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31. 发明专利

TW200932957A 碳質基材及產生氟之電解用電極失效
简体标题：碳质基材及产生氟之电解用电极
公开(公告)号：TW200932957A
公开(公告)日：2009-08-01
申请号：TW097136320
申请日：2008-09-22
申请人：東洋炭素股份有限公司 TOYO TANSO CO., LTD.
发明人：田尾理惠 TAO, RIE , 河野貴典 KAWANO, TAKANORI , 初代善夫 SHODAI, YOSHIO
IPC分类号： C25B , C04B
CPC分类号： C25B11/12 , C25B1/245
摘要：本發明係關於一種碳質基材及產生氟之電解用電極;也就是說,一種碳質基材係將具有至少2個以上之(002)繞射線且具有具備不同之面間隔之結晶子的複合輪廓。此外,在X射線繞射圖形,出現於2��=10�-30�之(002)繞射線之形狀係非對稱,並且,至少具有以2��=26�作為中心之繞射線和角度低於2��=26�之低角度之繞射線之2條之成分圖形。此外,包含由X射線繞射來得到之層間距離d002為0.34nm以上之結晶,並且,包含結晶子尺寸Lc002為20nm以下之繞射線。此外,氟電解用電極係在該碳質基材上,形成鑽石薄膜。
简体摘要：本发明系关于一种碳质基材及产生氟之电解用电极;也就是说,一种碳质基材系将具有至少2个以上之(002)绕射线且具有具备不同之面间隔之结晶子的复合轮廓。此外,在X射线绕射图形,出现于2��=10�-30�之(002)绕射线之形状系非对称,并且,至少具有以2��=26�作为中心之绕射线和角度低于2��=26�之低角度之绕射线之2条之成分图形。此外,包含由X射线绕射来得到之层间距离d002为0.34nm以上之结晶,并且,包含结晶子尺寸Lc002为20nm以下之绕射线。此外,氟电解用电极系在该碳质基材上,形成钻石薄膜。

32. 发明专利

TW200828659A 鋰離子蓄電池負極用碳材料,含浸低結晶性碳之鋰離子蓄電池負極用碳材料,負極電極板及鋰離子蓄電池审中-公开
简体标题：锂离子蓄电池负极用碳材料,含浸低结晶性碳之锂离子蓄电池负极用碳材料,负极电极板及锂离子蓄电池
公开(公告)号：TW200828659A
公开(公告)日：2008-07-01
申请号：TW096130171
申请日：2007-08-15
申请人：東洋炭素股份有限公司 TOYO TANSO CO., LTD.
发明人：太田直人 OHTA, NAOTO , 星和人 HOSHI, KAZUHITO , 尾藤信吾 BITO, SHINGO , 山中章生 YAMANAKA, AKIO , 大國友行 OKUNI, TOMOYUKI
IPC分类号： H01M
CPC分类号： H01M4/133 , C01B32/20 , H01M4/1393 , H01M4/583 , H01M10/0525 , H01M2004/021 , H01M2004/027
摘要：本發明可以獲得一種初次充放電時很少產生氣體,而且可以急速充放電之鋰離子蓄電池負極用碳材料、含浸低結晶性碳之鋰離子蓄電池負極用碳材料、負極電極板及鋰離子電池。本發明提供一種鋰離子蓄電池負極用碳材料,其係由對碳質骨材配合、捏合混合黏結劑之組成物得到加壓成形體,並進行碳化,將之施以石墨化處理而得到人造石墨塊,再將此人造石墨塊予以粉碎、調整粒度而得,其在於使用波長532nm之Nd:YAG雷射光之拉曼光譜中,以D能帶和G能帶之比所定義之R値=(I1360/I1580)≧0.2,於利用學振法所算出之結晶學的參數中,顯示d(002)≧0.336nm,而且Lc(002)≦50nm的特性。此碳材料使用於鋰離子蓄電池的負極板,並使用在用到此之鋰離子蓄電池。
简体摘要：本发明可以获得一种初次充放电时很少产生气体,而且可以急速充放电之锂离子蓄电池负极用碳材料、含浸低结晶性碳之锂离子蓄电池负极用碳材料、负极电极板及锂离子电池。本发明提供一种锂离子蓄电池负极用碳材料,其系由对碳质骨材配合、捏合混合黏结剂之组成物得到加压成形体,并进行碳化,将之施以石墨化处理而得到人造石墨块,再将此人造石墨块予以粉碎、调整粒度而得,其在于使用波长532nm之Nd:YAG激光光之拉曼光谱中,以D能带和G能带之比所定义之R値=(I1360/I1580)≧0.2,于利用学振法所算出之结晶学的参数中,显示d(002)≧0.336nm,而且Lc(002)≦50nm的特性。此碳材料使用于锂离子蓄电池的负极板,并使用在用到此之锂离子蓄电池。

33. 发明专利

TW200741802A 半導體製造設備审中-公开
简体标题：半导体制造设备
公开(公告)号：TW200741802A
公开(公告)日：2007-11-01
申请号：TW096104462
申请日：2007-02-07
申请人：東洋炭素股份有限公司 TOYO TANSO CO., LTD. , 東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：平岩次郎 HIRAIWA, JIRO , 吉本修 YOSHIMOTO, OSAMU , 早川宏 HAYAKAWA, HIROSHI , 東城哲朗 TOJO, TETSURO , 岡部庸之 OKABE, TSUNEYUKI , 淺野貴庸 ASANO, TAKANOBU , 和田真一 WADA, SHINICHI , 中尾賢 NAKAO, KEN , 加藤壽 KATO, HITOSHI
IPC分类号： H01L
CPC分类号： F17D1/04 , C01B7/19 , F17C2250/032 , F17C2270/0518 , H01L21/67017 , H01L21/67276
摘要：氟氣產生裝置,和半導體製造裝置3a~3e,係經由氣體供給系統2來連接,該系統具有可將現場氟氣產生裝置1a~1e所產生之氟氣作特定量貯藏的貯藏槽12;現場氟氣產生裝置1a~1e中有一個以上停止之際,則從貯存有特定量氟氣之貯藏槽12,對半導體製造裝置3a~3e供給氟氣,藉此維持半導體製造裝置3a~3e的運用。藉此,可以對半導體製造裝置安全及安定地供給氟氣產生裝置所產生的氟氣,且可得到半導體製造之成本表現優良的半導體製造設備。
简体摘要：氟气产生设备,和半导体制造设备3a~3e,系经由气体供给系统2来连接,该系统具有可将现场氟气产生设备1a~1e所产生之氟气作特定量贮藏的贮藏槽12;现场氟气产生设备1a~1e中有一个以上停止之际,则从贮存有特定量氟气之贮藏槽12,对半导体制造设备3a~3e供给氟气,借此维持半导体制造设备3a~3e的运用。借此,可以对半导体制造设备安全及安定地供给氟气产生设备所产生的氟气,且可得到半导体制造之成本表现优良的半导体制造设备。

34. 发明专利

TW200738911A 用於製造氟或三氟化氮之電解裝置审中-公开
简体标题：用于制造氟或三氟化氮之电解设备
公开(公告)号：TW200738911A
公开(公告)日：2007-10-16
申请号：TW096102164
申请日：2007-01-19
申请人：東洋炭素股份有限公司 TOYO TANSO CO., LTD.
发明人：東城哲朗 TOJO, TETSURO , 平岩次郎 HIRAIWA, JIRO , 竹林仁 TAKEBAYASHI, HITOSHI , 兒玉昌士 KODAMA, MASASHI
IPC分类号： C25B
CPC分类号： C25B1/245 , C25B11/0478 , C25B11/12
摘要：本發明所欲解決之課題係提供一種,即使在高電流密度可進行不發生陽極效果,不產生陽極溶解之操作,藉由含有氟化氫之熔融鹽之電解,用於製造氟或三氟化氮之電解裝置。本發明之解決手段係將含有氟化氫之熔融鹽以外加電流密度1~1,000A/dm^2電解,以製造氟或三氟化氮之電解裝置中,陽極係使用被覆導電性金剛石所成電極為其特徵之電解裝置。
简体摘要：本发明所欲解决之课题系提供一种,即使在高电流密度可进行不发生阳极效果,不产生阳极溶解之操作,借由含有氟化氢之熔融盐之电解,用于制造氟或三氟化氮之电解设备。本发明之解决手段系将含有氟化氢之熔融盐以外加电流密度1~1,000A/dm^2电解,以制造氟或三氟化氮之电解设备中,阳极系使用被覆导电性金刚石所成电极为其特征之电解设备。

35. 发明专利

TWI265980B 氣體發生裝置的電流控制方法及電流控制裝置 ELECTRIC CURRENT CONTROL METHOD AND APPARATUS FOR USE IN GAS GENERATORS 失效
简体标题：气体发生设备的电流控制方法及电流控制设备 ELECTRIC CURRENT CONTROL METHOD AND APPARATUS FOR USE IN GAS GENERATORS
公开(公告)号：TWI265980B
公开(公告)日：2006-11-11
申请号：TW093113225
申请日：2004-05-11
申请人：東洋炭素股份有限公司 TOYO TANSO CO., LTD.
发明人：東城哲朗 TOJO, TETSURO , 平岩次郎 HIRAIWA, JIRO , 吉本修 YOSHIMOTO, OSAMU
IPC分类号： C25B
CPC分类号： C25B15/02 , C25B1/245
摘要：本發明的課題是針對於提供一種可持續電解的最適當狀態，可進行穩定作業，而且不依賴人員而可發生氟氣或發生氟化物氣體的氣體發生裝置的電流控制方法及電流控制裝置。
本發明用以解決手段是：一種氣體發生裝置的電流控制方法，屬於在含有氟化氫的混合溶融鹽所成的電解浴5，作為陽極4a使用碳電極進行電解而發生氟氣或氟化物氣體的氣體發生裝置的電流控制方法，其特徵為：測定將一定電流施加於氣體發生裝置時的陰極4b，陽極間4a的電壓變動幅，按照電壓變動幅一面變動投入電流量一面施加電流。
简体摘要：本发明的课题是针对于提供一种可持续电解的最适当状态，可进行稳定作业，而且不依赖人员而可发生氟气或发生氟化物气体的气体发生设备的电流控制方法及电流控制设备。本发明用以解决手段是：一种气体发生设备的电流控制方法，属于在含有氟化氢的混合溶融盐所成的电解浴5，作为阳极4a使用碳电极进行电解而发生氟气或氟化物气体的气体发生设备的电流控制方法，其特征为：测定将一定电流施加于气体发生设备时的阴极4b，阳极间4a的电压变动幅，按照电压变动幅一面变动投入电流量一面施加电流。

36. 发明专利

TW200638018A 熱傳導片、散熱構造體及熱傳導片之使用方法 HEAT-TRANSFER SHEET, RADIATOR, AND METHOD OF USING HEAT-TRANSFER SHEET 审中-公开
简体标题：热传导片、散热构造体及热传导片之使用方法 HEAT-TRANSFER SHEET, RADIATOR, AND METHOD OF USING HEAT-TRANSFER SHEET
公开(公告)号：TW200638018A
公开(公告)日：2006-11-01
申请号：TW095108723
申请日：2006-03-15
申请人：東洋炭素股份有限公司 TOYO TANSO CO., LTD.
发明人：廣瀨芳明 HIROSE, YOSHIAKI
IPC分类号： F28F , C01B , G06F
CPC分类号： H01L23/373 , C01B32/225 , H01L2224/73253 , H01L2924/01004 , H01L2924/01012 , H01L2924/01019
摘要：本發明之目的在於提供一種熱傳導片及其使用方法，以及散熱構造體。根據本發明，可提供即使以較小的安裝壓力，在將熱傳導片夾持於發熱體與散熱體之間時，亦可提高其密合度，而且可重複利用的熱傳導片及其使用方法，以及具備此種熱傳導用的散熱構造體。本發明之熱傳導片係配置於發熱體H與散熱體之間，藉由膨脹石墨而形成之構件，其體積密度小於1.0Mg／m^3。由於體積密度低，因此將其夾持於發熱體H與散熱體之間加壓的話，即使加壓力小亦可使其輕鬆地被壓縮，而提高與兩者間的密合度。因此，因為可縮小從發熱體到散熱體的熱阻抗，所以具有提高冷卻發熱體的效果。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种热传导片及其使用方法，以及散热构造体。根据本发明，可提供即使以较小的安装压力，在将热传导片夹持于发热体与散热体之间时，亦可提高其密合度，而且可重复利用的热传导片及其使用方法，以及具备此种热传导用的散热构造体。本发明之热传导片系配置于发热体H与散热体之间，借由膨胀石墨而形成之构件，其体积密度小于1.0Mg／m^3。由于体积密度低，因此将其夹持于发热体H与散热体之间加压的话，即使加压力小亦可使其轻松地被压缩，而提高与两者间的密合度。因此，因为可缩小从发热体到散热体的热阻抗，所以具有提高冷却发热体的效果。

37. 发明专利

TW200636100A 碳化鉭覆層碳材料及其製造方法 TANTALUM CARBIDE-COATED CARBON MATERIAL AND METHOD FOR FABRICATING THE SAME 审中-公开
简体标题：碳化钽覆层碳材料及其制造方法 TANTALUM CARBIDE-COATED CARBON MATERIAL AND METHOD FOR FABRICATING THE SAME
公开(公告)号：TW200636100A
公开(公告)日：2006-10-16
申请号：TW095104538
申请日：2006-02-10
申请人：東洋炭素股份有限公司 TOYO TANSO CO., LTD.
发明人：藤原廣和 FUJIWARA, HIROKAZU , 山田典正 YAMADA, NORIMASA , 阿部純久 ABE, SUMIHISA
IPC分类号： C30B , C23C , H01L
CPC分类号： C30B29/36 , C04B41/009 , C04B41/5057 , C04B41/52 , C04B41/87 , C04B41/89 , C04B2111/0025 , C04B2111/00405 , C23C16/029 , C23C16/045 , C23C16/06 , C23C16/32 , C23C16/56 , C30B25/02 , Y10T428/249955 , Y10T428/249956 , Y10T428/249961 , Y10T428/249981 , Y10T428/249987 , Y10T428/26 , Y10T428/263 , Y10T428/30 , C04B41/0072 , C04B41/4531 , C04B41/4556 , C04B41/4582 , C04B35/522 , C04B35/52
摘要：本發明提供於高溫中對於還原性氣體具有優越耐腐蝕性及耐熱衝擊性之碳化鉭覆層碳材料及其製造方法。根據本發明，係提供具有碳基材及在上述碳基材上直接或介由中間層形成之覆層膜的碳化鉭覆層碳材料。覆層膜由碳化鉭之多數微結晶緻密集合形成，較好在覆層膜之X光繞射圖譜中，碳化鉭(220)面之繞射強度顯示出最大強度，更佳者為上述繞射強度顯示出第2大強度之繞射強度4倍以上強度。
简体摘要：本发明提供于高温中对于还原性气体具有优越耐腐蚀性及耐热冲击性之碳化钽覆层碳材料及其制造方法。根据本发明，系提供具有碳基材及在上述碳基材上直接或介由中间层形成之覆层膜的碳化钽覆层碳材料。覆层膜由碳化钽之多数微结晶致密集合形成，较好在覆层膜之X光绕射图谱中，碳化钽(220)面之绕射强度显示出最大强度，更佳者为上述绕射强度显示出第2大强度之绕射强度4倍以上强度。

38. 发明专利

TWI250229B 熔融鹽電解槽之控制裝置及控制方法 APPARATUS AND METHOD FOR MOLTEN SALT ELECTROLYTIC BATH CONTROL 失效
简体标题：熔融盐电解槽之控制设备及控制方法 APPARATUS AND METHOD FOR MOLTEN SALT ELECTROLYTIC BATH CONTROL
公开(公告)号：TWI250229B
公开(公告)日：2006-03-01
申请号：TW093119204
申请日：2004-06-29
申请人：東洋炭素股份有限公司 TOYO TANSO CO., LTD.
发明人：東城哲朗 TOJO, TETSURO , 平岩次郎 HIRAIWA, JIRO , 吉本修 YOSHIMOTO, OSAMU
IPC分类号： C25C
CPC分类号： C25B1/245 , C25B15/00 , C25C7/06
摘要： [課題]目的在於提供：由電解浴熔融至能夠開始電解之狀態為止，可以安全的過渡之控制裝置及其控制方法。
[解決手段]一種令收容在電解槽1之固體狀電解浴2熔融，自動地成為可電解狀態之熔融鹽電解槽之控制裝置，具有：藉由設置在電解槽1之檢測器33，以檢測電解槽之狀態變化之檢測手段，及在前述檢測手段實施後，將電解浴液面調整為可以電解之狀態之調整手段。
简体摘要： [课题]目的在于提供：由电解浴熔融至能够开始电解之状态为止，可以安全的过渡之控制设备及其控制方法。 [解决手段]一种令收容在电解槽1之固体状电解浴2熔融，自动地成为可电解状态之熔融盐电解槽之控制设备，具有：借由设置在电解槽1之检测器33，以检测电解槽之状态变化之检测手段，及在前述检测手段实施后，将电解浴液面调整为可以电解之状态之调整手段。

39. 发明专利

TW200606274A 承受器审中-公开
公开(公告)号：TW200606274A
公开(公告)日：2006-02-16
申请号：TW094123954
申请日：2005-07-14
申请人：東洋炭素股份有限公司 TOYO TANSO CO., LTD.
发明人：藤田一郎 FUJITA, ICHIRO , 藤原廣和 FUJIWARA, HIROKAZU
IPC分类号： C23C
CPC分类号： G01N23/2258 , C23C16/4581 , C30B25/12 , C30B29/36 , H01L21/68757
摘要：本發明之課題提供一種將晶圓附近之Si與C的濃度保持一定，且抑制微粒之產生，藉此可得到高品質之SiC半導體結晶的承受器。本發明之解決手段一種覆蓋碳化矽石墨材之承受器，其中放置晶圓之部份中最少一部分，係碳化鉭或覆蓋碳化鉭石墨材。放置上述晶圓之部分，亦可以是可自由分離之構件者。又，放置上述晶圓之部份中，週邊部亦可以是可自由分離之覆蓋碳化矽石墨材者。
简体摘要：本发明之课题提供一种将晶圆附近之Si与C的浓度保持一定，且抑制微粒之产生，借此可得到高品质之SiC半导体结晶的承受器。本发明之解决手段一种覆盖碳化硅石墨材之承受器，其中放置晶圆之部份中最少一部分，系碳化钽或覆盖碳化钽石墨材。放置上述晶圆之部分，亦可以是可自由分离之构件者。又，放置上述晶圆之部份中，周边部亦可以是可自由分离之覆盖碳化硅石墨材者。

40. 发明专利

TWI248990B 氟氣體產生裝置及其電解浴液面控制方法失效
简体标题：氟气体产生设备及其电解浴液面控制方法
公开(公告)号：TWI248990B
公开(公告)日：2006-02-11
申请号：TW092131292
申请日：2003-11-07
申请人：東洋炭素股份有限公司 TOYO TANSO CO., LTD.
发明人：平岩次郎 HIRAIWA, JIRO , 吉本修 YOSHIMOTO, OSAMU , 東城哲朗 TOJO, TETSURO
IPC分类号： C25B
CPC分类号： C25B1/245 , C25B15/02
摘要：本發明的課題是針對於提供一種即使氟氣體產生裝置停止電氣分解也可控制電解槽的電解浴液面的位置的安全的氟氣體產生裝置。
本發明用以解決手段是一種氟氣體產生裝置，屬於電解分解含有氟化氫的混合溶解鹽所構成的電解浴而用以產生氟氣體的氟氣體產生裝置，其特徵為：具有藉由隔間壁所分離的陽極室與陰極室；具備控制在中止氟氣體產生時上述陽極室與上述陰極室中至少任一方的電解浴液面高度的電解浴液面控制手段。
简体摘要：本发明的课题是针对于提供一种即使氟气体产生设备停止电气分解也可控制电解槽的电解浴液面的位置的安全的氟气体产生设备。本发明用以解决手段是一种氟气体产生设备，属于电解分解含有氟化氢的混合溶解盐所构成的电解浴而用以产生氟气体的氟气体产生设备，其特征为：具有借由隔间壁所分离的阳极室与阴极室；具备控制在中止氟气体产生时上述阳极室与上述阴极室中至少任一方的电解浴液面高度的电解浴液面控制手段。

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