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61. 发明授权

KR101009990B1 히터 有权
公开(公告)号：KR101009990B1
公开(公告)日：2011-01-21
申请号：KR1020080110814
申请日：2008-11-10
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 강호영
IPC分类号： H01L21/687
摘要： 복수개의 기판을 챔버에 로딩한 후 동시에 열처리할 수 있는 배치형 열처리 장치에 설치되어 기판에 인가되는 열을 공급하는 히터로서, 열처리 공정이 완료된 후에는 냉각용 가스를 이용하여 챔버 내부를 신속하게 냉각시킬 수 있고 구성 요소들의 분리가 용이하여 유지 관리를 용이하게 할 수 있는 히터가 개시된다. 본 발명에 따른 히터(100)는 제1 관(110); 제1 관(110)의 외주면에 감기면서 설치되는 열선(140); 제1 관(110)과의 사이에 공간을 가지면서 제1 관(110)을 둘러싸는 제2 관(120); 제2 관(120)과의 사이에 공간을 가지면서 제2 관(120)을 둘러싸는 제3 관(130); 열선(140)으로 전원을 공급하는 단자부(400); 및 단자부(400)를 절연하는 절연부(500)를 포함하는 것을 특징으로 한다.
배치식 열처리 장치, 기판, 히터, 냉각, 절연

62. 发明授权

KR101009989B1 기판 홀더 失效
标题翻译：基板支架
公开(公告)号：KR101009989B1
公开(公告)日：2011-01-21
申请号：KR1020080093825
申请日：2008-09-24
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 허관선 , 강호영
IPC分类号： H01L21/687
摘要： 대면적 기판에 대응할 수 있도록 작은 면적을 갖는 복수개의 단위 홀더를 프레임에 결합하여 이루어진 기판 홀더가 개시된다. 본 발명에 따른 기판 홀더(100)는 복수개의 기판을 동시에 열처리할 수 있는 배치식 열처리 장치에서 기판을 지지하는 기판 홀더로서, 기판(10)이 안착되는 복수개의 단위 홀더(200); 및 복수개의 단위 홀더(200)가 안착되는 홀더 프레임(300)으로 구성된다.
기판, 열처리, 홀더

63. 发明公开

KR1020100051976A 히터 失效
标题翻译：加热器
公开(公告)号：KR1020100051976A
公开(公告)日：2010-05-19
申请号：KR1020080110813
申请日：2008-11-10
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 강호영
IPC分类号： H01L21/324 , H01L21/00
CPC分类号： H01L21/67098 , H01L21/324 , H01L21/67017
摘要： PURPOSE: A heater is provided to reduce a time for unloading substrates by rapidly cooling the inside of a chamber with a cooling gas after a heating operation is performed. CONSTITUTION: A heating line is installed on the outer circumference of a first pipe(110). A second pipe(120) surrounds the first pipe with a space. A third pipe(130) surrounds the second pipe with a space. A cooling unit(200) is installed on the both end of the third pipe. The cooling unit includes a main body, a cooling water inlet and a cooling water outlet. The cooling unit is fixed to the wall of a chamber(10) through a flange.
摘要翻译：目的：提供加热器，以便在进行加热操作之后，通过用冷却气体快速冷却室内部来减少卸载基板的时间。构成：在第一管（110）的外圆周上安装加热线。第二管（120）围绕具有空间的第一管。第三管（130）围绕具有空间的第二管。冷却单元（200）安装在第三管的两端。冷却单元包括主体，冷却水入口和冷却水出口。冷却单元通过凸缘固定在室（10）的壁上。

64. 发明公开

KR1020090114269A 대면적 기판 처리 시스템의 기판 이송 장치 失效
标题翻译：用于在大面积底层处理系统中传送基板的装置
公开(公告)号：KR1020090114269A
公开(公告)日：2009-11-03
申请号：KR1020080040122
申请日：2008-04-29
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 강호영
IPC分类号： H01L21/68 , H01L21/677
CPC分类号： H01L21/67706 , B65G39/02 , B65G49/063
摘要： PURPOSE: An apparatus for transferring substrate in large area substrate treating system is provided to move the boat including the glass substrates up and down within the chamber. CONSTITUTION: A plurality of the electromotion part(M) provides the power for the transfer of a substrate. A plurality of the deceleration part(M1) decelerates the speed of rotation of the electromotion part. A plurality of the driving part(2) transfers a substrate while moving up and down by the power delivered through the deceleration part. The driving belt(1) delivers the power happened from the electromotion part to the driving part. The tension control part(100) controls the tension of the driving belt. A plurality of the driving part is simultaneously driven by a plurality of the electromotion part.
摘要翻译：目的：提供一种用于在大面积基板处理系统中传送基板的装置，以在室内上下移动包括玻璃基板的船。构成：多个电动部分（M）提供用于转移衬底的功率。多个减速部（M1）减速电动部的旋转速度。多个驱动部（2）通过由减速部输送的动力上下移动基板。驱动带（1）将从电动部件发生的动力传递到驱动部件。张力控制部（100）控制驱动带的张力。多个驱动部由多个电动部同时驱动。

65. 发明授权

KR101661178B1 기판 프로세싱 장치 有权
标题翻译：加工过程的装置
公开(公告)号：KR101661178B1
公开(公告)日：2016-10-04
申请号：KR1020140161155
申请日：2014-11-18
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 이병일 , 박경완 , 강호영 , 박준규
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/324 , H01L21/67
CPC分类号： H01L21/02 , H01L21/324 , H01L21/67
摘要： 기판프로세싱장치가개시된다. 본발명에따른기판프로세싱장치는, 기판프로세싱장치로서, 챔버(101) 내에기판프로세싱가스를공급하는가스인릿(inlet; 300); 챔버(101) 내의기판프로세싱가스를외부로배출하는가스아웃릿(outlet; 400); 챔버(101) 내에배치되며챔버(101) 내부를가열하는히터(200); 및챔버(101)의외측면에배치되며챔버벽의온도를제어하는온도컨트롤러(500)를포함하며, 온도컨트롤러(500)는, 상기챔버내에서기화되거나건조되는기판상의물질이챔버(101)의내벽에응축되지않도록, 챔버(101)의내벽의온도를 50℃내지 250℃로유지하는것을특징으로한다.

66. 发明授权

KR101659560B1 기판처리 장치의 반응기 有权
标题翻译：装置加工基板的反应器
公开(公告)号：KR101659560B1
公开(公告)日：2016-09-23
申请号：KR1020140111757
申请日：2014-08-26
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 이병일 , 강호영
IPC分类号： H01L21/205
CPC分类号： C23C16/45544 , C23C16/4412 , C23C16/45502 , C23C16/45578 , C23C16/4583
摘要： 기판처리장치의반응기가개시된다. 본발명에따른기판처리장치의반응기는, 적어도하나의기판(40)이기판처리되는기판처리장치의반응기(reactor; 100)로서, 반응기(100)의평단면의형상은적어도두개의곡률반경을가지는것을특징으로한다.

67. 发明公开

KR1020160059356A 기판 프로세싱 장치 有权
标题翻译：加工过程的装置
公开(公告)号：KR1020160059356A
公开(公告)日：2016-05-26
申请号：KR1020140161155
申请日：2014-11-18
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 이병일 , 박경완 , 강호영 , 박준규
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/324 , H01L21/67
CPC分类号： H01L21/02 , H01L21/324 , H01L21/67
摘要： 기판프로세싱장치가개시된다. 본발명에따른기판프로세싱장치는, 기판프로세싱장치로서, 챔버(101) 내에기판프로세싱가스를공급하는가스인릿(inlet; 300); 챔버(101) 내의기판프로세싱가스를외부로배출하는가스아웃릿(outlet; 400); 챔버(101) 내에배치되며챔버(101) 내부를가열하는히터(200); 및챔버(101)의외측면에배치되며챔버벽의온도를제어하는온도컨트롤러(500)를포함하며, 온도컨트롤러(500)는, 상기챔버내에서기화되거나건조되는기판상의물질이챔버(101)의내벽에응축되지않도록, 챔버(101)의내벽의온도를 50℃내지 250℃로유지하는것을특징으로한다.
摘要翻译：公开了一种基板处理装置，其能够通过防止气体在内壁上会聚而保持室内壁的温度。根据本发明，基板处理装置包括：将基板处理气体供给到室（101）中的气体入口（300）; 气体出口（400），用于将所述室（101）中的衬底处理气体排出到外部; 安装在所述腔室（101）中以加热所述腔室（101）内部的加热器（200）; 以及设置在所述室（101）的外侧的温度控制器（500），以控制所述室壁的温度。温度控制器（500）被配置为将室（101）的内壁的温度保持在50-250℃，从而防止要蒸发或脱水的基板上的材料被冷凝在内壁该室（101）。

68. 发明公开

KR1020140128062A 기판처리장치 有权
标题翻译：加工基材的装置
公开(公告)号：KR1020140128062A
公开(公告)日：2014-11-05
申请号：KR1020130046742
申请日：2013-04-26
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 설준호 , 강호영 , 박경완 , 조병호
IPC分类号： H01L21/205 , H01L21/324
CPC分类号： H01L21/67115 , H01L21/67706 , H01L21/6875
摘要： 기판처리장치가 개시된다. 본 발명에 따른 기판처리장치는, 본체의 좌측면, 우측면 또는 후면에서 히터를 본체의 내부로 삽입하고, 본체의 외측으로 노출되는 히터의 타단부측에 형성된 단자판을 본체에 결합하고, 단자판에 외부의 전원측을 접속하거나, 커버를 분리한 상태에서 단자판이 케이스의 외측으로 노출되도록 히터를 케이스의 내부에 설치한 다음, 단자판에 외부의 전원측을 접속하면 되므로, 히터의 설치 및 유지 보수가 간편한 효과가 있다. 그리고, 히터에서 방출된 복사열은 반사판에 의하여 반사된다. 따라서, 히터에서 방출된 복사열과 반사판에서 반사된 복사열에 의하여 기판이 가열되므로, 적은 에너지를 이용하여 기판을 고온으로 가열할 수 있는 효과가 있다.
摘要翻译：提供了一种基板处理装置。根据本发明的基板处理装置简化了加热器的安装和维护，因为加热器插入到主体的左表面，右表面或后表面上的主体中，在另一端形成的端子板暴露在主体外部的加热器联接到主体，当外部电源连接到端子板或者盖子是壳体时，加热器安装在壳体内以将端子板暴露于外部，分离，然后将外部电源连接到端子板。并且，从加热器发射的辐射热被反射板反射。因此，本发明能够使用少量的能量来加热基板，因为基板被加热器发出的辐射热和从反射板反射的辐射热加热。

69. 发明公开

KR1020120140121A 기판 처리 장치 有权
标题翻译：加工基材的装置
公开(公告)号：KR1020120140121A
公开(公告)日：2012-12-28
申请号：KR1020110059804
申请日：2011-06-20
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 강호영 , 조병호
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/02
CPC分类号： H01L21/67103 , H01L21/68742 , H01L21/68785
摘要： PURPOSE: A substrate processing device is provided to improve productivity by reducing energy and time to reheat a holder. CONSTITUTION: A plurality of rollers(120) are rotatably supported in a body. A holder(130) is supported by the roller and supports a substrate. A heater is located in the chamber and generates heat to process the substrate. The lower sides of a plurality of support pins(151) are located in the lower side of the body. The upper sides of the support pins are located in the chamber via the body and pass through the holder. The support pin is protruded to the upper side of the holder, supports the substrate and mounts the substrate on the holder by downwardly moving. If the substrate mounted on the holder is completely processed, the support pin is protruded to the upper side of the holder and separates the substrate from the holder by upwardly moving.
摘要翻译：目的：提供基板处理装置，以通过减少能量和时间来重新加热支架来提高生产率。构成：多个辊子（120）可旋转地支撑在主体中。保持器（130）由辊支撑并支撑基板。加热器位于腔室中并产生热量以处理衬底。多个支撑销（151）的下侧位于主体的下侧。支撑销的上侧经由主体位于腔室中并穿过保持器。支撑销突出到支架的上侧，支撑基板并通过向下移动将基板安装在支架上。如果安装在支架上的基板被完全加工，则支撑销突出到支架的上侧，并通过向上移动将基板与支架分离。

70. 发明公开

KR1020120140119A 기판 처리 장치 有权
标题翻译：加工基材的装置
公开(公告)号：KR1020120140119A
公开(公告)日：2012-12-28
申请号：KR1020110059802
申请日：2011-06-20
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 강호영 , 조병호
IPC分类号： G02F1/13 , H01L21/324
CPC分类号： G02F1/1313 , H01L21/324 , H01L21/67098
摘要： PURPOSE: A substrate processing apparatus is provided to load/unload a substrate by using a robot arm, a holder, and a roller. CONSTITUTION: A chamber(111) is formed in a main body(110). Rollers(130) are rotatably arranged in the main body. The rollers are located in the chamber. A substrate(50) is supported by a holder(120). The holder is supported and transferred by a robot arm(60). The holder is supported by the rollers. Heaters(140) are supported in the main body. The heaters are located in the chamber. Heaters generate heat for processing a substrate.
摘要翻译：目的：提供一种基板处理装置，通过使用机器人手臂，保持器和滚子来对基板进行加载/卸载。构成：在主体（110）中形成有室（111）。辊子130可旋转地布置在主体中。辊子位于室内。衬底（50）由保持器（120）支撑。保持器由机器人臂（60）支撑和传送。支架由滚筒支撑。加热器（140）支撑在主体中。加热器位于室内。加热器产生热量以加工基材。

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