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61. 发明公开

KR1020060102449A 역류 방지기구를 갖는 반도체 소자의 제조장비 无效
标题翻译：用于制造具有预防回流的仪器的半导体器件的装置
公开(公告)号：KR1020060102449A
公开(公告)日：2006-09-27
申请号：KR1020050024295
申请日：2005-03-23
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김정남
IPC分类号： H01L21/22
摘要： 역류 방지기구를 갖는 반도체 소자 제조장비를 제공한다. 상기 반도체 소자 제조장비는 확산로를 구비한다. 상기 확산로에 배기가스 방향전환부가 연결된다. 상기 배기가스 방향전환부에 진공펌프가 연결된다. 상기 진공펌프에 드라이 스크러버가 연결된다. 상기 배기가스 방향전환부는 솔레노이드 밸부들을 구비할 수 있다.
확산로, 배기가스 방향전환부, 솔레노이드 밸브

62. 发明公开

KR1020060101818A 반도체 제조설비의 배관연결장치 无效
标题翻译：半导体制造设备管接头
公开(公告)号：KR1020060101818A
公开(公告)日：2006-09-26
申请号：KR1020050023376
申请日：2005-03-21
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김정남
IPC分类号： H01L21/02
CPC分类号： H01L21/02 , F16L21/06 , F16L55/07
摘要： 반도체 제조설비의 배관연결장치를 제공한다. 제공된 배관연결장치는 반응가스가 이동되도록 서로 연결된 배관들을 고정시키는 클램프와 클램프를 포함한 배관들의 연결부위에 장착되는 리키지방지유닛을 포함한다. 따라서, 배관연결장치는 클램프에의해 고정된 연결부위에서 반응가스가 누설되어도 리키지방지유닛을 통해 차단하게 된다.

63. 发明公开

KR1020060098569A 반도체 제조용 가스공급장치 无效
标题翻译：用于半导体制造的气体供应系统
公开(公告)号：KR1020060098569A
公开(公告)日：2006-09-19
申请号：KR1020050017729
申请日：2005-03-03
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김정남
IPC分类号： H01L21/02
CPC分类号： H01L21/02 , F16K5/103 , H01L21/67242
摘要： 개시된 반도체 제조용 가스공급장치는 케미컬을 저장하는 저장용기와 저장용기로 특성가스를 유입하는 가스유입유로와 저장용기내에 유입된 특성가스와 케미컬과 반응되어 생성된 반응가스를 공정챔버로 공급하는 가스유출유로와 가스유입유로와 가스유출유로를 연결하고, 특성가스를 개폐하는 가스연결유로와 가스유출유로 상의 복수 지점에서 공정챔버로 공급되는 반응가스 유량값을 측정하여 반응가스 공급을 개폐하는 유량제어유닛 및 가스연결유로 상에서 특성가스의 누설 여부를 감지하여 특성가스를 개폐하는 누설감지유닛을 구비함으로써, 특성가스와 케미컬과 반응하여 생성된 반응가스가 공정챔버로 균일한 양으로 공급되도록 하고, 케미컬과 반응하여 반응가스를 생성하도록 공급되는 특성가스가 누설되어 공정챔버로 직접 유입되지 않도록 하여 제품수율을 높이고, 공정사고를 방지할 수 있는 효과가 있다.

64. 发明公开

KR1020060094216A 웨이퍼 이송 장치 无效
标题翻译：用于运输波浪的装置
公开(公告)号：KR1020060094216A
公开(公告)日：2006-08-29
申请号：KR1020050015199
申请日：2005-02-24
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김정남
IPC分类号： H01L21/68
CPC分类号： H01L21/67742 , B25J11/0095 , H01L21/67265
摘要： 확산 설비 내부로 다수의 웨이퍼들을 이송시키기 위한 웨이퍼 이송 장치는, 다수의 웨이퍼들을 수납하고 있는 카세트로부터 상기 웨이퍼를 지지하고 이송하기 위한 이송 유닛과, 상기 카세트로부터 돌출된 웨이퍼를 상기 카세트 내부로 삽입하기 위한 푸셔 유닛을 포함한다. 상기 푸셔 유닛은 상기 이송 유닛의 일 측에 구비되어 상기 카세트를 향하여 이동이 가능하여 상기 돌출된 웨이퍼를 밀어 상기 카세트 내부로 상기 웨이퍼를 정상적으로 안착시킬 수 있다. 따라서, 상기 카세트 내부의 웨이퍼들의 손상 및 오염을 줄일 수 있다.

65. 发明公开

KR1020060087050A 챔버 세정용 보트 无效
标题翻译：船用清洗桶
公开(公告)号：KR1020060087050A
公开(公告)日：2006-08-02
申请号：KR1020050007820
申请日：2005-01-28
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김정남
IPC分类号： H01L21/205 , H01L21/304
CPC分类号： C23C16/4405 , C23C16/45591 , H01L21/67028
摘要： 종형로의 세정용 보트는 몸체부가 기판 증착 공정이 수행되는 공간을 제공하는 공정 챔버의 개구를 통해 내부로 삽입되어 상기 공정 챔버의 공간을 채운다. 요철부는 상기 공정 챔버의 세정을 위해 상기 공정 챔버로 공급된 세정 가스의 흐름을 방해하기 위해 상기 몸체의 외측면에 형성된다. 상기 몸체부는 중공의 원통 형태로 형성되며 상기 요철부는 상기 원통 형태의 몸체부의 측면 둘레를 따라 형성된다. 따라서 적은 양의 세정 가스로 높은 세정 효과를 얻을 수 있다.

66. 发明公开

KR1020060085720A 카세트 지지 장치 无效
标题翻译：支持CASSETTE的设备
公开(公告)号：KR1020060085720A
公开(公告)日：2006-07-28
申请号：KR1020050006509
申请日：2005-01-25
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김정남
IPC分类号： H01L21/68
CPC分类号： H01L21/67775 , Y10S414/14
摘要： 다수의 기판들을 수용하는 카세트를 지지하기 위한 장치에 있어서, 베이스 플레이트는 지면상 또는 챔버 하부에 지지되며, 지지 플레이트는 상기 베이스 플레이트와 소정 거리 이격되어 위치하며, 상기 베이스 및 지지 플레이트는 연결 부재로 연결되어 있다. 상기 연결 부재는 지지 플레이트와 나사 결합되어 있어 상기 지지 플레이트의 높이를 조절할 수 있고, 상기 지지 플레이트가 받는 카세트의 하중 및 외부 충격을 완화시킨다. 또한, 다수의 지지핀들이 베이스 및 지지 플레이트 사이에 구비되어 카세트의 하중으로 인한 상기 베이스 및 지지 플레이트 사이의 이격 거리를 일정하게 유지할 수 있다.

67. 发明公开

KR1020060081768A 세정용 보트 및 이를 포함하는 반도체 제조 장치 无效
标题翻译：用于制造使用其的半导体的清洁船和灭火器
公开(公告)号：KR1020060081768A
公开(公告)日：2006-07-13
申请号：KR1020050002173
申请日：2005-01-10
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김정남
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： H01L21/67323 , H01L21/67028
摘要： 본 발명은 세정용 보트 및 이를 포함하는 반도체 제조 장치에 관한 것으로, 세정용 보트 및 이를 포함하는 반도체 제조 장치는 측면에 요철이 형성된 바디 및 바디 상면에 형성되어 바디의 직경보다 크게 형성된 헤드로 이루어져 있다.
보트, 세정, 튜브, 확산 공정

68. 发明公开

KR1020060081523A 웨이퍼 이송 장치 无效
公开(公告)号：KR1020060081523A
公开(公告)日：2006-07-13
申请号：KR1020050001998
申请日：2005-01-10
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김정남
IPC分类号： H01L21/68
CPC分类号： H01L21/67742 , H01L21/67028 , H01L21/67303
摘要： 반도체 웨이퍼 제조 공정에 사용되는 웨이퍼 이송 장치에서, 공정 챔버로 웨이퍼들을 이송하여 반도체 제조 공정을 수행하기 위한 보트가 구비된다. 상기 보트는 상기 웨이퍼들을 수평으로 삽입하기 위한 다수의 슬롯들이 수직 방향으로 각각 배치된 다수의 지지부재들을 구비한다. 상기 웨이퍼들은 이송 암에 의해 상기 보트의 슬롯들에 삽입된다. 상기 이송 암에는 상기 보트에 흡착되는 파티클을 제거하기 위하여 상기 보트를 향하도록 배치되는 파티클 제거부가 장착된다. 상기 파티클 제거부는 유체를 분사하여 상기 보트에 흡착된 파티클을 제거한다. 따라서, 상기 보트의 표면에 흡착된 파티클을 제거함으로써, 반도체 웨이퍼 제조 공정에서 상기 파티클로 인하여 발생할 수 있는 웨이퍼들의 결함을 방지할 수 있다.

69. 发明公开

KR1020060073117A 웨이퍼 이송 로봇 암 无效
标题翻译：移动机器人手臂
公开(公告)号：KR1020060073117A
公开(公告)日：2006-06-28
申请号：KR1020040111975
申请日：2004-12-24
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김정남
IPC分类号： H01L21/68
CPC分类号： B25J15/0616 , B25J11/0095 , H01L21/67742 , H01L21/68707 , Y10S414/141
摘要： 본 발명은 챔버 내부에 설치되어 웨이퍼를 흡착하여 이송시키는 반도체 소자 제조 장치의 웨이퍼 이송 로봇 암(Robot Arm)에 관한 것으로서, 웨이퍼를 흡착하는 진공 흡입력이 인가되는 흡착 홈이 형성되어 있는 웨이퍼 탑재 패널부와, 그 흡착 홈과 연결되는 내부 공간을 가지며 웨이퍼 탑재 패널부로부터 돌출된 흡착 팬 결합부를 포함하는 흡착 팬과; 탑재 패널부가 수용되는 결합홈부와 흡착 팬 결합부가 내부에 수용되는 로봇 암 결합부를 포함하는 로봇 암 몸체부와; 로봇 암 몸체부 내부에 수용된 흡착 팬 결합부와 결합되는 진공 라인; 및 로봇 암 결합부와 체결되어 진공 라인과 흡착 팬 결합부의 결합 상태를 유지시키는 고정구;를 갖는 것을 특징으로 한다. 이에 따르면, 웨이퍼 흡착 패널부와 흡착 팬 결합부가 일체로 형성되고 흡착 팬과 진공 라인과의 결합 상태가 로봇 암 몸체부와 고정구의 결합에 의해 유지되기 때문에 흡착 팬과 진공 라인의 결합이 정확하게 이루어지고 안정적인 결합 상태가 유지될 수 있다.
로봇 암, 흡착 팬, 흡착 패들, 웨이퍼, 챔버

70. 发明公开

KR1020060072531A 자동 온도 제어 수단을 구비한 로드락 장치 无效
标题翻译：具有自动温度控制装置的装载机
公开(公告)号：KR1020060072531A
公开(公告)日：2006-06-28
申请号：KR1020040111197
申请日：2004-12-23
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김정남
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/205
CPC分类号： H01L21/67201 , H01L21/67098 , H01L21/67248
摘要： 본 발명은 자동 온도 제어 수단을 구비한 로드락 장치에 관한 것으로서, 로드락 챔버의 내부 온도를 실시간으로 측정하는 온도 감지부와, 퍼지 라인을 통해 가열되어 유입되는 퍼지 가스의 양을 조절하는 가스 조절 밸브, 온도 감지부로부터 전송 받은 온도 값과 설정된 온도 값을 비교하여 가스 조절 밸브의 개폐 각도를 제어하는 제어부를 포함하는 자동 온도 제어 수단을 구비한 로드락 장치를 제공함으로써, 로드락 챔버의 내부 온도를 일정하게 유지시켜 웨이퍼 상의 반응 부산물이 생성되는 것을 억제할 수 있다. 또한, 로드락 챔버 내부의 부식을 억제하여 로드락 장치의 결함을 줄일 수 있다.
로드락 챔버, 웨이퍼 증착 설비, 자동 온도 제어, 염화암모니아, 퍼지 가스

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