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31. 发明公开

KR1020060072528A 수직형 확산로를 갖는 반도체 소자 제조 장치 无效
标题翻译：具有垂直型炉的半导体器件制造设备
公开(公告)号：KR1020060072528A
公开(公告)日：2006-06-28
申请号：KR1020040111194
申请日：2004-12-23
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김정남
IPC分类号： H01L21/22
CPC分类号： H01L21/67017 , H01L21/22 , H01L21/68785
摘要： 본 발명은 다수의 웨이퍼가 수납되며 구동 수단과 결합되어 수직 운동되는 웨이퍼 수납 보트와, 상승된 웨이퍼 수납 보트와 결합되어 외부와 격리된 반응 공간을 형성하는 돔 형태의 외부 튜브와 그 외부 튜브 내부에 설치되는 원통형의 내부 튜브를 포함하는 확산로를 구비하는 반도체 소자 제조 장치로서, 내부 튜브는 가스가 공급되는 가스 공급 통로가 내부에 형성되어 있고 가스 분사 통로로부터 내부 튜브의 내측으로 가스를 분사하는 복수의 가스 분사구가 형성된 것을 특징으로 한다. 이와 같은 본 발명의 반도체 소자 제조 장치는 확산로 내부로의 가스 공급이 내부 튜브에 형성된 가스 공급 통로 및 가스 분사구를 통하여 이루어지기 때문에 웨이퍼 수납 보트의 회전 과정 또는 가스가 분사되는 과정에서의 진동에 의해 가스 공급 통로가 영향을 받지 않는다. 따라서 종래 기술에 따른 반도체 소자 제조 장치에서 발생되었던 웨이퍼 수납 보트와 노즐의 충돌은 발생되지 않는다. 그리고 내부 튜브 자체에 형성된 가스 공급 통로와 가스 분사구가 웨이퍼 수납 보트를 중심으로 적절한 간격과 개수 및 크기로 형성되기 때문에 공급되는 가스가 균일하게 분사되어 공정 진행이 안정적으로 이루어질 수 있다.
반도체 제조 장치, 확산로, 공정 챔버, 증착, 웨이퍼, 튜브

32. 发明公开

KR1020060071670A 히팅 재킷을 갖는 반도체 소자 제조 장치 无效
标题翻译：具有加热夹克的半导体器件制造设备
公开(公告)号：KR1020060071670A
公开(公告)日：2006-06-27
申请号：KR1020040110356
申请日：2004-12-22
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김정남
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/205
CPC分类号： H01L21/67098 , H01L21/22 , H01L21/67248
摘要： 본 발명은 반도체 소자 제조 공정이 수행되는 퍼니스(furnace)에 연결된 가스 배출 라인(exhaust line)에 설치된 히팅 재킷들을 통합적으로 관리하는 반도체 소자 제조 장치에 관한 것이다. 본 발명에 따른 반도체 소자 제조 장치는 퍼니스에 연결 설치되는 가스 배출 라인의 가스 배관에 설치되어 가스 배관을 가열하는 복수의 히팅 재킷에 온도 측정 센서가 설치되어 있고 각각의 히팅 재킷들과 전기적으로 연결되어 온도 측정 센서에 의해 측정된 결과 값에 따라 각각의 히팅 재킷들의 온도를 통합 관리하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이와 같은 본 발명의 반도체 소자 제조 장치에 따르면, 가스 배출 라인의 각 가스 배관에 대응되는 히팅 재킷 각각의 온도 설정이 자유로워 파우더가 발생되는 부분의 가열 온도를 높임으로서 파우더의 발생이 방지된다. 또한 가스 배출 라인의 온도와 전류를 계속 모니터링 할 수 있어 가스 배출 라인의 동작 상황을 한 눈에 알 수 있다. 따라서, 가스 배출 및 공정 처리에 대한 신뢰성이 향상된다.
반도체 제조 장치, CVD, 파우더, 가스 배출 라인, 센서, 모니터링

33. 发明公开

KR1020060056567A 턱이 형성된 반응관을 갖는 화학적 기상 증착 장치 无效
标题翻译：具有反应管的CVD装置
公开(公告)号：KR1020060056567A
公开(公告)日：2006-05-25
申请号：KR1020040095704
申请日：2004-11-22
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김정남
IPC分类号： H01L21/205
CPC分类号： C23C16/455
摘要： 본 발명은 턱이 형성된 반응관을 갖는 화학적 기상 증착 장치에 관한 것으로, 반응가스의 사용량에 따른 박막의 증착율을 증가시켜 증착 공정 시간을 줄이기 위해서, 내부에 복수의 웨이퍼가 적재된 보트와; 상기 보트를 둘러싸는 반응관과; 상기 반응관의 외측에 배치되어 상기 반응관을 가열하기 위한 가열원과; 상기 반응관과 보트 사이에 소정의 길이로 뻗어 있으며, 상기 반응관 안으로 반응 가스를 수직 분사하는 복수개의 노즐이 설치된 가스 공급관; 및 상기 반응관과 보트 사이에 연결되어, 상기 반응가스를 상기 반응관의 밖으로 배출시키는 가스 배출관;을 포함하며, 상기 보트에 근접한 상기 반응관의 내벽에 상기 반응가스의 유속을 감소시키기 위한 턱이 다수개 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 턱이 형성된 반응관을 갖는 화학적 기상 증착 장치를 제공한다.
CVD, 반응관, 턱, 반응가스, 유속

34. 发明公开

KR1020060054649A 반도체 제조설비 无效
公开(公告)号：KR1020060054649A
公开(公告)日：2006-05-23
申请号：KR1020040093266
申请日：2004-11-15
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김정남
IPC分类号： H01L21/02
CPC分类号： H01L21/67259 , F17C13/04 , H01L21/02
摘要： 본 발명은 공정 후 폐수를 자동으로 토출시키는 반도체 제조설비에 관한 것으로써, 웨이퍼 상에 반응가스를 공급받아 공정을 진행하는 반응로와 공정 후 폐가스가 배기되도록 방응로에 연통되는 가스배기유로와 가스배기유로 상에 설치되어 폐가스를 응축시켜 폐수로 상태변화시키는 가스쿨러와 가스쿨러로부터 배출되는 폐수를 저장하는 저장용기와 저장용기에 저장된 상기 폐수를 토출하기 위한 토출밸브가 장착된 폐수유로를 갖는 구성에 있어서, 저장용기에 저장되는 폐수의 수위를 감지하여 토출밸브의 동작을 통해 폐수를 자동으로 토출시킬 수 있는 수위감지유닛을 구비한 반도체 제조설비에 관한 것이다. 따라서, 저장용기에 저장되는 폐수가 일정량이 되면 자동으로 토출시킴으로써 가스배기유로로 역류되어 막히는 현상과, 그로인해 폐가스가 반응로로 역류되어 웨이퍼를 오염시키는 것을 방지하는 효과를 갖는다.
산화막, 반응가스, 폐수

35. 发明公开

KR1020060039461A 냉각수를 이용한 파우더 포집 장치 및 냉각수 플로우 제어방법 无效
标题翻译：使用冷却水收集粉末的装置及控制冷却水流动的方法
公开(公告)号：KR1020060039461A
公开(公告)日：2006-05-09
申请号：KR1020040088545
申请日：2004-11-03
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김정남
IPC分类号： H01L21/205
CPC分类号： C23C16/4408 , H01L21/67017
摘要： 화학기상증착 등과 같은 반도체 제조 공정에서 냉각수가 플로우되는 쿨러를 사용하여 파우더를 포집하기 위한 장치 및 상기 냉각수의 플로우를 제어하기 위한 방법이 개시된다. 상기 쿨러는 반도체 제조 장치의 압력을 조절하고, 상기 제조 장치에 잔류하는 가스를 가스 스크러버로 안내하는 펌프에 연결된다. 따라서, 상기 쿨러는 상기 가스를 가스 스크러버로 안내할 때 상기 가스의 반응에 의해 발생하는 파우더를 포집한다. 이때, 냉각수 라인을 통하여 상기 쿨러에 파우더를 포집하기 위한 온도 차이를 제공하는 냉각수가 플로우된다. 그리고, 유량 조절부를 사용하여 상기 쿨러에 플로우되는 냉각수의 유량을 적절하게 조절한다.

36. 发明公开

KR1020060037163A 디스플레이부를 가진 질량유량제어기 无效
标题翻译：具有输出显示单元的质量流量控制器
公开(公告)号：KR1020060037163A
公开(公告)日：2006-05-03
申请号：KR1020040086344
申请日：2004-10-27
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김정남
IPC分类号： G05D7/06
CPC分类号： G05D7/0635 , G01F25/0007
摘要： 본 발명은 디스플레이부를 장착하여 가스 유량과 정상 동작 여부를 직접 확인할 수 있도록 한 질량유량제어기에 관한 것으로, 가스의 유량을 측정하고 제어하는 질량유량제어기(Mass Flow Controller)에 있어서, 질량유량제어기에 디스플레이부를 장착한 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면 작업자가 현재의 가스 유량과 질량유량제어기의 정상 작동 여부를 다른 방법을 통하지 않고 디스플레이부를 통해 직접 확인할 수 있도록 함으로써, 사용에 편리하고 유지 보수에 간편한 효과가 있다.
반도체, 질량유량제어기, 디스플레이부

37. 发明公开

KR1020060037092A 반도체 소자 제조용 장비 无效
公开(公告)号：KR1020060037092A
公开(公告)日：2006-05-03
申请号：KR1020040086239
申请日：2004-10-27
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김정남
IPC分类号： H01L21/68
CPC分类号： H01L21/67242 , H01L21/67742 , H01L21/6875
摘要： 반도체 기판과 이송 로봇 암과의 충돌을 방지할 수 있는 반도체 소자 제조용 장비가 제공된다. 반도체 소자 제조용 장비는 반도체 소자 제조 공정이 수행되는 매엽식 공정 챔버, 매엽식 공정 챔버 내에 설치되고 반도체 기판을 지지하는 다수의 지지 핀을 포함하는 반도체 기판 지지부, 반도체 기판 지지부와 반도체 기판 사이로 진입하여 반도체 기판을 로딩하거나 언로딩하는 이송 로봇 암 및 이송 로봇 암에 설치되어 반도체 기판과 상기 이송 로봇 암 간의 충돌을 방지하는 센서를 포함한다.
충돌 방지, 이송 로봇 암, 센서

38. 发明公开

KR1020060036848A 웨이퍼 이송로봇의 로봇 블레이드용 수평지그 无效
标题翻译：水平移动机器人机器人水平仪
公开(公告)号：KR1020060036848A
公开(公告)日：2006-05-02
申请号：KR1020040085963
申请日：2004-10-26
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김정남
IPC分类号： H01L21/68
CPC分类号： H01L21/67742 , B25J11/0095 , H01L21/67259 , H01L21/68707 , Y10S414/141
摘要： 본 발명은 로봇암의 선단에 결합되어 수평 및 회전이동이 가능하게 구비되는 한 쌍의 로봇 블레이드의 사이에 인입시켜 상기 로봇 블레이드의 수평도를 유지시키는 웨이퍼 이송로봇의 로봇 블레이드용 수평지그에 있어서,
상기 수평지그는 상기 상부 로봇 블레이드의 하면과 하부 로봇 블레이드의 상면을 지지하는 한 쌍의 지지부와, 상기 한 쌍의 지지부 사이를 연결하는 연결부와, 상기 연결부에 설치되어 상기 수평지그의 수평도를 확인하는 수준기가 포함되는 것을 특징으로 한다.

39. 发明公开

KR1020060035824A 종형확산로 无效
标题翻译：钟形扩散炉
公开(公告)号：KR1020060035824A
公开(公告)日：2006-04-27
申请号：KR1020040084161
申请日：2004-10-20
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김정남
IPC分类号： H01L21/22
摘要： 본 발명은 종형확산로에 관한 것으로 내측튜브의 구조를 변경하여 공정가스의 소모량을 절감하고, 형성되는 박막의 두께 균일성을 향상시키는 효과를 제공하는 것이다. 이를 위하여 본 발명의 종형확산로는 돔 형상의 외측튜브; 상기 외측튜브와 동축으로 상기 외측튜브의 내부에 위치하며, 내벽에 복수개의 삼각형 돌기로 요철을 형성한 원통형의 내측튜브; 상기 내측튜브와 평행한 방향으로 이동가능하며, 상기 내측튜브 내부에 수평 방향으로 다수의 웨이퍼를 탑재하는 보트; 공정가스를 분사하는 다수의 구멍을 구비하며, 상기 내측튜브와 상기 보트 사이에 위치한 가스노즐; 및 상기 내측튜브 내부의 잔류가스를 배출할 수 있는 배기관을 구비하는 것을 특징으로 한다.

종형확산로, 삼각형 돌기, 내측튜브, 보트

40. 发明公开

KR1020060033056A 반도체 확산 설비의 진공 펌프 냉각 시스템 无效
标题翻译：半导体沉积设备真空泵的冷却系统
公开(公告)号：KR1020060033056A
公开(公告)日：2006-04-19
申请号：KR1020040081985
申请日：2004-10-14
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김정남
IPC分类号： H01L21/22
CPC分类号： H01L21/67098 , H01L21/22 , H01L21/67017 , H01L21/67248
摘要： 본 발명은 반도체 확산 설비의 진공 펌프 냉각 시스템에 관한 것으로서, 냉각 매체로는 냉매를 사용하고, 냉매 공급 라인상에 설치되는 소정의 냉매 조절 밸브와, 상기 냉매 리턴 라인상에 설치되는 온도 감지 센서 및 상기 급냉 조절 보틀내에 설치하되, 상기 온도 감지 센서에 의해 유입되는 냉매의 온도를 감지하여 이를 바탕으로 상기 냉매 조절 밸브를 조절하여 공급되는 냉매의 공급량을 제어하는 컨트롤러를 포함하여, 리턴되는 냉매의 온도에 따라 공급되는 냉매의 양을 자동으로 조절하여 항상 냉각기의 온도를 일정하게 유지시켜 주기 때문에 온도 저하에 따른 냉각기 교체 주기를 연장시켜줄 수 있고 이로 인한 생산성 향상을 도모할 수 있는 효과가 있다.

확산 설비, 냉각 시스템, 냉각기, 냉매 조절 밸브, 온도 감지 센서, 컨트롤러, 피드백 시스템

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