
发明人：ガナパジスブラマニアン，マハデヴァン , チョイ，ビュン−ジン
IPC分类号： H01L21/027 , B29C59/02
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00
摘要：インプリント・リソグラフィ工程中にエアキャビティ・チャック上に保持された基板からテンプレートを剥離させる装置、方法、および工程。一般的にエアキャビティ・チャックによって供給される真空レベルを、重合可能な材料をテンプレートと基板の間に密着させている間、および、テンプレートと基板を剥離する間に制御可能とする。

85. 发明专利

JP2012054612A Method of forming recess on surface 有权
标题翻译：形成表面的方法
公开(公告)号：JP2012054612A
公开(公告)日：2012-03-15
申请号：JP2011264596
申请日：2011-12-02
申请人： Molecular Imprints Inc , モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド
发明人： SITORGATA V SRINIVASAN
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/461 , H01L21/4763 , H01L21/768
CPC分类号： H01L21/0337 , H01L21/3086 , H01L21/76816 , H01L21/76817
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To form micro-shape recesses on a surface of a substrate.SOLUTION: A pattern formation layer having a first feature with first dimension and shape is formed on a surface. A second feature having a second dimension different from the first dimension is formed by etching the pattern formation layer. The second feature is covered with an adaptation layer, and the apex of the second feature is exposed by removing an upper part of the adaptation layer. Thereafter, an inverted shape of the shape having a second dimension different from the first dimension is formed by removing the second feature by plasma etching, together with an oxygen-based chemical action in which an in-situ curing mask is generated through interaction with the adaptation layer. The inverted shape is transferred to the surface.
摘要翻译：要解决的问题：在基板的表面上形成微型凹部。解决方案：具有第一尺寸和形状的第一特征的图案形成层形成在表面上。通过蚀刻图案形成层来形成具有与第一尺寸不同的第二尺寸的第二特征。第二个特征被适配层覆盖，并且通过去除适配层的上部来暴露第二特征的顶点。此后，通过等离子体蚀刻除去第二特征，形成具有不同于第一尺寸的第二尺寸的形状的倒置形状，以及通过与其相互作用而产生原位固化掩模的氧基化学作用适应层倒置的形状被转移到表面。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

86. 发明专利

JP2011520641A Large-area roll-to-roll-imprint lithography 有权
公开(公告)号：JP2011520641A
公开(公告)日：2011-07-21
申请号：JP2011502956
申请日：2009-04-01
申请人：ボード・オブ・リージエンツ,ザ・ユニバーシテイ・オブ・テキサス・システム , モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド
发明人：シンガル，シュラワン , スリニーヴァッサン，シトルガタ・ヴイ , チョイ，ビュン−ジン , マックマッキン，イアン・エム
IPC分类号： B29C59/02 , B05D1/28 , B05D3/12 , B05D7/00 , B05D7/24 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00
摘要： Droplets of polymerizable material may be patterned on a film sheet. The droplets of polymerizable material may be dispensed on the film sheet. A pre-determined force may be applied to an imprint lithography template such that localized trapping of the droplets of the polymerizable material on the film sheet is minimized and the droplets coalesce to form a continuous layer. The polymerizable material may be solidified to form a patterned layer having a residual layer and at least one feature.

87. 发明专利

JP2011514658A Single phase fluid imprint lithography method 审中-公开
公开(公告)号：JP2011514658A
公开(公告)日：2011-05-06
申请号：JP2010545036
申请日：2009-02-05
申请人：モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド
发明人：クスナットディノヴ，ニヤズ , シュ，フランク・ワイ
IPC分类号： H01L21/027 , B29C59/02
CPC分类号： B01D19/0005 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002
摘要：本発明は、基板上に堆積された高粘度液の層の中にある気孔を低減することにより、インプリント層の中のパターン歪みを低減する方法を対象とする。その目的のために、本方法は、高粘度液に近接して配置された気体の移送を変化させるステップを含む。具体的には、パターンが記録されることになる基板に近接した雰囲気に、高粘度液、基板、テンプレート、またはそれらの組合せのいずれかに対して高度に可溶性、高度に拡散性のいずれか、あるいはその両方である気体を限度一杯含ませる。加えて、あるいは雰囲気に限度一杯含ませる代わりに、雰囲気の圧力を低下させてよい。

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