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41. 发明公开

KR1020120021488A 네가티브 감광성 수지 조성물 无效
标题翻译：负性光敏树脂组合物
公开(公告)号：KR1020120021488A
公开(公告)日：2012-03-09
申请号：KR1020100075050
申请日：2010-08-03
申请人： 주식회사 동진쎄미켐 , 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 여태훈 , 김병욱 , 윤혁민 , 구기혁 , 윤주표 , 김동명 , 신홍대 , 김진선 , 이상훈 , 우창민
IPC分类号： G03F7/037 , G03F7/031 , G03F7/033 , G03F7/075 , G03F7/038 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/032 , G03F7/031 , G03F7/033 , G03F7/037 , G03F7/0757 , G03F7/0382
摘要： PURPOSE: A negative photo-sensitive resin composition, a display device pattern forming method using the same, and a display device including the pattern are provided to improve resolution, permeation, heat-resistance discoloration, and adhesive. CONSTITUTION: A negative photo-sensitive resin composition includes the following: 100 parts by weight of acryl-based copolymer, polyimide-based copolymer, siloxane-based copolymer, or the copolymer of the same; 0.1-30 parts by weight of a photo-initiator; and 0.1-30 parts by weight of a photo-sensitizer represented by chemical formula 1. In chemical formula 1, the n is the integer of 1 to 10. The acryl-based copolymer is obtained by radical-polymerizing acryl monomers under an azo-initiator. The polyimide-based copolymer is obtained from diamine and dianhydride. The siloxane copolymer is obtained by hydrolyzing and condensating silane monomers under acid or base.
摘要翻译：目的：提供负光敏树脂组合物，使用其的显示装置图案形成方法和包括该图案的显示装置，以提高分辨率，渗透性，耐热变色性和粘合剂。构成：负型感光树脂组合物包括：100重量份的丙烯酸类共聚物，聚酰亚胺系共聚物，硅氧烷系共聚物或其共聚物; 0.1-30重量份的光引发剂; 和0.1-30重量份的由化学式1表示的光敏剂。在化学式1中，n为1至10的整数。丙烯酰基共聚物通过在偶氮 - 引发剂。聚酰亚胺基共聚物由二胺和二酐得到。硅氧烷共聚物通过在酸或碱下水解和缩合硅烷单体得到。

42. 发明授权

KR101068111B1 감광성 수지 조성물 有权
标题翻译：感光树脂组合物
公开(公告)号：KR101068111B1
公开(公告)日：2011-09-27
申请号：KR1020050007725
申请日：2005-01-27
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 정의철 , 김병욱 , 김동민 , 윤혁민 , 여태훈 , 김동명 , 이호진 , 구기혁 , 윤주표 , 최상각
IPC分类号： G03F7/027
摘要： 본 발명은 감광성 수지 조성물에 관한 것으로, 특히 a)ⅰ) 불포화 카르본산, 불포화 카르본산 무수물, 또는 이들의 혼합물, ⅱ) 에폭시기 함유 불포화 화합물, ⅲ) 올레핀계 불포화 화합물, 및 ⅳ) 실란계 단량체를 공중합시켜 얻어진 아크릴계 공중합체; b) 1,2-퀴논디아지드 화합물; 및 c) 용매를 포함하는 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.
본 발명에 따른 감광성 수지 조성물은 감도, 투과율, 절연성, 내화학성, 평탄성, 코팅성 등의 성능이 우수할 뿐만 아니라, 특히 무기질 재료와의 접착성이 현저히 향상되어 LCD 제조공정의 층간절연막을 형성하기에 적합하다.
감광성 수지, 실란계 단량체, 접착성, 층간절연막

43. 发明公开

KR1020100062282A 전자종이 격벽형성용 조성물 审中-实审
标题翻译：电纸裱纸组合物
公开(公告)号：KR1020100062282A
公开(公告)日：2010-06-10
申请号：KR1020080120842
申请日：2008-12-02
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 윤주표 , 김병욱 , 윤혁민 , 구기혁 , 여태훈 , 신홍대 , 이상훈 , 김동명 , 최상각 , 최수연 , 김진선
IPC分类号： G02F1/1339 , H01B3/18
CPC分类号： G02F1/167 , G02F2001/1672
摘要： PURPOSE: A composition for a partition wall for improving insulating characteristic, chemical resistive characteristic, and adhesion is provided to form an electronic paper partition wall by realizing a vertical pattern formation. CONSTITUTION: A composite for electronic paper partition wall includes an alkali fusible novolak resin, a photo-acid generator, a cross linking agent, and solvent. The alkali solubility novolak resin is 100 weight. The photo-acid generator is 0.5-10 weight. The crosslinking agent is 1-20 weight. According to the rate of the photo-acid generator, the photo-acid generator has the big influence about the sensitivity. The heat-proof characteristic of the barrier pattern is improved.
摘要翻译：目的：提供一种用于提高绝缘特性，耐化学电阻特性和粘附性的隔墙用组合物，通过实现垂直图案形成形成电子纸分隔壁。构成：用于电子纸分隔壁的复合材料包括碱溶性酚醛清漆树脂，光酸发生剂，交联剂和溶剂。碱溶性酚醛清漆树脂为100重量份。光酸发生器为0.5-10重量。交联剂为1-20重量份。根据光酸发生器的比例，光酸发生器对灵敏度影响很大。阻挡图案的耐热特性得到改善。

44. 发明公开

KR1020080105746A 감광성 수지 조성물 有权
标题翻译：感光树脂组合物
公开(公告)号：KR1020080105746A
公开(公告)日：2008-12-04
申请号：KR1020070053737
申请日：2007-06-01
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 여태훈 , 김병욱 , 윤혁민 , 최상각 , 최수연 , 구기혁 , 윤주표 , 김동명 , 이호진 , 신홍대 , 이동혁 , 김성탁 , 정대중
IPC分类号： G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/004 , G03F7/0047 , G03F7/027
摘要： A photosensitive resin composition, a method for forming a display pattern by using the composition, and a display using the composition are provided to improve the productivity by reducing the processing time and toenhance impact resistanceby increasing the flexibility of film. A photosensitive resin composition comprises 0.1-10 wt% of at least one compound selected from dioctyl phthalate, diisononyl phthalate, dioctyl adipate, tricresyl phosphate, and 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol monoisobutyrate as a sensitizer. Preferably the composition comprises 10-30 wt% of an acrylic copolymer; 1-20 wt% of 1,2-quinonediazide 5-sulfonic acid ester compound; 0.1-10 wt% of the sensitizer; and the balance of a solvent.
摘要翻译：提供一种光敏树脂组合物，通过使用该组合物形成显示图案的方法和使用该组合物的显示器，以通过减少处理时间并通过增加膜的柔性来提高抗冲击性来提高生产率。感光性树脂组合物包含0.1-10重量％的至少一种选自邻苯二甲酸二辛酯，邻苯二甲酸二异壬酯，己二酸二辛酯，磷酸三甲苯酯和作为增感剂的2,2,4-三甲基-1,3-戊二醇单异丁酸酯的化合物。优选地，组合物包含10-30重量％的丙烯酸共聚物; 1-20重量％的1,2-醌二叠氮化物5-磺酸酯化合物; 0.1-10重量％的敏化剂; 和余量的溶剂。

45. 发明公开

KR1020080102838A 유기보호막 조성물 有权
标题翻译：有机钝化组合物
公开(公告)号：KR1020080102838A
公开(公告)日：2008-11-26
申请号：KR1020070049808
申请日：2007-05-22
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 윤혁민 , 구기혁 , 김동명 , 이동혁 , 여태훈 , 최상각 , 최수연 , 윤주표 , 신홍대 , 김성탁 , 이호진 , 정대중
IPC分类号： C09D123/00 , C09D133/08
CPC分类号： C09D133/04 , C09D5/00 , G02F1/13
摘要： An organic passivation composition is provided to ensure excellent adhesive force, insulating property and flatness at a low temperature curing step and to improve heat resistance and chemical resistance against solvent, acid or alkali in post-processing. An organic passivation composition comprises (a) 100 parts by weight of acrylic copolymer copolymerized with (i) 5 - 95 weight% of a compound and (ii) 5 or 95 weight% of olefin-based unsaturated compound capable of polymerizing with a compound of the chemical formula 1; (b) (i) 0.001-5 parts by weight of thermal initiator or (ii) 0.001-30 parts by weight of photoinitiator; (c) 1-80 parts by weight of acid anhydride compound; (d) 0.001-1 parts by weight of imidazole-based tertiary amine compound; and (e) an organic solvent to become 50 weight% of (a)~(d) based on an organic passivation composition. In the chemical formula 1, X is hydrogen or methyl radical.
摘要翻译：提供有机钝化组合物以确保在低温固化步骤中优异的粘合力，绝缘性能和平整度，并且在后处理中提高耐溶剂，酸或碱的耐热性和耐化学性。有机钝化组合物包含（a）100重量份与（i）5-95重量％的化合物共聚的丙烯酸共聚物和（ii）5或95重量％的能够与化合物化学式1; （b）（i）0.001-5重量份的热引发剂或（ii）0.001-30重量份的光引发剂; （c）1-80重量份的酸酐化合物; （d）0.001-1重量份的咪唑类叔胺化合物; 和（e）基于有机钝化组合物成为（a）〜（d）的50重量％的有机溶剂。在化学式1中，X是氢或甲基。

46. 发明公开

KR1020080089785A 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트 패턴의형성 방법 有权
标题翻译：光刻胶组合物和使用其形成光刻胶图案的方法
公开(公告)号：KR1020080089785A
公开(公告)日：2008-10-08
申请号：KR1020070032371
申请日：2007-04-02
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 박정민 , 정두희 , 이희국 , 윤혁민 , 구기혁
IPC分类号： G03F7/004
CPC分类号： G03F7/038 , Y10S430/121 , Y10S430/123 , Y10S430/128 , G03F7/0385
摘要： A photoresist composition is provided to reduce reverse tapering of a photoresist pattern, thereby preventing damage on a photoresist pattern and improving the resolution. A photoresist composition comprises: 0.5-20 parts by weight of a photoacid generator comprising at least one compound selected from the compounds represented by the following formulae 1 and 2; 10-70 parts by weight of a novolac resin containing hydroxyl groups; 1-40 parts by weight of a crosslinking agent containing an alkoxymethyl melamine compound; and 10-150 parts by weight of a solvent. In formulae 1 and 2, each of R1, R2, R3 and R4 is a C1-C4 alkyl group.
摘要翻译：提供光致抗蚀剂组合物以减少光致抗蚀剂图案的反向锥形化，从而防止光致抗蚀剂图案的损坏并提高分辨率。光致抗蚀剂组合物包括：0.5-20重量份的含有至少一种选自下式1和2所示化合物的化合物的光酸产生剂; 10-70重量份含羟基的酚醛清漆树脂; 1-40重量份含有烷氧基甲基三聚氰胺化合物的交联剂; 和10-150重量份的溶剂。在式1和式2中，R 1，R 2，R 3和R 4各自为C 1 -C 4烷基。

47. 发明公开

KR1020080013102A 전계 구동 차광형 표시 장치 失效
标题翻译：由电场驱动的闭锁显示屏
公开(公告)号：KR1020080013102A
公开(公告)日：2008-02-13
申请号：KR1020060074160
申请日：2006-08-07
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 정대중 , 이준혁 , 김병욱 , 윤혁민 , 구기혁 , 조동호
IPC分类号： H01J31/12 , G02F1/13357 , H01J11/44
摘要： A light blocking type display device is provided to display an image by determining a beam path of an inlet beam by adjusting a position of a driving unit using an electric field. A first substrate(100) includes a first transparent base(110), a first electrode(120), a first blocking unit(130), and a first barrier rib(140). A first driving groove(150) is formed between the first barrier ribs. The first electrode and the first blocking unit are alternatively arranged on the first transparent base. A first driving groove is formed between the first barrier ribs. A second substrate(200) includes a second transparent base(210), a second electrode(220), a second blocking unit(230), a second barrier rib(240), and a third blocking unit(245). The second substrate is arranged to be opposed to the first substrate. The second electrode and the second blocking unit are alternatively arranged on the second transparent base. The third blocking unit is arranged on the second barrier rib. A second driving groove(250) is formed between the second barrier ribs.
摘要翻译：提供遮光型显示装置以通过使用电场调节驱动单元的位置来确定入射束的光束路径来显示图像。第一基板（100）包括第一透明基底（110），第一电极（120），第一阻挡单元（130）和第一隔壁（140）。第一驱动槽（150）形成在第一阻挡肋之间。第一电极和第一阻挡单元交替地布置在第一透明基底上。第一驱动槽形成在第一阻挡肋之间。第二基板（200）包括第二透明基座（210），第二电极（220），第二阻挡单元（230），第二阻挡肋（240）和第三阻挡单元（245）。第二基板被布置成与第一基板相对。第二电极和第二阻挡单元交替地布置在第二透明基底上。第三阻挡单元设置在第二隔壁上。第二驱动槽（250）形成在第二阻挡肋之间。

48. 发明公开

KR1020070091987A 감광성 수지 조성물 有权
标题翻译：感光树脂组合物
公开(公告)号：KR1020070091987A
公开(公告)日：2007-09-12
申请号：KR1020060021843
申请日：2006-03-08
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 여태훈 , 윤혁민 , 이호진 , 윤주표 , 구기혁 , 정의철 , 김동명 , 최상각 , 신홍대 , 이동혁 , 김병욱 , 김성탁 , 최수연 , 조동호 , 정대중
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/022
摘要： A photosensitive resin composition is provided to show excellence in several performances including sensitivity, insulation and heat resistance, to improve the reliability and life at post-processing, to form patterns of two types of an insulator and a separator simultaneously, thereby reducing the time in processing. A photosensitive resin composition comprises (a) a polyhydroxy styrenic resin represented by the formula(1), wherein a and b represent a mole ratio between each monomers, a is 1 to 10, b is 0 to 9, and a+b=10, (b) a 1,2-quinonediazide compound (c) a photoacid generator (d) a melamine cross-linking agent represented by the formula(2), wherein each of R1 to R3 is independently an alkyl group having 1-4 carbon atoms, and each of R4 to R6 is independently a hydrogen group or an alkyl group having 1-4 carbon atoms; and (e) a solvent.
摘要翻译：提供感光性树脂组合物以显示灵敏度，绝缘和耐热性等几个性能的优异性，以提高后处理时的可靠性和寿命，同时形成两种类型的绝缘体和隔膜的图案，从而减少处理。感光性树脂组合物包含（a）由式（1）表示的多羟基苯乙烯类树脂，其中a和b表示各单体之间的摩尔比，a为1〜10，b为0〜9，a + b = 10 ，（b）1,2-醌二叠氮化合物（c）光致酸产生剂（d）由式（2）表示的三聚氰胺交联剂，其中R 1至R 3各自独立地为具有1-4个碳原子的烷基原子，R4〜R6各自独立地为氢或具有1-4个碳原子的烷基; 和（e）溶剂。

49. 发明公开

KR1020070044913A 감광성 수지 조성물 有权
标题翻译：光敏树脂组合物
公开(公告)号：KR1020070044913A
公开(公告)日：2007-05-02
申请号：KR1020050101224
申请日：2005-10-26
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 여태훈 , 김병욱 , 윤혁민 , 구기혁 , 윤주표 , 정의철 , 김동명 , 최상각 , 이호진 , 신홍대 , 이동혁
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/075 , G03F7/022 , G03F7/027
摘要： 본 발명은 감광성 수지 조성물에 관한 것으로, 특히 a)ⅰ) POSS (Polyhedral Oligomeric Silsesquioxane) 함유 불포화 화합물, ⅱ) 불포화 카르본산, 불포화 카르본산 무수물, 또는 이들의 혼합물, ⅲ) 에폭시기 함유 불포화 화합물, 및 ⅳ) 올레핀계 불포화 화합물을 공중합시켜 얻어진 아크릴계 공중합체; b) 1,2-퀴논디아지드 화합물; 및 c) 용매를 포함하는 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.
본 발명에 따른 감광성 수지 조성물은 현상 후 평탄도, 감도, 해상도, 내열성, 투명성 등의 성능이 우수할 뿐만 아니라, 특히 상기 감광성 수지 조성물로 유기절연막을 제조할 경우 저 유전률 유기절연막을 가능하게 함으로써 소비전력을 낮출 수 있으며, Crosstalk을 줄여줄 수 있어, 다양한 Display 공정의 유기절연막에 적합하다.
POSS (Polyhedral Oligomeric Silsesquioxane), Crosstalk, 소비전력, 저 유전율, Display
摘要翻译：本发明涉及一种感光性树脂组合物，特别是）ⅰ）POSS（多面体低聚倍半硅氧烷）包含不饱和化合物，ⅱ）不饱和羧酸，不饱和羧酸酐，或它们的混合物，ⅲ）的不饱和化合物，含有环氧基的和ⅳ ）通过共聚烯属不饱和化合物获得的丙烯酸类共聚物; b）1,2-醌二叠氮化合物; 和c）溶剂。

50. 发明公开

KR1020070023103A 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 박막 트랜지스터기판의 제조방법 有权
标题翻译：光致抗蚀剂组合物及使用其制造薄膜晶体管基板的方法
公开(公告)号：KR1020070023103A
公开(公告)日：2007-02-28
申请号：KR1020050077308
申请日：2005-08-23
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 박정민 , 이희국 , 윤혁민 , 구기혁 , 김병욱
IPC分类号： G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0382 , G03F7/105 , H01L21/32139 , H01L29/66765 , H01L29/78669 , Y10S430/106 , Y10S430/114 , G03F7/0045
摘要： 포토레지스트 조성물은 페놀계 중합체를 포함하는 바인더 수지 10 내지 70 중량%, 광산 발생제 0.5 내지 10 중량%, 가교 결합제 1 내지 20 중량%, 염료 0.1 내지 5 중량% 및 용매 10 내지 80 중량%를 포함한다. 상기 포토레지스트 조성물은 4매 마스크를 이용한 박막 트랜지스터 기판의 제조 공정에 적용된다. 상기 포토레지스트 조성물은 박막 트랜지스터 기판의 제조 공정시 포토레지스트층을 형성하고 상기 포토레지스트층은 슬릿 노광에 의하여 안정적으로 하프톤(half tone)을 구현할 수 있다.
摘要翻译：光致抗蚀剂组合物包含10至70％（重量）含有酚聚合物，光酸发生剂0.5至10％（重量），交联剂（重量）染料1-20％，0.1至5重量％和按重量计的溶剂10〜80％的粘合剂树脂的的。该光致抗蚀剂组合物应用于使用四掩模制造薄膜晶体管基板的工艺。光刻胶组合物在制造薄膜晶体管基板的过程中形成光刻胶层，光刻胶层可以通过狭缝曝光稳定地形成半色调。

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