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    • 63. 发明授权
    • 이동 통신 시스템에서 맥 프로토콜 데이터 유닛을 생성하는장치 및 방법
    • 用于在移动通信系统中生成MAC PDU的装置和方法
    • KR101389075B1
    • 2014-05-26
    • KR1020070063871
    • 2007-06-27
    • 삼성전자주식회사
    • 이도영이준성김혜정
    • H04L29/02H04L29/06
    • 이동 통신 시스템의 송신단에서 맥(MAC) 프로토콜 데이터 유닛(PDU : protocol Data Unit)을 생성하는 방법에 있어서, 상기 방법은 MAC SDU 각각의 LCID(Logical Channel Identification)를 확인하는 과정과 각 LCID에 따라 기 설정한 길이 필드의 크기를 확인하여 각각의 MAC SDU(Service Data Unit)에 대한 길이(Length) 필드의 크기를 설정하는 과정과 각 MAC SDU에 대한 LCID와 설정한 길이 필드를 가지는 MAC 헤더를 생성하는 과정과 생성한 MAC 헤더와 상기 MAC SDU를 정렬한 순서로 다중화하여 MAC PDU를 생성하는 과정을 포함하고 각 LCID에 따라 기 설정한 길이 필드의 크기를 확인하여 각각의 MAC SDU에 대한 길이 필드의 크기를 설정하는 과정은 생성할 MAC PDU의 총 길이를 확인하는 과정과 다중화할 MAC SDU각각의 길이를 확인하고 길이가 큰 순서대로 정렬하는 과정과 정렬된 순서로 첫 번째 MAC SDU의 길이 필드의 크기를 MAC PDU의 총 길이를 표현할 수 있는 크기 중 가장 작은 자연수로 설정하는 과정과 정렬된 순서로 두 번째 MAC SDU부터 설정하는 해당 MAC SDU의 길이 필드의 크기를 정렬된 순서로 이전 순서의 MAC SDU의 길이를 표현할 수 있는 크기 중 가장 작은 자연수로 설정하는 과정을 포함한다.
      MAC, MAC 헤더, 길이(Length) 필드, 맥(MAC) 프로토콜 데이터 유닛(PDU : protocol Data Unit), MAC SDU(Service Data Unit)
    • 64. 发明公开
    • 화학 기상 증착 장치
    • 化学蒸气沉积装置
    • KR1020140062360A
    • 2014-05-23
    • KR1020120129047
    • 2012-11-14
    • 삼성전자주식회사
    • 사공탄이도영김성태김영선윤석호
    • H01L21/205
    • A chemical vapor deposition apparatus according to an embodiment of the present invention comprises a chamber body having a hollow type space therein; a susceptor formed inside the chamber body and having at least one pocket with a substrate placed thereon; a heating unit arranged on the lower part of the susceptor and heating the substrate; a chamber cover arranged on the upper part of the chamber body, having a storage chamber for accommodating reaction gas formed therein and a reaction space formed with a space apart from the susceptor, and supplying the reaction gas to the reaction gas space for the reaction gas to flow along the surface of the susceptor; and a blocking unit having the inner circumferential surface coated with one substance selected from a group composed of SiC, C and Y_2O_3.
    • 根据本发明的实施例的化学气相沉积设备包括其中具有中空型空间的室主体; 形成在所述腔体内并具有放置在其上的衬底的至少一个凹穴的基座; 加热单元,其布置在所述基座的下部并加热所述基板; 设置在所述室主体的上部的室盖,具有用于容纳形成的反应气体的储存室和形成有与所述基座隔开的空间的反应空间,并将所述反应气体供应到所述反应气体的反应气体空间 沿着基座的表面流动; 以及具有涂覆有选自由SiC,C和Y_2O_3组成的组的一种物质的内周面的阻挡单元。