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    • 39. 发明公开
    • Halbleiterbauelement mit Lateralwiderstand
    • EP0833388A2
    • 1998-04-01
    • EP97116091.6
    • 1997-09-16
    • EUPEC Europäische Gesellschaft für Leistungshalbleiter mbH & Co. KG
    • Schulze, Hans-Joachim, Dr.
    • H01L29/74
    • H01L21/263H01L29/7408H01L29/7428H01L29/8605
    • Die Erfindung betrifft ein Halbleiterbauelement bestehend aus einem Halbleiterkörper (1) mit mindestens einem integriertem Lateralwiderstand (6), wobei sich der Lateralwiderstand (6) aus der Dotierungskonzentration im Widerstandsbereich (7) ergibt. Der Widerstandsbereich (7) befindet sich in einem von der Oberfläche des Halbleiterbauelements zugänglichen Bereich und besitzt eine definierte Dotierungskonzentration. Zusätzlich sind Streuzentren (11) im Bereich des Lateralwiderstandes (6) vorgesehen, welche die Temperaturabhängigkeit des Lateralwiderstandes (6) erniedrigen.
    • 在由半导体本体(1)组成的半导体器件中,所述半导体器件具有集成的横向电阻器(6),其由位于可从器件表面可访问的区域中的限定的掺杂剂浓度的电阻器区域(7)中的掺杂浓度导致,散射中心 )设置在横向电阻器(6)的区域中,用于降低电阻器的温度依赖性。 优选地,散射中心(11)是通过用非掺杂高能粒子,特别是α粒子,质子和/或电子或氧和/或硅离子照射而在半导体晶体中产生的缺陷,并且它们是Frenkel和/ 或肖特基缺陷,氧空位复合体和/或双空位。 还要求保护的是一种制造该器件的方法,其中散射中心是通过(a)屏蔽(MA)器件的阴极侧以覆盖电阻器区域(7)外的区域而产生的; (b)用高能非掺杂颗粒照射器件的阴极侧; 和(c)热处理以稳定散射中心(11)。