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21. 发明专利

JP6048532B2 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法有权
公开(公告)号：JP6048532B2
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：JP2015093488
申请日：2015-04-30
申请人： JSR株式会社
发明人：切通優子 , 成岡岳彦 , 西村幸生 , 浅野裕介 , 川上峰規 , 中島浩光
IPC分类号： G03F7/039 , C08F220/18 , G03F7/20 , G03F7/004
CPC分类号： C08F220/22 , C08F220/24 , C08F228/00 , C08L33/14 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041

22. 发明专利

JP2016197262A ポジ型感放射線性樹脂組成物、硬化膜及びその形成方法、半導体素子、並びに表示素子有权
标题翻译：阳离子型辐射敏感性树脂组合物，固化膜及其形成方法，半导体元件和显示元件
公开(公告)号：JP2016197262A
公开(公告)日：2016-11-24
申请号：JP2016152356
申请日：2016-08-02
申请人： JSR株式会社
发明人：三島絵里 , 西村幸生 , 下川努 , 八代隆郎
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/20 , C08F220/26 , C08F212/14 , G03F7/023
摘要：【課題】良好な表面硬度を維持しつつ、保存安定性に優れ、加えて感度、現像密着性、耐熱性、耐薬品性、透過率及び比誘電率等の一般的特性をも十分満足できる硬化膜を形成可能なポジ型感放射線性樹脂組成物の提供を目的とする。【解決手段】本発明は、[A]下記式(1)で表される基及び下記式(2)で表される基からなる群より選択される少なくとも1種を含む構造単位(I)と、オキセタン構造を含む構造単位(II)とを有する重合体、並びに[B]酸発生体を含有するポジ型感放射線性樹脂組成物である。下記式(1)中、R 1 及びR 2 は、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基又は炭素数1〜4のフッ素化アルキル基である。下記式(2)中、R 3 及びR 4 は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜4のアルキル基又は炭素数1〜4のフッ素化アルキル基である。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供能够形成保存稳定性优异的固化膜的正型感光性树脂组合物，另外，充分满足一般特性如感光度，显影粘合性，耐热性，耐化学性，透光率和电介质常数，同时保持良好的表面硬度。解决方案：正型辐射敏感性树脂组合物包含：[A]具有结构单元（I）的聚合物，其含有选自由式（1）表示的基团中的至少一个，由式（2）表示的结构单元（II）和含有氧杂环丁烷结构的结构单元（II）和[B]酸生成剂。在式（1）中，兰德稀有氢原子，碳原子数1〜4的烷基或碳原子数1〜4的氟代烷基。在式（2）中，兰德稀有氢原子，卤素原子，具有1至4个碳原子的烷基或具有1至4个碳原子的氟化烷基。选择图：无

23. 发明专利

JP5954459B2 感放射線性樹脂組成物、重合体及びレジストパターン形成方法有权
标题翻译：辐射敏感树脂组合物中，聚合物和抗蚀剂图案形成方法
公开(公告)号：JP5954459B2
公开(公告)日：2016-07-20
申请号：JP2015093489
申请日：2015-04-30
申请人： JSR株式会社
发明人：切通優子 , 成岡岳彦 , 西村幸生 , 浅野裕介 , 川上峰規 , 中島浩光
IPC分类号： G03F7/004 , C08F220/18 , G03F7/039
CPC分类号： C08F220/22 , C08F220/24 , C08F228/00 , C08L33/14 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041

24. 发明专利

JP5845556B2 レジストパターン微細化組成物及びレジストパターン形成方法有权
标题翻译：抗蚀剂图案更精细的组合物和抗蚀图案形成方法
公开(公告)号：JP5845556B2
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：JP2009173067
申请日：2009-07-24
申请人： JSR株式会社
发明人：西村幸生 , 松田恭彦 , 山口佳一 , 杉江紀彦 , 田中希佳
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/40

25. 发明专利

JP5725020B2 液浸上層膜形成用組成物及びフォトレジストパターン形成方法有权
标题翻译：用于形成液浸上层膜组合物和光致抗蚀剂图案形成方法
公开(公告)号：JP5725020B2
公开(公告)日：2015-05-27
申请号：JP2012515914
申请日：2011-05-18
申请人： JSR株式会社
发明人：羽山孝弘 , 草開一憲 , 西村幸生 , 丸山研 , 田中希佳
IPC分类号： G03F7/38 , H01L21/027 , G03F7/11
CPC分类号： G03F7/11 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F220/30 , G03F7/2041 , C08F228/02 , G03F7/0046 , G03F7/0397

26. 发明专利

JP5716397B2 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法及びフォトレジスト膜有权
标题翻译：辐射敏感树脂组合物，抗蚀剂图案的形成方法和光致抗蚀剂膜
公开(公告)号：JP5716397B2
公开(公告)日：2015-05-13
申请号：JP2010513014
申请日：2009-05-18
申请人： JSR株式会社
发明人：成岡岳彦 , 笠原一樹 , 中川大樹 , 榊原宏和 , 杉浦誠 , 下川努 , 志水誠 , 西村幸生 , 松村信司 , 浅野裕介
IPC分类号： C08F220/22 , C08F220/28 , G03F7/26 , G03F7/38 , H01L21/027 , G03F7/039
CPC分类号： C07C69/96 , C08F220/24 , C08F220/30 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041

27. 发明申请

WO2009041556A1 感放射線性組成物审中-公开
标题翻译：辐射敏感组合物
公开(公告)号：WO2009041556A1
公开(公告)日：2009-04-02
申请号：PCT/JP2008/067386
申请日：2008-09-26
申请人： JSR株式会社 , 西村幸生 , 宮田拡
发明人：西村幸生 , 宮田拡
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0045 , G03F7/2041
摘要：　本発明の感放射線性組成物は、下記一般式（１）で表される繰り返し単位（１）及び下記一般式（２）で表される繰り返し単位（２）を有する重合体（Ａ）と、感放射線性酸発生剤（Ｂ）とを含有するものであり、解像性能に優れるだけでなく、ＬＷＲが小さく、ＰＥＢ温度依存性が良好で、パターン倒れ耐性に優れ、且つ、欠陥性にも優れたレジスト膜を形成可能な感放射線性組成物である。（一般式（１）及び一般式（２）において、Ｒ１は互いに独立して、メチル基等を示し、Ｒ２は炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基等を示し、Ｒ３は炭素数１～４の直鎖状又は分岐状アルキル基を示し、ｎは１～５の整数を示す。）
摘要翻译：公开了含有具有下述通式（1）表示的重复单元（1）的聚合物（A）和下述通式（2）表示的重复单元（2）的辐射敏感性组合物，敏感酸发生器（B）。该辐射敏感性组合物能够形成抗蚀剂膜，其不仅在分辨率方面优异，而且在抗折叠性和缺陷性方面优异，同时具有低LWR和良好的PEB温度依赖性。（通式（1）和通式（2）中，R 1独立地表示甲基等; R 2表示具有1-12个碳原子的直链或支链烷基等; R 3表示直链或支链的具有1-4个碳原子的烷基; n表示1-5的整数。）

28. 发明申请

WO2008117693A1 ポジ型感放射線性組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法审中-公开
标题翻译：积极工作的辐射敏感性组合物和使用组合物形成抗蚀剂图案的方法
公开(公告)号：WO2008117693A1
公开(公告)日：2008-10-02
申请号：PCT/JP2008/054881
申请日：2008-03-17
申请人： JSR株式会社 , 西村幸生 , 酒井香織 , 松村信司 , 杉浦誠 , 中村敦 , 若松剛史 , 庵野祐亮
发明人：西村幸生 , 酒井香織 , 松村信司 , 杉浦誠 , 中村敦 , 若松剛史 , 庵野祐亮
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/004 , G03F7/40 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0035 , G03F7/0397 , G03F7/2024 , G03F7/2041 , G03F7/40
摘要：　液浸露光プロセスを用いた二重露光によるパターンニングにおいて、第一層目に形成されるパターンを不活性化させ、第二層目のパターン形成時における露光の際に、第一層目のパターンが感光してアルカリ可溶性とならず、第一層目のパターンを保持したまま第二層目のパターンを形成可能なパターン形成方法等を提供する。　本パターン形成方法は、第一レジスト層形成用組成物を用い、基板上に第一パターンを形成する工程と、第一パターンを不活性化させる工程と、第二レジスト層形成用組成物を用い、パターンが形成された基板上に第二レジスト層を形成し、露光する工程と、現像し、第一パターンのスペース部分に第二パターンを形成する工程とを含み、第一レジスト層形成用組成物はネガ化を促進する架橋剤を含有することを特徴とする。
摘要翻译：本发明提供了一种图案形成方法，其优点在于，在通过使用液浸曝光的双曝光进行图案化时，当第一层图案在形成第二层图案时被钝化，随后曝光时，第一层图案通过第一层图案的曝光不会碱溶，因此可以在保持第一层图案的同时形成第二层图案。图案形成方法的特征在于包括以下步骤：使用第一抗蚀剂层形成用组合物在基板上形成第一图案，使第一图案失效，使用在基板上形成第二抗蚀剂层的组合物形成第二抗蚀剂层其上形成有图案并将组件暴露于光，并且显影组件以在第一图案的空间区域中形成第二图案，所述第一抗蚀剂层形成用组合物含有用于加速转化为负作用类型的交联剂。

29. 发明申请

WO2008087840A1 液浸露光用感放射線性樹脂組成物及びフォトレジストパターン形成方法审中-公开
标题翻译：用于浸没曝光的辐射敏感性树脂组合物和形成光电子图案的方法
公开(公告)号：WO2008087840A1
公开(公告)日：2008-07-24
申请号：PCT/JP2007/075016
申请日：2007-12-26
申请人： JSR株式会社 , 西村幸生 , 原田健太郎 , 若松剛史 , 中島浩光 , 中川大樹 , 松村信司
发明人：西村幸生 , 原田健太郎 , 若松剛史 , 中島浩光 , 中川大樹 , 松村信司
IPC分类号： G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0392 , G03F7/0046 , G03F7/2041
摘要：　本発明の目的は、得られるパターン形状が良好であり、焦点深度に優れ、液浸露光時に接触した水等の液浸媒体への溶出物の量が少なく、且つバブル欠陥の発生を抑制することができる液浸露光用感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたフォトレジストパターン形成方法を提供することである。本発明の液浸露光用感放射線性樹脂組成物は、フッ素化アルキル基を含有し、フッ素含量が３ａｔｏｍ％以上であり、且つ酸の作用によりアルカリ可溶性となる重合体（Ａ）と、酸の作用によりアルカリ可溶性となり、且つフッ素含量が３ａｔｏｍ％未満である樹脂（Ｂ）と、感放射線性酸発生剤（Ｃ）と、を含有する樹脂組成物であって、この樹脂組成物を基板上に塗布して形成されるフォトレジスト膜の水に対する前進接触角が９５度以下である。
摘要翻译：用于浸渍曝光的辐射敏感树脂组合物，其能够产生令人满意的图案形状，具有优异的焦深，并且降低溶解在浸渍介质（例如水）中的组分的含量，浸渍介质中的组合物在浸渍期间与其接触曝光。减少气泡缺陷是有效的。还提供了从组合物形成光致抗蚀剂图案的方法。用于浸渍曝光的辐射敏感性树脂组合物包括：含有氟烷基的聚合物（A），氟含量为3原子％以上，并且通过酸的作用变得碱溶性; 通过酸作为碱溶性且氟含量低于3原子％的树脂（B）; 和辐射敏感性酸产生剂（C）。通过将该树脂组合物涂布在基板上而形成的光致抗蚀剂膜与水的前进接触角为95°以下。

30. 发明申请

WO2007116664A1 フッ素含有重合体及び精製方法並びに感放射線性樹脂組成物审中-公开
标题翻译：含氟聚合物，纯化方法和辐射敏感性树脂组合物
公开(公告)号：WO2007116664A1
公开(公告)日：2007-10-18
申请号：PCT/JP2007/056094
申请日：2007-03-23
申请人： JSR株式会社 , 中川大樹 , 中島浩光 , 若松剛史 , 原田健太郎 , 西村幸生 , 塩谷健夫
发明人：中川大樹 , 中島浩光 , 若松剛史 , 原田健太郎 , 西村幸生 , 塩谷健夫
IPC分类号： C08F20/22 , G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0046 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F220/28 , G03F7/0045 , G03F7/039 , G03F7/0397 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2006 , G03F7/2041 , G03F7/322 , G03F7/38 , G03F7/40
摘要： Disclosed are a novel fluorine-containing polymer, and a radiation-sensitive resin composition for immersion exposure containing such a polymer. The radiation-sensitive resin composition enables to obtain a pattern having a good shape and excellent depth of focus, while hardly dissolving into water which comes into contact during immersion exposure. In addition, the radiation-sensitive resin composition enables to obtain a large receding contact angle between a resist film and water. Also disclosed is a method for purifying a fluorine-containing polymer. Specifically, the resin composition contains a novel fluorine-containing polymer (A) containing repeating units represented by the general formulae (1) and (2) below and having an Mw of 1,000-50,000, a resin (B) having an acid labile group, a radiation-sensitive acid generator (C), a nitrogen-containing compound (D) and a solvent (E).
摘要翻译：公开了一种新型含氟聚合物和用于浸渍曝光的含有这种聚合物的辐射敏感性树脂组合物。该辐射敏感性树脂组合物能够获得具有良好的形状和优异的聚焦深度的图案，同时几乎不溶于浸入曝光期间接触的水中。此外，辐射敏感性树脂组合物能够获得抗蚀剂膜和水之间的大的后退接触角。还公开了一种用于纯化含氟聚合物的方法。具体而言，树脂组合物含有含有下述通式（1）和（2）表示的重复单元，Mw为1000〜5000的新的含氟聚合物（A），具有酸不稳定基团的树脂（B），辐射敏感性酸产生剂（C），含氮化合物（D）和溶剂（E）。

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