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61. 发明专利

TW201911577A 場效感測器审中-公开
简体标题：场效传感器
公开(公告)号：TW201911577A
公开(公告)日：2019-03-16
申请号：TW107124317
申请日：2018-07-13
申请人：美商伊路米納有限公司 , ILLUMINA, INC.
发明人：博雅諾維博雅恩 , BOYANOV, BOYAN
IPC分类号： H01L29/772 , G01N33/50
摘要：本發明揭示用於單分子場效感測器之設備及方法，該等場效感測器具有藉由一單一活性部分官能化的導電通道。一奈米結構(例如，一矽奈米線或一碳奈米管)之一區提供該導電通道。該奈米結構之阱狀態密度針對該奈米結構之在該活性部分鍵聯至該奈米結構之一位置附近的一部分予以改質。在一個實例中，半導體裝置包括一源極、一汲極、包括具有一改質部分之一奈米結構的一通道，該改質部分具有一增大之阱狀態密度，該改質部分藉由一活性部分進一步官能化。一閘極端子與該奈米結構電連通。隨著一變化電信號被施加至與該奈米結構通道接觸之一離子溶液，自該半導體裝置觀測到的電流改變可用以識別被分析物的組成。
简体摘要：本发明揭示用於单分子场效传感器之设备及方法，该等场效传感器具有借由一单一活性部分官能化的导电信道。一奈米结构(例如，一硅奈米线或一碳奈米管)之一区提供该导电信道。该奈米结构之阱状态密度针对该奈米结构之在该活性部分键联至该奈米结构之一位置附近的一部分予以改质。在一个实例中，半导体设备包括一源极、一汲极、包括具有一改质部分之一奈米结构的一信道，该改质部分具有一增大之阱状态密度，该改质部分借由一活性部分进一步官能化。一闸极端子与该奈米结构电连通。随着一变化电信号被施加至与该奈米结构信道接触之一离子溶液，自该半导体设备观测到的电流改变可用以识别被分析物的组成。

63. 发明专利

TW201833627A 用於使用混合模式光源之改進的聚焦追蹤的系統和方法审中-公开
简体标题：用于使用混合模式光源之改进的聚焦追踪的系统和方法
公开(公告)号：TW201833627A
公开(公告)日：2018-09-16
申请号：TW107107073
申请日：2018-03-02
申请人：美商伊路米納有限公司 , ILLUMINA, INC.
发明人：寇迪羅丹尼羅 , CONDELLO, DANILO , 皮恩斯賽門 , PRINCE, SIMON , 哈爾格斯大衛 , HARGIS, DAVID , 班迪克傑瑞佛 , BENDICK, JEFFREY , 史格爾克里斯托福 , SIGEL, CHRISTOPHE
IPC分类号： G02B27/10 , H01S3/101
摘要：本文中所揭示之系統及方法包括一種成像系統，其可包括：一雷射二極體源；一物鏡，其經定位以將來自該光源之一聚焦追蹤光束引導至一樣品容器中的一位置上且接收自樣品反射的該聚焦追蹤光束；及一影像感測器，其可包括複數個像素位置，該複數個像素位置用以接收反射離開該樣品容器中的該位置之聚焦追蹤光束，其中該反射的聚焦追蹤光束可在該影像感測器上產生一光點。一些實例可進一步包括一雷射二極體光源，該雷射二極體光源以一功率位準操作，該功率位準高於用於在一放大自發性發射(「ASE」)模式下操作之一功率位準，但低於用於單模操作之一功率位準。
简体摘要：本文中所揭示之系统及方法包括一种成像系统，其可包括：一激光二极管源；一物镜，其经定位以将来自该光源之一聚焦追踪光束引导至一样品容器中的一位置上且接收自样品反射的该聚焦追踪光束；及一影像传感器，其可包括复数个像素位置，该复数个像素位置用以接收反射离开该样品容器中的该位置之聚焦追踪光束，其中该反射的聚焦追踪光束可在该影像传感器上产生一光点。一些实例可进一步包括一激光二极管光源，该激光二极管光源以一功率位准操作，该功率位准高于用于在一放大自发性发射(“ASE”)模式下操作之一功率位准，但低于用於单模操作之一功率位准。

64. 发明专利

TW201830604A 流通槽封裝及其製造方法审中-公开
简体标题：流通槽封装及其制造方法
公开(公告)号：TW201830604A
公开(公告)日：2018-08-16
申请号：TW106145310
申请日：2017-12-22
申请人：美商伊路米納有限公司 , ILLUMINA, INC. , 英商伊路米納劍橋有限公司 , ILLUMINA CAMBRIDGE LIMITED
发明人：蔡詹姆士 , TSAY, JAMES , 派瑞湖安密維 , PRABHU, ANMIV , 海恩能大衛 , HEINER, DAVID , 李艾德文 , LI, EDWIN , 瑞奇茲亞歷山大 , RICHEZ, ALEXANDRE , 拜耳李約翰M , BEIERLE, JOHN M. , 珊蜜凱維恩 , SAMIEE, KEVAN , 慕挪資克里斯汀娜 , MUNOZ, KRISTINA , 曼雷維恩奇克李奧尼德 , MALEVANCHIK, LEONID , 米森盧達維克 , VINCENT, LUDOVIC , 戰乃乾 , ZHAN, NAIQIAN , 謝珮唐 , SHIEH, PEYTON , 楊羅伯特 , YANG, ROBERT , 史契密特莎曼珊 , SCHMITT, SAMANTHA , 朴相律 , PARK, SANG , 貝利史考特 , BAILEY, SCOTT , 瑞曼尼茲尚恩M , RAMIREZ, SEAN M. , 安舜閔 , AHN, SUNMIN , 奧茲里維賴爾 , UZZELL, VALERIE , 韋瑋 , WEI, WEI , 黃玉祥 , HUANG, YUXIANG , 迪爾泰勒傑米森 , DILL, TYLER JAMISON
IPC分类号： H01L23/29 , G01N33/53
摘要：一種流通槽封裝包括第一及第二表面經修飾之圖案化晶圓及分隔層。該第一表面經修飾之圖案化晶圓包括：第一凹陷，其由第一間隙區域分離；第一官能化分子，其結合至該等第一凹陷中之至少一些中的第一矽烷或矽烷衍生物；以及第一引子，其接枝至該等第一凹陷中之該至少一些中的該第一官能化分子。該第二表面經修飾之圖案化晶圓包括：第二凹陷，其由第二間隙區域分離；第二官能化分子，其結合至該等第二凹陷中之至少一些中的第二矽烷或矽烷衍生物；以及第二引子，其接枝至該等第二凹陷中之該至少一些中的該第二官能化分子。該分隔層將至少一些第一間隙區域接合至至少一些第二間隙區域，且至少部分地界定該流通槽封裝之各別流體室。
简体摘要：一种流通槽封装包括第一及第二表面经修饰之图案化晶圆及分隔层。该第一表面经修饰之图案化晶圆包括：第一凹陷，其由第一间隙区域分离；第一官能化分子，其结合至该等第一凹陷中之至少一些中的第一硅烷或硅烷衍生物；以及第一引子，其接枝至该等第一凹陷中之该至少一些中的该第一官能化分子。该第二表面经修饰之图案化晶圆包括：第二凹陷，其由第二间隙区域分离；第二官能化分子，其结合至该等第二凹陷中之至少一些中的第二硅烷或硅烷衍生物；以及第二引子，其接枝至该等第二凹陷中之该至少一些中的该第二官能化分子。该分隔层将至少一些第一间隙区域接合至至少一些第二间隙区域，且至少部分地界定该流通槽封装之各别流体室。

65. 发明专利

TW201827811A 固態檢驗設備及使用方法审中-公开
简体标题：固态检验设备及使用方法
公开(公告)号：TW201827811A
公开(公告)日：2018-08-01
申请号：TW106142546
申请日：2017-12-05
申请人：美商伊路米納有限公司 , ILLUMINA, INC.
发明人：皮恩托喬瑟夫法蘭西斯 , PINTO, JOSEPH FRANCIS , 伊爾尼約翰格哈特 , EARNEY, JOHN GERHARDT , 伯恩 M 善恩 , BOWEN, M. SHANE , 格瑞吉麥克S , GRAIGE, MICHAEL S. , 皮特拉阿瑟 , PITERA, ARTHUR , 韋恩卡特斯恩巴拉穆拉尼 , VENKATESAN, BALA MURALI
IPC分类号： G01N21/64 , G01N21/01
摘要：本發明提供一種檢驗設備，其包含一光學目標物，該光學目標物包括一固態主體材料及嵌入於該固態主體材料中的一螢光材料。該固態主體材料具有一預定光子能量HOSTPE。該螢光材料顯現一選擇接地能階及與該接地能階分開對應於所關注之一螢光發射波長之一第一能隙的一目標物激勵(TE)能階。該螢光材料具有相對於該TE能階之一次低窪(NLL)能階。該NLL能階在該TE能階下方隔開一第二能隙FMEG2，其中該FMEG2/HOSTPE之一比率為三或大於三。
简体摘要：本发明提供一种检验设备，其包含一光学目标物，该光学目标物包括一固态主体材料及嵌入于该固态主体材料中的一萤光材料。该固态主体材料具有一预定光子能量HOSTPE。该萤光材料显现一选择接地能阶及与该接地能阶分开对应于所关注之一萤光发射波长之一第一能隙的一目标物激励(TE)能阶。该萤光材料具有相对于该TE能阶之一次低洼(NLL)能阶。该NLL能阶在该TE能阶下方隔开一第二能隙FMEG2，其中该FMEG2/HOSTPE之一比率为三或大于三。

66. 发明专利

TW201827803A 壓力及洩漏測試方法审中-公开
简体标题：压力及泄漏测试方法
公开(公告)号：TW201827803A
公开(公告)日：2018-08-01
申请号：TW106145536
申请日：2017-12-25
申请人：美商伊路米納有限公司 , ILLUMINA, INC.
发明人：德斯布萊德凱恩特 , DREWS, BRADLEY KENT , 凱配凱文 , CAPPA, KEVIN
IPC分类号： G01L7/16 , G01L13/02
摘要：一種分析系統包括一流體系統，該流體系統包括數個組件，該等組件互連以形成具有複數個流徑之一流體系統。一種對該流體系統進行壓力測試之實例方法包括：(a)根據一指定測試協定而自該複數個流徑選擇穿過一流量槽之一流徑；(b)致動一泵以對該經選擇流徑中之一流體加壓；(c)產生表示該經選擇流徑中之壓力的壓力資料；及(d)處理該壓力資料以判定該經選擇流徑是否以所要方式維持壓力。
简体摘要：一种分析系统包括一流体系统，该流体系统包括数个组件，该等组件互连以形成具有复数个流径之一流体系统。一种对该流体系统进行压力测试之实例方法包括：(a)根据一指定测试协定而自该复数个流径选择穿过一流量槽之一流径；(b)致动一泵以对该经选择流径中之一流体加压；(c)产生表示该经选择流径中之压力的压力数据；及(d)处理该压力数据以判定该经选择流径是否以所要方式维持压力。

68. 发明专利

TWI697114B 圖像感測器結構和形成其之方法有权
简体标题：图像传感器结构和形成其之方法
公开(公告)号：TWI697114B
公开(公告)日：2020-06-21
申请号：TW107139670
申请日：2018-11-08
申请人：美商伊路米納有限公司 , ILLUMINA, INC.
发明人：蔡秀雨 , CAI, XIUYU , 阿加阿里 , AGAH, ALI , 馮締時 , FUNG, TRACY , 戴林格戴特里奇 , DEHLINGER, DIETRICH
IPC分类号： H01L27/146 , G01J1/02

69. 发明专利

TW202014696A 用於定序的方法以及用於定序的系統审中-公开
简体标题：用于定序的方法以及用于定序的系统
公开(公告)号：TW202014696A
公开(公告)日：2020-04-16
申请号：TW109100583
申请日：2018-02-27
申请人：美商伊路米納有限公司 , ILLUMINA, INC.
发明人：隆格洛一斯羅伯特 , LANGLOIS, ROBERT , 班里特茲保羅 , BELITZ, PAUL
IPC分类号： G01N21/64 , G06T5/00 , H04N5/357
摘要：本發明描述用於在具有重複光點之圖案化樣品的成像期間動態地修正影像失真的技術。可在多循環成像運程之第一成像循環期間針對樣品之不同區計算影像失真修正係數之不同集合，且隨後將該些集合即時地應用於在後續循環期間產生之影像資料。在一個實施中，可藉由以下操作計算用於具有重複光點之圖案化樣品之影像的影像失真修正係數：估計該影像之仿射變換；使該影像清晰化；及反覆地搜尋用於經清晰化影像之最佳失真修正係數集合，其中反覆地搜尋用於該經清晰化影像之該最佳失真修正係數集合包括計算該影像中之光點部位的平均純度，且其中在該搜尋之每一反覆期間應用所估計仿射變換。
简体摘要：本发明描述用于在具有重复光点之图案化样品的成像期间动态地修正影像失真的技术。可在多循环成像运程之第一成像循环期间针对样品之不同区计算影像失真修正系数之不同集合，且随后将该些集合实时地应用于在后续循环期间产生之影像数据。在一个实施中，可借由以下操作计算用于具有重复光点之图案化样品之影像的影像失真修正系数：估计该影像之仿射变换；使该影像清晰化；及反复地搜索用于经清晰化影像之最佳失真修正系数集合，其中反复地搜索用于该经清晰化影像之该最佳失真修正系数集合包括计算该影像中之光点部位的平均纯度，且其中在该搜索之每一反复期间应用所估计仿射变换。

70. 发明专利

TW202004156A 光學清潔盒审中-公开
简体标题：光学清洁盒
公开(公告)号：TW202004156A
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：TW108112487
申请日：2019-04-10
申请人：美商伊路米納有限公司 , ILLUMINA, INC.
发明人：庫瑪阿席斯 , KUMAR, ASHISH , 紐恩曼彼得克拉克 , NEWMAN, PETER CLARKE
IPC分类号： G01N1/34
摘要：本申請涉及光學清潔盒。公開了一種用於自動清潔分析儀器的光學部件的光學清潔盒。
简体摘要：本申请涉及光学清洁盒。公开了一种用于自动清洁分析仪器的光学部件的光学清洁盒。

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