专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

51. 发明专利

MY152964A WATER-REACTIVE AL COMPOSITE MATERIAL FOR THERMAL SPRAY, WATER-REACTIVE THERMALLY SPRAYED AL FILM, PROCESS FOR THE PRODUCTION OF THE THERMALLY SPRAYED AL FILM, AND CONSTITUENT MEMBER FOR FILM-FORMING CHAMBER 未知
公开(公告)号：MY152964A
公开(公告)日：2014-12-15
申请号：MYPI20104886
申请日：2009-04-27
申请人： ULVAC INC
发明人： YUTAKA KADOWAKI , TOMOKO SAITOU , WENG LIM KENG , KATSUHIKO MUSHIAKE
IPC分类号： C23C4/06
摘要： HEREIN DISCLOSED ARE A WATER-REACTIVE AL COMPOSITE MATERIAL WHICH COMPRISES 4NAI OR 5NAI CONTAINING ADDED IN IN AN AMOUNT RANGING FROM 2 TO 5% BY MASS; AND ADDED Si AND Si AS AN IMPURITY IN A TOTAL AMOUNT RANGING FROM 0.04 TO 0.6% BY MASS ON THE BASIS OF THE AMOUNT OF AL; A THERMALLY SPRAYED AL FILM PREPARED USING THIS MATERIAL; A METHOD FOR THE PRODUCTION OF SUCH AN AL FILM; AND A CONSTITUENT MEMBER FOR A FILM-FORMING CHAMBER, WHICH IS PROVIDED WITH THIS THERMALLY SPRAYED AL FILM ON THE SURFACE THEREOF. (FIG. 2)

52. 发明专利

MY152957A WATER-REACTIVE AL COMPOSITE MATERIAL FOR THERMAL SPRAY, WATER-REACTIVE THERMALLY SPRAYED AL FILM, PROCESS FOR THE PRODUCTION OF THE THERMALLY SPRAYED AL FILM, AND CONSTITUENT MEMBER FOR FILM-FORMING CHAMBER 未知
公开(公告)号：MY152957A
公开(公告)日：2014-12-15
申请号：MYPI20104874
申请日：2009-04-27
申请人： ULVAC INC
发明人： YUTAKA KADOWAKI , TOMOKO SAITOU , WENG LIM KENG , KATSUHIKO MUSHIAKE
IPC分类号： C23C4/06
摘要： PROVIDED HEREIN ARE A WATER-REACTIVE AL COMPOSITE MATERIAL WHICH COMPRISES 4NAI OR 5NAI, AS AN AL RAW MATERIAL, CONTAINING, ON THE BASIS OF THE AMOUNT OF THE AL RAW MATERIAL, ADDED BI IN AN AMOUNT RANGING FROM 0.8 TO 1.4% BY MASS AND SI, INCLUDING THE SI AS AN IMPURITY OF THE AL RAW MATERIAL, IN A TOTAL AMOUNT RANGING FROM 0.25 TO 0.7% BY MASS; A THERMALLY SPRAYED AL FILM PRODUCED USING THIS AL COMPOSITE MATERIAL; A METHOD FOR THE PRODUCTION OF THIS AL FILM; AND A CONSTITUENT MEMBER FOR A FILM-FORMING CHAMBER, WHICH IS PROVIDED, ON THE SURFACE, WITH THE THERMALLY SPRAYED AL FILM. (FIGURE 2)

53. 发明专利

MY152678A WATER-REACTIVE AL COMPOSITE MATERIAL FOR THERMAL SPRAY, WATER-REACTIVE THERMALLY SPRAYED AL FILM, PROCESS FOR THE PRODUCTION OF THE THERMALLY SPRAYED AL FILM, AND CONSTITUENT MEMBER FOR FILM-FORMING CHAMBER 未知
公开(公告)号：MY152678A
公开(公告)日：2014-10-31
申请号：MYPI20104873
申请日：2009-04-27
申请人： ULVAC INC
发明人： YUTAKA KADOWAKI , TOMOKO SAITOU , WENG LIM KENG , KATSUHIKO MUSHIAKE
IPC分类号： C23C4/06
摘要： PROVIDED HEREIN ARE A WATER-REACTIVE AL COMPOSITE MATERIAL COMPRISING AN AL RAW MATERIAL SELECTED FROM THE GROUP CONSISTING OF 2NAL TO 5NAL EACH CONTAINING CU AS AN IMPURITY OF AL IN AN AMOUNT OF NOT HIGHER THAN 40 PPM, AND AT LEAST ONE METAL SELECTED FROM THE GROUP CONSISTING OF IN AND BI, IN AMOUNTS RANGING FROM 2 TO 5% BY MASS AND 0.7 TO 1.4% BY MASS, RESPECTIVELY, ON THE BASIS OF THE MASS OF AL; A WATER-REACTIVE AL FILM PRODUCED USING THIS COMPOSITE MATERIAL; A METHOD FOR THE PRODUCTION OF THIS AL FILM; AND A CONSTITUENT MEMBER FOR A FILM-FORMING CHAMBER, WHICH IS PROVIDED, ON THE SURFACE, THIS WATER-REACTIVE AL FILM. (FIG. 1)

54. 发明专利

ES2445415T3 Aparato para producir una lámina multicapa y procedimiento de producción de lámina multicapa 未知
公开(公告)号：ES2445415T3
公开(公告)日：2014-03-03
申请号：ES10251790
申请日：2010-10-13
申请人： KOJIMA PRESS KOGYO KK , ULVAC INC
发明人： ITO KAORU , NOGUCHI MASUMI , TANAKA HIDEAKI , IKEDA HIROYUKI , SHIMOMURA MAKOTO , TADA ISAO , HAYASHI NOBUHIRO , IRIKURA HAGANE
IPC分类号： C23C14/56 , B05D7/24 , C23C14/06 , C23C14/20 , H01G4/015 , H01G4/18 , H01G13/00
摘要： Aparato para producir una lámina multicapa comprendiendo: una cámara de vacío (22) que incluye, en un interior de la misma, un rodillo de alimentación (28) para desenrollaruna película de resina (12) de un rollo de película de resina, y un rodillo estirador (30) para enrollar la película deresina desenrollada del rollo; medios de escape (24, 26) para expulsar la atmósfera en la cámara de vacío, por lo que el interior de la cámara devacío está en un estado de vacío; un primer rodillo (32) dispuesto en la cámara de vacío, la película de resina desenrollada del rollo de la película deresina por el rodillo de alimentación estando enrollada en el primer rodillo de tal manera que una superficie de lapelícula de resina se orienta hacia el exterior, un segundo rodillo (34) dispuesto en la cámara de vacío, la película de resina enviada desde el primer rodilloestando enrollada sobre el segundo rodillo de tal manera que la superficie de la película de resina se orienta hacia elexterior; un tercer rodillo (36) dispuesto en la cámara de vacío, la película de resina enviada desde el segundo rodillo estandoenrollada en el tercer rodillo de tal manera que la otra superficie de la película de resina se orienta hacia el exterior;un medio de accionamiento (90, 92) que accionan de forma giratoria al menos uno de los rodillos de alimentación, elrodillo estirador, el primer rodillo, el segundo rodillo, y el tercer rodillo, enviando así la película de resina desde ellado del rodillo de alimentación hacia el lado del rodillo estirador; un primer medio de deposición de vapor de metal (38a, 40a) para formar una primera película metálica depositadaen fase vapor (14) en la superficie de la película de resina, alrededor del primer rodillo; un primer medios de polimerización deposición de vapor (52a, 52b, 54a, 54b) para formar una primera película depolímero depositada en vapor (18) en la primera película metálica depositada en vapor formada por una superficiede la película de resina, en los alrededores del segundo rodillo; y un segundo medio de deposición de vapor de metal (38b, 40b) para formar una segunda película metálicadepositada en fase vapor (16) en la otra superficie de la película de resina, en los alrededores del tercer rodillo, porlo que se obtiene la lámina multicapa que comprende la película de resina, la primera película metálica depositadaen fase vapor, la segunda película de metal depositado en fase vapor y la primera película de polímero depositadoen fase vapor.

55. 发明专利

DE112011101956T5 Solarzellen-Herstellungsvorrichtung und Solarzellen-Herstellungsverfahren 未知
公开(公告)号：DE112011101956T5
公开(公告)日：2013-05-02
申请号：DE112011101956
申请日：2011-06-08
申请人： ULVAC INC
发明人： SAKATA GENJI
IPC分类号： H01L21/265 , H01L31/04
摘要： Geschaffen sind eine Solarzellen-Herstellungsvorrichtung und ein Solarzellen-Herstellungsverfahren, die hohe Massen-Produktivität bei niedrigen Kosten erreichen. Die Solarzellen-Herstellungsvorrichtung enthält: eine Beladungsschleusenkammer 2, eingerichtet, Beladen und Entladen eines Substrats S durch Wechseln zwischen atmosphärischer Umgebung und Unterdruck-Umgebung zu ermöglichen; eine Bearbeitungskammer 4, in der das Substrat S für eine Solarzelle mit Fremdionen zum Ausbilden einer p-n-Sperrschicht in der Unterdruck-Umgebung zu dotieren ist; und eine Beförderungskammer 1, die eine Fördereinheit 6 enthält, eingerichtet, das Substrat S zwischen der Beladungsschleusenkammer 2 und der Bearbeitungskammer 4 zu befördern. Das Dotieren mit Fremdionen erfolgt durch Bestrahlen mit den Fremdionen aus einer Ionenkanone 5, und an der Ionenkanone 5 ist eine Gitterplatte 52 als ihre Ionen-Abstrahlungsfläche vorgesehen, die zu dem Substrat S weist, das in die Bearbeitungskammer 4 gefördert ist.

56. 发明专利

SG188239A1 WATER-REACTIVE AL-BASED COMPOSITE MATERIAL, WATER-REACTIVE AL-BASED THERMALLY SPRAYED FILM, PROCESS FOR PRODUCTION OF SUCH AL-BASED THERMALLY SPRAYED FILM, AND CONSTITUENT MEMBER FOR FILM-FORMING CHAMBER 未知
公开(公告)号：SG188239A1
公开(公告)日：2013-04-30
申请号：SG2013012141
申请日：2011-08-12
申请人： ULVAC INC
发明人： KADOWAKI YUTAKA , SAITOU TOMOKO , MUSHIAKE KATSUHIKO
摘要： WATER-REACTIVE AL-BASED COMPOSITE MATERIAL, WATER-REACTIVE AL-BASED THERMALLY SPRAYED FILM, PROCESS FOR PRODUCTION OF SUCH AL-BASED THERMALLY SPRAYED FILM, AND CONSTITUENT MEMBER FOR FILM-FORMING CHAMBERHerein provided are a water-reactive Al-based composite material which is characterized in that it is produced by incorporating, into Al, 2.0 to 3.5% by mass of In, 0.2 to 0.5% by mass of Si and 0.13 to 0.25% by mass of Ti, and which can be dissolved in water through the reaction thereof in a water-containing atmosphere; a water-reactive Al-based thermally sprayed film produced using this composite material; a method for the production of this Al-based thermally sprayed film; and a constituent member for a film-forming chamber which is provided with this Al-based thermally sprayed film on the surface thereof.Fig. 2

57. 发明专利

DE112010000717T8 Plasmaverarbeitungsvorrichtung 未知
公开(公告)号：DE112010000717T8
公开(公告)日：2013-04-18
申请号：DE112010000717
申请日：2010-01-06
申请人： ULVAC INC
发明人： WAKAMATSU SADATSUGU , KAMESAKI KOJI , KIKUCHI MASASHI , JIMBO YOSUKE , ETO KENJI , ASARI SHIN , UCHIDA HIROTO
IPC分类号： H01L21/205 , C23C16/455 , C23C16/505 , H01L31/04

58. 发明专利

DE112009002717T5 Elektrodenschaltung, Schichterzeugungsvorrichtung, Elektrodeneinheit und Schichterzeugungsverfahren 未知
公开(公告)号：DE112009002717T5
公开(公告)日：2013-03-21
申请号：DE112009002717
申请日：2009-11-12
申请人： ULVAC INC
发明人： MATSUMOTO KOICHI , YODA HIDENORI , MORIOKA YAWARA , OKAYAMA SATOHIRO , YAJIMA TARO
IPC分类号： C23C16/509 , H01L21/205 , H01L31/04 , H05H1/46
摘要： Eine Elektrodenschaltung für Plasma-CVD enthält: eine Wechselstromquelle; eine Anpass-Schaltung, die mit der Wechselstromquelle verbunden ist; und Parallelplattenelektroden, die aus einem Paar aus einer Anodenelektrode und einer Kathodenelektrode aufgebaut sind, wobei die Anodenelektrode und die Kathodenelektrode so angeordnet sind, dass Elektrodenoberflächen der Anodenelektrode und der Kathodenelektrode einander gegenüberliegen. Die Anpass-Schaltung, die Parallelplattenelektroden und ein durch die Parallelplattenelektroden erzeugtes Plasma bilden eine symmetrische Schaltung.

59. 发明专利

DE112010003274T5 Verfahren zur Herstellung eines Sputtertargets sowie Sputtertarget 未知
公开(公告)号：DE112010003274T5
公开(公告)日：2012-12-27
申请号：DE112010003274
申请日：2010-08-10
申请人： ULVAC INC
发明人： HAGIHARA JUNICHIROU , KAMBARA SHOZO , HIGASHI SHUICHI
IPC分类号： C23C14/34 , C22F1/00 , C22F1/04 , C22F1/08 , C22F1/18
摘要： [Aufgabe] Bereitstellen eines Verfahrens zur Herstellung eines Sputtertargets sowie eines Sputtertargets, die in der Lage sind, eine Verfeinerung und Gleichmäßigkeit von Kristallkörnern zu erzielen. [Mittel zur Lösung] Ein Verfahren zur Herstellung eines Sputtertargets gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung weist das Schmieden eines aus Metall gebildeten Blocks durch Ausüben eines Drucks in eine erste Achsenrichtung (z-Achsenrichtung) sowie in eine Ebenenrichtung (xy-Ebenenrichtung) auf, die orthogonal zur ersten Achsenrichtung ist. Der Block wird zusätzlich geschmiedet, indem ein Druck in eine zweite Achsenrichtung (axiale Richtungen c11, c12, c21, c22) ausgeübt wird, die eine Richtung, die parallel zur ersten Achsenrichtung ist, schräg schneidet. Der Block wird bei einer Temperatur wärmebehandelt, die gleich oder höher ist als eine Rekristallisationstemperatur desselben. Da die Gleitumformung nicht nur in der ersten Achsenrichtung und der zu dieser orthogonalen Ebenenrichtung erfolgen kann, sondern auch in der zweiten Achsenrichtung, kann auf diese Weise die hohe Dichte und Gleichmäßigkeit eines internen Drucks erzielt werden.

60. 发明专利

DE112008004261A5 Schichtabscheidevorrichtung und Schichtabscheideverfahren 未知
公开(公告)号：DE112008004261A5
公开(公告)日：2012-12-13
申请号：DE112008004261
申请日：2008-02-25
申请人： ULVAC INC
发明人： IMAMURA SHUNICHI , ARIMA HIROYASU , NAKAMURA HAJIME , SAITO KAZUYA
IPC分类号： C23C14/34 , C23C14/54 , C23C14/56

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式