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31. 发明授权

KR101363842B1 화학증폭형 포지티브 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한레지스트 패턴 형성 방법 有权
标题翻译：化学放大的正性光致抗蚀剂组合物和使用其的图案形成方法
公开(公告)号：KR101363842B1
公开(公告)日：2014-02-14
申请号：KR1020070045052
申请日：2007-05-09
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 이경호 , 박한우 , 나카니시준지
IPC分类号： G03F7/039
摘要： 본 발명은 (A) 본래는 알칼리 수용액에 불용성 또는 난용성이지만, 산에 대해 불안정한 작용기가 산의 작용에 의해 해리된 후에는 알칼리 수용액에 가용성이 되는 수지; (B) 광산발생제; 및 (C) 서로 다른 비중 및 끓는점을 갖는 제 1 유기용매 및 제 2 유기용매를 포함하는 용매를 포함하는 화학증폭형 포지티브 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 레지스트 패턴 형성방법에 관한 것이다.

32. 发明授权

KR101055215B1 화학증폭형 포지티브형 레지스트 조성물 有权
公开(公告)号：KR101055215B1
公开(公告)日：2011-08-08
申请号：KR1020040068358
申请日：2004-08-30
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 김상태 , 다카하시켄지 , 성시진 , 양돈식 , 박한우
IPC分类号： G03F7/039
摘要： 본 발명은 하기 화학식 1 로 표시되는 수지와 하기 화학식 2 로 표시되는 광산발생제와 화학식 3 으로 표시되는 첨가제를 함유하는 화학증폭형 포지티브형 레지스트 조성물에 관한 것이다.

[식 중,
R
1 : H 또는 CH
3 ,
R
2 : H, 탄소수 1 ~ 6의 직쇄형, 분기형 또는 고리형의 알킬기,
R
3 : 탄소수 1 ~ 10의 직쇄형, 분기형 또는 고리형의 알킬기,
a, b, c, d : 각각 독립적인 자연수로서 0.10 ≤a / (a+b+c+d) ≤0.50 또는 0.50 ≤b / (a+b+c+d) ≤0.90 또는 0 ≤(c+d) / (a+b+c+d) ≤0.40 을 만족함,
R
4 : 탄소수 1 ~ 10의 직쇄형, 분기형 또는 고리형의 알킬기,
R
5 : 탄소수 1 ~ 8의 직쇄형, 분기형 또는 고리형의 알킬기, 또는 하기
화학식으로 나타내는 화합물임.

(식 중, R
8 은 탄소수 1 ~ 8의 직쇄형, 분기형 또는 고리형의 알킬기, 아릴기, 또는 포화다중고리형을 표시하고, X 는 단일결합 또는 산소원자를 표시하고, n 은 0 또는 자연수를 표시함)],

(식 중, R
6 , R
7 : 탄소수 3 ~ 8의 직쇄형, 분기형 또는 고리형의 알킬기임)

화학증폭형 포지티브형 레지스트 조성물

33. 发明授权

KR102173148B1 감광성 수지 조성물, 이로부터 형성된 광경화 패턴 및 이를 포함하는 화상 표시 장치 有权
公开(公告)号：KR102173148B1
公开(公告)日：2020-11-02
申请号：KR1020150017131
申请日：2015-02-04
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 조용환 , 안보은 , 박한우
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/00

34. 发明公开

KR1020170132657A 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조되는 광경화 패턴 审中-实审
标题翻译：由其生产的光敏树脂组合物和光固化图案
公开(公告)号：KR1020170132657A
公开(公告)日：2017-12-04
申请号：KR1020170028613
申请日：2017-03-07
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 최석균 , 최화섭 , 박한우
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/027 , G03F7/028 , C08F20/30 , C08K5/32 , C08F20/32 , G03F7/20 , G02F1/1335 , G02F1/1339 , H01L51/52
摘要： 본발명은감광성수지조성물은지환식에폭시기함유반복단위를포함하는알칼리가용성수지, 화학식 1로표시되는화합물을포함하는광중합개시제, 광중합성화합물, 및용제를포함한다. 감광성수지조성물로부터경화시 우수한탄성회복률을가지면서도외부압력에변형이적은딱딱한특성을갖는광경화패턴을형성할수 있고, 고해상도, 우수한기판밀착력을가지며, 우수한 T/B 비를갖는광경화패턴이형성될수 있다.
摘要翻译：本发明是一种含有光聚合引发剂，光聚合性化合物，并包括由所述碱溶性树脂为代表的化合物的溶剂中的光敏树脂组合物，其包含含有脂环式环氧基的重复单元的式（1）。光固化，并能形成一个图案，瞄准器具有高分辨率，优异的基材粘合性，具有良好的T / B比被图案化，同时从感光性树脂组合物固化具有在外部压力小的变化的硬特性时具有良好的弹性回复率，形成它可以是。

35. 发明公开

KR1020160079320A 열경화성 수지 조성물 审中-实审
标题翻译：热固性树脂组合物
公开(公告)号：KR1020160079320A
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：KR1020140190528
申请日：2014-12-26
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 최한영 , 임민주 , 박한우
IPC分类号： C08L33/14 , C08F220/26 , C09D133/14
CPC分类号： C08L33/14 , C08F220/26 , C09D133/14
摘要： 본발명은상온에서높은안정성을가지고열처리에의한경화반응이쉽게일어나도록히드록시기를갖는반복단위를갖는고분자와락톤기를갖는반복단위를갖는고분자, 또는히드록시기를갖는반복단위및 락톤기를갖는반복단위가공중합된공중합체를포함하는열경화성수지조성물에관한것이다. 이러한수지조성물은반도체디바이스용의층간절연막, 패시베이션막, 액정표시소자의박막트랜지스터의보호막, 유기발광소자의전극보호막, 컬러필터보호막, 평탄화막등 다양한장치에서바람직하게사용이가능하다.
摘要翻译：本发明涉及热固性树脂组合物，其包含：具有羟基重复单元的聚合物和具有内酯重复单元的聚合物; 或其中具有羟基的重复单元和具有内酯基团的重复单元共聚的共聚物。树脂组合物可以理想地用于各种装置，例如用于半导体器件的层间绝缘膜，钝化膜，液晶显示元件的薄膜晶体管的保护膜，有机发光的电极保护膜元件，滤色器保护膜，平坦化膜等。

36. 发明授权

KR101592848B1 감광성 수지 조성물 有权
标题翻译：感光树脂
公开(公告)号：KR101592848B1
公开(公告)日：2016-02-11
申请号：KR1020150093240
申请日：2015-06-30
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 조용환 , 전지민 , 박한우
IPC分类号： G03F7/033 , G03F7/027 , G03F7/028
摘要： 본발명은감광성수지조성물에관한것으로, 보다상세하게는특정구조의반복단위를포함하는제1 수지및 특정구조의반복단위를포함하는제2 수지를포함하는알칼리가용성수지(A); 중합성화합물(B); 3관능이상의다관능티올화합물(C); 광중합개시제(D); 및용매(E)를포함하며, 상기제1 수지와상기제2 수지의혼합중량비는 50:50 내지 90:10임으로써, 저온경화조건에서도반응성이우수하고및 내구성이뛰어난패턴을형성할수 있는네가티브형감광성수지조성물에관한것이다.

37. 发明公开

KR1020160012545A 화학증폭형 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 황변 저감 방법 审中-实审
标题翻译：化学增感的光敏树脂组合物及其使用方法减少黄色
公开(公告)号：KR1020160012545A
公开(公告)日：2016-02-03
申请号：KR1020140094123
申请日：2014-07-24
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 최한영 , 임민주 , 박한우
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/40
CPC分类号： G03F7/0392 , C07C381/12 , G03F7/0045 , G03F7/0233 , G03F7/033 , G03F7/0388 , G03F7/0397 , G03F7/168
摘要： 본발명은화학증폭형감광성수지조성물및 이를이용한황변저감방법에관한것으로서, 보다상세하게는하기화학식 1로표시되는반복단위를포함하는제1 수지와하기화학식 2로표시되는반복단위를포함하는제2 수지를포함하는바인더수지, 광산발생제및 용매를포함함으로써감도, 경화도및 저장안정성이우수하고, 특히고온조건에서황변현상을억제하여투과율저하문제를개선할수 있는감광성수지조성물및 이를이용한황변저감방법에관한것이다.
摘要翻译：本发明涉及一种化学放大型感光性树脂组合物及使用其的黄色降低方法。更具体地说，本发明涉及：感光性树脂组合物，其包含粘合剂树脂，无机酸发生剂和溶剂，并且具有优异的灵敏度，硬度和储存稳定性; 以及使用其减少黄变的方法。粘合剂树脂包括含有由化学式1表示的重复单元的第一树脂和包括由化学式2表示的重复单元的第二树脂。感光性树脂组合物可以特别抑制高温下的黄化现象，因此可以减轻透光性下降。

38. 发明公开

KR1020150105120A 감광성 수지 조성물 审中-实审
标题翻译：感光性组合物
公开(公告)号：KR1020150105120A
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：KR1020140027373
申请日：2014-03-07
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 임민주 , 김종백 , 박한우 , 최한영
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/11 , G02F1/13
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/004 , G03F7/0226 , G03F7/0233 , G03F7/033 , G03F7/0392 , G03F7/0758
摘要： The present invention relates to a photosensitive resin composition and, more specifically, to a photosensitive resin composition including: a binder resin; a photoacid generator; a sensitizer; a radical scavenger represented by chemical formula 1; an oxide scavenger represented by chemical formula 2; and a solvent, and the photosensitive resin composition is capable of obtaining fast sensitivity and markedly improved transmittance at the same time as an insulating film with a pattern adhesion property and excellent uniformity.
摘要翻译：本发明涉及感光性树脂组合物，更具体地说，涉及包含粘合剂树脂的感光性树脂组合物，光致酸发生器; 敏化剂由化学式1表示的自由基清除剂; 由化学式2表示的氧化物清除剂; 和溶剂，并且与具有图案粘附性和优异均匀性的绝缘膜同时，感光性树脂组合物能够获得快速的敏感性和显着改善的透射率。

39. 发明公开

KR1020140090762A 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조되는 절연막 审中-实审
标题翻译：感光树脂组合物及其制备的绝缘层
公开(公告)号：KR1020140090762A
公开(公告)日：2014-07-18
申请号：KR1020130002759
申请日：2013-01-10
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 임민주 , 박한우 , 김종백
IPC分类号： G03F7/028 , G03F7/11 , G02F1/13
CPC分类号： G03F7/033 , G03F7/0007 , G03F7/0045 , G03F7/0233 , G03F7/027 , G03F7/031 , G03F7/039 , G03F7/0758
摘要： The present invention relates to a photosensitive resin composition and an insulation film manufactured from the same and, more specifically, to a photosensitive resin composition which comprises a thermal acid generator represented by chemical formula 1, to cure a pattern after exposure and development to provide postprocessing stability of an insulation film and adjust a pattern angle without front exposure; and to an insulation film manufactured from the same.
摘要翻译：本发明涉及一种感光性树脂组合物及其制造的绝缘膜，更具体地说，涉及一种感光性树脂组合物，其包含由化学式1表示的热酸发生剂，以在曝光和显影后固化图案以提供后处理绝缘膜的稳定性，并且在没有前曝光的情况下调整图案角度; 以及由其制造的绝缘膜。

40. 发明公开

KR1020090008039A 화학증폭형 포지티브 포토레지스트 조성물 无效
标题翻译：化学放大阳性光电组合物
公开(公告)号：KR1020090008039A
公开(公告)日：2009-01-21
申请号：KR1020070071327
申请日：2007-07-16
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 유경욱 , 박한우 , 김상태
IPC分类号： G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0397 , C07C381/12 , C08F220/30 , G03F7/0045 , G03F7/039 , G03F7/0392 , G03F7/0395
摘要： A chemically amplified positive photoresist composition, a method for forming a resist pattern by using the composition are provided to improve resolution, sensitivity, profile and depth of focus. A chemically amplified positive photoresist composition comprises a resin which comprises a structural unit represented by the formula 1 and a structural unit represented by the formula 2 arranged linearly in a ratio of 2-5 : 5-8 by mol and has a glass transition temperature of 150-170 deg.C and a molecular weight of 9,000-11,000; and a photoacid generator which comprises a compound represented by the formula 3 and a compound represented by the formula 4 in a ratio of 2.5-3 : 1 by weight, wherein R1 is H or a methyl group; R2 is a C1-C10 linear, branched or cyclic alkyl group; R3 is a C1-C10 linear, branched or cyclic alkyl group, a C5-C10 cycloalkyl group, an alkyl group substituted with a halogen atom, or a C6-C11 aryl group substituted or unsubstituted with a C1-C20 alkyl group, a C1-C6 alkoxy group or a halogen atom; and R5, R6 and R7 are independently H, OH, a C1-C6 linear, branched or cyclic alkyl group, or a C1-0C6 alkoxy group.
摘要翻译：提供化学放大的正性光致抗蚀剂组合物，通过使用该组合物形成抗蚀剂图案的方法，以提高分辨率，灵敏度，轮廓和焦深。化学放大型正性光致抗蚀剂组合物包含树脂，其包含由式1表示的结构单元和由式2表示的结构单元，其以2-5：5-8摩尔的比例线性排列，并且玻璃化转变温度为 150-170℃，分子量为9,000-11,000; 和光酸产生剂，其包含由式3表示的化合物和由式4表示的化合物，其比例为2.5-3:1重量比，其中R1为H或甲基; R2是C1-C10直链，支链或环状的烷基; R3是C1-C10直链，支链或环状烷基，C5-C10环烷基，被卤素原子取代的烷基或被C1-C20烷基取代或未取代的C6-C11芳基，C1 -C 1-6烷氧基或卤素原子; 并且R 5，R 6和R 7独立地为H，OH，C 1 -C 6直链，支链或环状烷基或C 1 -C 6烷氧基。

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