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    • 40. 发明专利
    • ボンディング用Alリボン及びその製造方法
    • 用于其连接和制造方法的铝型材
    • JP2015106678A
    • 2015-06-08
    • JP2013249086
    • 2013-12-02
    • 住友金属鉱山株式会社
    • 村瀬 栄治仲田 徹志井関 隆士高木 久仁江
    • H01L21/60
    • H01L24/745H01L2224/43H01L2224/432H01L2224/45H01L2224/45014H01L2224/45124H01L2224/85455H01L2924/15747
    • 【課題】 半導体を用いた各種装置等に内蔵される電子部品と基板との接合等に使用されるボンディング用Alリボンであって、安価であると共に寸法精度が高く、酸化膜や残留不純物などが低減されていて、安定した接合を実現できるボンディング用Alリボン、及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 厚み方向圧延ロールと幅方向圧延ロールが直列に組み込まれた圧延用ロールセットを用いて、Alを主成分とするAl合金材を厚み方向と幅方向に圧延加工し、その直後に異形状ダイスで伸線する。得られるAlリボンは、Ni、Si及びPの少なくとも1種を合計で800ppm以下含有し、平均結晶粒径が2〜250μm、表面粗さRaが2.0μm以下、酸化膜の厚さが4.0nm以下である。 【選択図】 図1
    • 要解决的问题:为了提供一种用于接合用于使用半导体和基板的各种装置中的电子部件的接合用铝带,该半导体和基板廉价且尺寸精度高,其中氧化物膜或残留杂质减少,并且与 可以实现稳定化的接合,并提供其制造方法。解决方案:通过使用组合厚度方向还原辊和宽度方向的还原辊,在厚度方向和宽度方向上轧制主要由Al组成的Al合金材料 还原辊,然后立即通过变型骰子进行拉丝。 由此获得的Al带包含800ppm以下的至少一种Ni,Si和P,总共具有2-250μm的平均结晶粒径,2.0μm以下的表面粗糙度Ra,以及 氧化膜为4.0nm以下。