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41. 发明申请

WO2010028748A1 IMAGING OPTICAL SYSTEM 审中-公开
标题翻译：成像光学系统
公开(公告)号：WO2010028748A1
公开(公告)日：2010-03-18
申请号：PCT/EP2009/006171
申请日：2009-08-26
申请人： CARL ZEISS SMT AG , MANN, Hans-Jürgen , SCHÖPPACH, Armin , ZELLNER, Johannes
发明人： MANN, Hans-Jürgen , SCHÖPPACH, Armin , ZELLNER, Johannes
IPC分类号： G02B17/06 , G02B5/10 , G02B7/182 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G02B7/181 , G02B17/0657 , G02B17/0663 , G02B21/04 , G02B26/06 , G02B26/0825 , G03F7/70233 , G03F7/70266
摘要： An imaging optical system (31) with a plurality of mirrors (Ml to M6), which image an object field (4) in an object plane (5) into an image field (8) in an image plane (9), according to either one of the following configurations : a) a connecting axis (32), which is perpendicular to the object plane (5) and runs through the geometric centre point of the mirror (M2), which is spatially most closely adjacent to the object field (4), the mirror (M2) most closely adjacent to the object field (4), is arranged at a spacing (A) from the object field (4), which is greater than a spacing (B) of an entry pupil plane (30) of the imaging optical system (31), said pupil plane (30) lying in the beam path of the imaging light (3) upstream of the object field (4), from the object field (4); b) - with an entry pupil plane (30), which lies in the beam path of the imaging light (30) upstream of the object field (4), wherein the imaging light (3) is reflected on the object plane (5), - with a connecting axis (32) which is perpendicular to the object plane (5) and runs through the geometric centre point of the entry pupil, - wherein an intersection point (C) of the connecting axis (32) with the entry pupil plane (30) is closer to the object plane (5) than a first intersection point (D) in the beam path of the imaging light (3) downstream of the object field (4), of a main beam (33) of a central object field point with the connecting axis (32), - wherein at least one of the mirrors (M5, M6) has a through-opening (18, 19) for imaging light (3) to pass through; c) the imaging optical system (7; 31), spaced apart from a first mirror (M5), which is most closely adjacent to one of the two fields (4, 8) and is designated a neighbouring mirror, has a deformable further mirror (M3), which is arranged in a plane, which is optically conjugated to an arrangement plane of the neighbouring mirror (M5) in the imaging optical system (7; 31); d) a support body (21) of a mirror (M5), which is most closely adjacent to one of the two fields (4, 8), of the neighbouring mirror, is made of a material, the modulus of elasticity of which is at least twice as great as the modulus of elasticity of the material of the support body (22) of at least one of the other mirrors (M 1 to M4, M6).
摘要翻译：一种具有多个反射镜（M1至M6）的成像光学系统（31），其将目标平面（5）中的物体场（4）成像到图像平面（9）中的图像场（8），根据以下配置之一：a）垂直于物平面（5）并穿过反射镜（M2）的几何中心点的连接轴线（32），空间上最接近物体场（4）中，与物场（4）最紧密相邻的反射镜（M2）以与入射光瞳面（B）的间隔（B）大的距离物距离（A）的距离（A）（30）在所述物场（4）的上游位于所述成像光（3）的光束路径中的所述成像光学系统（31）的所述光束平面（30）中。 b） - 具有入射光瞳平面（30），其位于物场（4）上游的成像光（30）的光束路径中，其中成像光（3）在物平面（5）上被反射， - 具有垂直于物平面（5）并穿过入射光瞳的几何中心点的连接轴线（32），其中连接轴线（32）与入射光瞳的交点（C）平面（30）比物位（4）下游的成像光（3）的光束路径中的第一交点（D）更靠近物平面（5），主光束具有连接轴（32）的中心物体场点， - 其中至少一个反射镜（M5，M6）具有用于使光（3）成像通过的通孔（18,19） c）与第二反射镜（M5）间隔开的成像光学系统（7; 31），其与两个场（4,8）中的一个最接近并被指定为相邻的反射镜，具有可变形的另外的反射镜（M3），其布置在与所述成像光学系统（7; 31）中的相邻反射镜（M5）的配置平面光学共轭的平面中; d）与邻近反射镜的两个场（4,8）中的一个最紧密相邻的反射镜（M5）的支撑体（21）由材料制成，其弹性模量为是至少一个其它反射镜（M 1至M4，M6）的支撑体（22）的材料的弹性模量的至少两倍。

42. 发明申请

WO2009115180A1 PROJECTION OBJECTIVE FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：投影目标的微观算法
公开(公告)号：WO2009115180A1
公开(公告)日：2009-09-24
申请号：PCT/EP2009/001448
申请日：2009-02-28
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ZELLNER, Johannes , MANN, Hans-Jürgen , ENDRES, Martin
发明人： ZELLNER, Johannes , MANN, Hans-Jürgen , ENDRES, Martin
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70316 , G02B17/0663 , G03F7/702 , G03F7/70233
摘要： A projection objective (7) for microlithography is used for imaging an object field (4) in an object plane (5) into an image field (8) in an image plane (9). The projection objective (7) comprises at least six mirrors (M1 to M6) of which at least one mirror has a freeform reflecting surface. According to one aspect of the invention, the ratio between an overall length (T) of the projection objective (7) and an object image shift (d OIS ) is smaller than 12. According to another aspect of the invention, the image plane (9) is the first field plane of the projection objective (7) downstream of the object plane (5). According to another aspect of the invention, the projection objective has a plurality of mirrors (M1 to M6), wherein the ratio between an overall length (T) and an object image shift (d OIS ) is smaller than 2.
摘要翻译：用于微光刻的投影物镜（7）用于将物平面（5）中的物场（4）成像为图像平面（9）中的图像场（8）。投影物镜（7）包括至少六个反射镜（M1至M6），其中至少一个反射镜具有自由形反射表面。根据本发明的一个方面，投影物镜（7）的总长（T）与物体像偏移（dOIS）之间的比率小于12.根据本发明的另一方面，图像平面（9 ）是物平面（5）下游的投影物镜（7）的第一场平面。根据本发明的另一方面，投影物镜具有多个反射镜（M1至M6），其中总长度（T）和物体图像偏移（dOIS）之间的比率小于2。

43. 发明申请

WO2009052932A1 IMAGING OPTICAL SYSTEM AND PROJECTION EXPOSURE INSTALLATION FOR MICRO-LITHOGRAPHY WITH AN IMAGING OPTICAL SYSTEM OF THIS TYPE 审中-公开
标题翻译：用这种类型的成像光学系统进行微成像的成像光学系统和投影曝光安装
公开(公告)号：WO2009052932A1
公开(公告)日：2009-04-30
申请号：PCT/EP2008/008381
申请日：2008-10-02
申请人： CARL ZEISS SMT AG , MANN, Hans-Jürgen
发明人： MANN, Hans-Jürgen
IPC分类号： G03F7/20 , G02B17/00
CPC分类号： G03F7/702 , G02B17/02 , G02B17/0652 , G03F7/70058 , G03F7/70225 , G03F7/70233 , G03F7/70275
摘要： An imaging optical system (7) comprises a plurality of mirrors (Ml to M8), which image an object field (4) in an object plane (5) into an image field (8) in an image plane (9). At least one of the mirrors (M6, M7, M8) is obscured, and thus has a through-opening (21) for imaging light (15) to pass through. The fourth-last mirror (M5) in the light path before the image field (8) is not obscured and provides, with an outer edge (22) of the optically effective reflection surface thereof, a central shadowing in a pupil plane (17) of the imaging optical system (7). The distance between the fourth-last mirror (M5) and the last mirror (M8) is at least 10 % of the distance between the object field (4) and the image field (8). An intermediate image plane (23), which is closest to the image plane (9), is arranged between the last mirror (M8) and the image plane (9). The imaging optical system (7) has a numerical aperture of 0.9. These measures, not all of which must be effected simultaneously, lead to an imaging optical system with improved imaging properties and/or reduced production costs.
摘要翻译：成像光学系统（7）包括将物体平面（5）中的物体场（4）成像到图像平面（9）中的图像场（8）中的多个反射镜（M1至M8）。至少一个反射镜（M6，M7，M8）被遮蔽，因此具有用于使光（15）成像通过的通孔（21）。在图像场（8）之前的光路中的第四后镜（M5）不被遮蔽，并且在其光学有效反射表面的外边缘（22）处提供瞳平面（17）中的中心阴影，的成像光学系统（7）。第四镜（M5）和最后镜（M8）之间的距离至少为物场（4）与图像场（8）之间距离的10％。最靠近图像平面（9）的中间像平面（23）布置在最后一个反射镜（M8）和图像平面（9）之间。成像光学系统（7）的数值孔径为0.9。这些措施，并不是所有这些都必须同时进行，导致成像光学系统具有改进的成像性能和/或降低生产成本。

44. 发明申请

WO2008071294A1 MICROSCOPE AND MICROSCOPY METHOD FOR SPACE-RESOLVED MEASUREMENT OF A PREDETERMINED STRUCTURE, IN PARTICULAR A STRUCTURE OF A LITHOGRAPHIC MASK 审中-公开
标题翻译：微观结构和微观方法用于预测结构的空间分辨率测量，特别是LITHOGRAPHIC MASK的结构
公开(公告)号：WO2008071294A1
公开(公告)日：2008-06-19
申请号：PCT/EP2007/010044
申请日：2007-11-20
申请人： CARL ZEISS SMS GMBH , MANN, Hans-Jürgen , TOTZECK, Michael , KERWIEN, Norbert
发明人： MANN, Hans-Jürgen , TOTZECK, Michael , KERWIEN, Norbert
IPC分类号： G02B21/06 , G02B21/00
CPC分类号： G03F7/70625 , G02B21/0092 , G02B21/06 , G02B21/16 , G02B27/28 , G02B27/283 , G03F1/0092 , G03F1/84 , G03F7/70616
摘要： A microscope is provided for space-resolved measurement of a predetermined structure (12), said microscope comprising a source of radiation (2), which emits electromagnetic radiation (3) of a predetermined wavelength, an optical system (13), which irradiates the electromagnetic radiation (3) onto the structure (12) to be measured and images the structure (12), irradiated with the electromagnetic radiation, onto a detector (9), wherein the optical system (13) has two eigen polarization conditions (Z1, Z2), and the apparatus includes a polarization module (4) by which a polarization condition can be set for the electromagnetic radiation (3) of the source of radiation (2), which condition includes only components of a known quantity which correspond to the eigen polarization conditions (Z1, Z2).
摘要翻译：提供了用于对预定结构（12）进行空间分辨测量的显微镜，所述显微镜包括发射预定波长的电磁辐射（3）的辐射源（2），光学系统（13），其照射将电磁辐射（3）放置在要测量的结构（12）上并将照射有电磁辐射的结构（12）成像到检测器（9）上，其中光学系统（13）具有两个特征极化条件（Z1， Z2），并且该装置包括偏振模块（4），通过该偏振模块可以为辐射源（2）的电磁辐射（3）设置偏振条件，该条件仅包括已知量的对应于特征极化条件（Z1，Z2）。

45. 发明申请

WO2004046771A1 PROJECTION LENS WITH NON- ROUND DIAPHRAGM FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：具有非圆形膜片的投影镜头用于微结构
公开(公告)号：WO2004046771A1
公开(公告)日：2004-06-03
申请号：PCT/EP2002/014620
申请日：2002-12-20
申请人： CARL ZEISS SMT AG , MANN, Hans-Jürgen , SINGER, Wolfgang
发明人： MANN, Hans-Jürgen , SINGER, Wolfgang
IPC分类号： G02B5/00
CPC分类号： G03F7/70233 , G02B5/005 , G02B17/0657 , G03F7/7025
摘要： A projection lens for microlithography comprises a diaphragm (BL) which is arranged at a distance (D) in front of a mirror (S2) of the lens. The diaphragm (BL) has an aperture (28) having an edge contour which is extended (28') in a non-round manner according to the inclination of the principal ray (34) and according to the distance (D) between the diaphragm (BL) and the mirror (S2).
摘要翻译：用于微光刻的投影透镜包括在透镜的镜（S2）前方距离（D）配置的光阑（BL）。隔膜（BL）具有孔（28），其具有根据主光线（34）的倾斜度并且根据隔膜（34）之间的距离（D）以非圆形方式延伸（28'）的边缘轮廓（BL）和镜子（S2）。

46. 发明申请

WO2010112328A1 IMAGING OPTICS AND PROJECTION EXPOSURE INSTALLATION FOR MICROLITHOGRAPHY WITH AN IMAGING OPTICS OF THIS TYPE 审中-公开
标题翻译：使用这种类型的成像光学的成像光学和投影曝光安装
公开(公告)号：WO2010112328A1
公开(公告)日：2010-10-07
申请号：PCT/EP2010/053341
申请日：2010-03-16
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ZELLNER, Johannes , DODOC, Aurelian , PRETORIUS, Marco , MENKE, Christoph , ULRICH, Wilhelm , MANN, Hans-Jürgen
发明人： ZELLNER, Johannes , DODOC, Aurelian , PRETORIUS, Marco , MENKE, Christoph , ULRICH, Wilhelm , MANN, Hans-Jürgen
IPC分类号： G02B17/06 , G03F7/20
CPC分类号： G02B17/0657 , G03F7/70233
摘要： An imaging optics (7) has a plurality of mirrors (M1 to M6), which image an object field (4) in an object plane (5) in an image field (8) in an image plane (9). A pupil plane (17) is arranged in the imaging beam path between the object field (4) and the image field (8). A stop (20) is arranged in the pupil plane (17). The pupil plane (17) is tilted, in other words adopts an angle (α) with respect to the object plane (5), which is greater than 0.1°. An imaging optics results, with which a handleable combination of small imaging errors, manageable production and good throughput for the imaging light is achieved.
摘要翻译：成像光学器件（7）具有多个反射镜（M1至M6），其对图像平面（9）中的图像场（8）中的物体平面（5）中的物体场（4）进行成像。在物场（4）和图像场（8）之间的成像光束路径中布置瞳平面（17）。在光瞳平面（17）中设置有一个止动件（20）。瞳平面（17）倾斜，换句话说，相对于物平面（5）采取大于0.1°的角度（a）。可以获得成像光学元件，实现了成像光的小成像误差，可管理生产和良好生产量的可处理组合。

47. 发明申请

WO2009024164A1 PROJECTION OBJECTIVE HAVING MIRROR ELEMENTS WITH REFLECTIVE COATINGS 审中-公开
标题翻译：投影目标具有反射涂层的镜子元件
公开(公告)号：WO2009024164A1
公开(公告)日：2009-02-26
申请号：PCT/EP2007/007326
申请日：2007-08-20
申请人： CARL ZEISS SMT AG , CHAN, Danny , MANN, Hans-Jürgen , MIGURA, Sascha
发明人： CHAN, Danny , MANN, Hans-Jürgen , MIGURA, Sascha
IPC分类号： G03F7/20 , G02B17/06 , G21K1/06
CPC分类号： G03F7/70308 , B82Y10/00 , G02B5/0891 , G02B13/143 , G02B17/0663 , G03F7/70233 , G21K1/062 , G21K2201/067
摘要： An optical system comprises a plurality of elements arranged to image radiation at a wavelength λ from an object field in an object surface to an image field in an image surface. The elements include mirror elements having a reflective surface formed by a reflective coating positioned at a path of radiation. At least one of the mirror elements has a rotationally asymmetrical reflective surface deviating from a best-fit rotationally symmetric reflective surface by about λ or more at one or more locations. The elements include an apodization correction element effective to correct a spatial intensity distribution in an exit pupil of the optical system relative to the optical system without the apodization correcting element. Preferably the apodization correction element is effective to increase symmetry of the spatial intensity distribution in the exit pupil relative to the optical system without the apodization correcting element.
摘要翻译：光学系统包括多个元件，其被布置成以波长λ 从对象表面中的对象字段到图像表面中的图像字段。元件包括具有由位于辐射路径处的反射涂层形成的反射表面的镜元件。至少一个镜子元件具有偏离最佳配合的旋转对称反射表面的旋转非对称的反射表面约或更多在一个或多个位置。这些元件包括有效地校正光学系统的出射光瞳相对于没有变迹校正元件的光学系统的空间强度分布的变迹校正元件。优选地，变迹校正元件有效地增加出射光瞳相对于没有变迹校正元件的光学系统的空间强度分布的对称性。

48. 发明申请

WO2005036266A1 MASKEN, LITHOGRAPHIEVORRICHTUNG UND HALBLEITERBAUELEMENT 审中-公开
标题翻译：口罩，光刻设备和半导体元件
公开(公告)号：WO2005036266A1
公开(公告)日：2005-04-21
申请号：PCT/EP2003/010338
申请日：2003-09-17
申请人： CARL ZEISS SMT AG , MANN, Hans-Jürgen , LOWISCH, Martin , SINGER, Wolfgang
发明人： MANN, Hans-Jürgen , LOWISCH, Martin , SINGER, Wolfgang
IPC分类号： G03F1/14
CPC分类号： B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/24 , G03F7/70091 , G03F7/70191 , G21K2201/061
摘要： Die Erfindung betrifft Masken mit einer Multilayerbeschichtung einer bestimmten Periodendickenverteilung, wie sie in Lithographievorrichtungen zur Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet werden. Ein Problem von Projektionsoptiken ist die Pupillenapodisierung, die zu Abbildungsfehlern führt. Erfindungsgemässe wird vorgeschlagen, die Periodendicke in der Maskenebene grösser als die für maximale Reflektivät ideale Periodendicke zu wählen. Dadurch wird nicht nur die Apodisierung über die Pupille symmetrischer, sondern auch die Intensitätsvariation wird insgesamt geringer.
摘要翻译：本发明涉及一种具有特定的厚度分布周期的多层涂层的掩模，如在光刻设备用于制造半导体器件。投影光学装置的一个问题是光瞳切趾，这导致的像差。本发明提出了选择在掩模平面比理想最大Reflektivät周期厚度大的周期厚度。不仅变迹对称于瞳孔，而且强度变化是较低的整体。

49. 发明申请

WO2004057400A1 PROJEKTIONSOPTIK FÜR DIE LITHOGRAPHIE UND SPIEGEL FÜR EINE SOLCHE 审中-公开
标题翻译：投影光学系统，用于该光刻和反射镜
公开(公告)号：WO2004057400A1
公开(公告)日：2004-07-08
申请号：PCT/EP2003/011005
申请日：2003-10-04
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SAND, Rolf , MANN, Hans-Jürgen , ULRICH, Wilhelm
发明人： SAND, Rolf , MANN, Hans-Jürgen , ULRICH, Wilhelm
IPC分类号： G02B17/06
CPC分类号： G03F7/70233 , G02B5/09 , G02B5/10 , G02B5/1838 , G02B5/1861 , G02B5/1895 , G02B17/0657 , G02B27/4211 , G02B27/4216 , G02B27/4222 , G03F7/70308 , G21K1/06
摘要： Es wird vorgeschlagen, asphärische Komponenten der Abbildungseigenschaften einer Spiegeloptik und/oder die Behebung chromatischer Fehler einer solchen Optik dadurch zu bewerkstelligen, dass man auf mindestens einem (M6) der Spiegel dieser Optik eine Zonenstruktur (16) vorsieht, die durch Beugung an konzentrischen Zonenelementen (26) im Randbereich des Spiegels eine zusätzliche asphärische bildgebende Funktion beiträgt.
摘要翻译：提出了通过在同心区元件提供（通过衍射来实现的反射镜的光学元件和/或在至少一个（M6），该区域结构该光学系统（16）的反射镜的这种光学系统的色误差的校正的成像特性的非球面成分 26）在所述反射镜的边缘区域有助于附加的非球面的成像功能。

50. 发明申请

WO2011012267A1 VERGRÖSSERNDE ABBILDENDE OPTIK SOWIE METROLOGIESYSTEM MIT EINER DERARTIGEN ABBILDENDEN OPTIK 审中-公开
标题翻译：与这样的成像光学器件放大成像光学和测量系统
公开(公告)号：WO2011012267A1
公开(公告)日：2011-02-03
申请号：PCT/EP2010/004519
申请日：2010-07-23
申请人： Carl Zeiss SMS GmbH , MANN, Hans-Jürgen
发明人： MANN, Hans-Jürgen
IPC分类号： G02B17/06 , G03F7/20
CPC分类号： G02B5/08 , F21V7/00 , G02B17/0663 , G03F7/70233
摘要： Eine vergrößernde abbildende Optik (1) hat mindestens vier Spiegel (M1 bis M4), die ein Objektfeld (2) in einer Objektebene (3) in ein Bildfeld (4) in einer Bildebene (5) abbilden. Ein Betrag des Petzvalradius des Bildfeldes (4) ist größer als 500 mm. Es resultiert eine abbildende Optik, bei der eine Inspektion auch größerer Maskenabschnitte von Lithographiemasken, die bei der Projektionsbelichtung zur Herstellung hochintegrierter Halbleiterbauteile eingesetzt werden, mit ausreichender Abbildungsqualität möglich ist.
摘要翻译：的放大成像光学系统（1）具有至少四个反射镜（M1至M4），其在图像平面（5）跟踪对象字段（2）中的对象平面（3）成图像场（4）。像场（4）的佩兹伐半径的量是大于500毫米。其结果是成像光学系统，其中光刻掩模，其在投影曝光于高度集成的半导体部件的制造中使用的即使是大掩模部分的检查，可以以足够的图像质量。

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