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    • 25. 发明授权
    • 이층 합금도금강판 및 그 제조방법
    • 具有两层合金金属和电镀工艺的电镀钢板
    • KR1019920010777B1
    • 1992-12-17
    • KR1019900022635
    • 1990-12-31
    • 주식회사 포스코재단법인 포항산업과학연구원
    • 이재륭신정철한갑수정진호
    • C25D5/10C25D5/26
    • An alloy electroplated steel plate consists of (1) the lower electroplated surface layer comprising Zn-Ni-Cr alloy which contains 5-20 wt.% of nickel, 0.1-0.5 wt.% chromium and the residual iron, having the thickness of at least 10 g/m2 on one side of steel plate and (2) the upper layer comprising Fe-Zn-Mn alloy electroplating layer which contains 5-30 wt.% zinc, 0.1-10 wt.% manganese and the residual iron, having a thickness of more than 0.5 g/m2. The bilayered alloy steel plate is electroplated by controlling and applying to the following conditions: (a) the total metallic concentration has the range from 0.5 mol/l to the critical solubility, (b) the amount of zinc ion and manganese ion in this concentration is 1-40 mol.%, (c) the ionic concentration of chloride is 5.0-1.0 mol, and the pH of chloride is 1.0-4.0, (d) the current density in the chloride bath is 250 or 20-150 A/dm2 and the relative flow velocity is 20-200 or 30-120 m/min.
    • 一种合金电镀钢板由(1)包含Zn-Ni-Cr合金的下电镀表面层组成,其含有5-20重量%的镍,0.1-0.5重量%的铬和残余的铁,其厚度为 在钢板一侧最少为10g / m2;(2)含Fe-Zn-Mn合金电镀层的上层含有5-30wt。%的锌,0.1-10wt。%的锰和残余的铁, 厚度大于0.5g / m2。 通过控制和应用以下条件对双层合金钢板进行电镀:(a)总金属浓度范围为0.5mol / l至临界溶解度,(b)该浓度的锌离子和锰离子的量 为1-40mol%,(c)氯离子的离子浓度为5.0-1.0mol,氯化物的pH为1.0-4.0,(d)氯化物浴中的电流密度为250或20-150A / dm2,相对流速为20-200或30-120 m / min。
    • 27. 发明公开
    • 비정질 실리콘 산화물 진공증착을 이용한 아연계도금강판의 화성처리방법
    • 将非晶硅氧化物沉积在镀锌和镀锌钢板上
    • KR1020050064066A
    • 2005-06-29
    • KR1020030095338
    • 2003-12-23
    • 주식회사 포스코재단법인 포항산업과학연구원
    • 전중환정진호박치록
    • C23C14/24
    • C23C14/10C23C14/0026C23C14/24
    • 본 발명은 비정질 실리콘 산화물 진공증착을 이용한 아연계 도금강판의 화성처리 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 아연, 아연-철, 아연-니켈 등의 아연계 도금강판의 기본적인 후처리 방법으로 사용되는 크로메이트(chromate) 처리 기술을 대체하기 위한 새로운 개념의 화성처리 대체 기술로서 도금강판의 표면에 실리콘 산화물을 비정질(amorphous) 형태로 진공증착함으로써 환경공해의 주요한 발생요인이 되는 6가 크롬을 사용하지 않으면서 도금강판의 내식성을 크게 강화하는 비정질 실리콘 산화물 진공증착을 이용한 아연계 도금강판의 화성처리 방법에 관한 것이다.
      본 발명은 아연계 도금강판의 화성처리 방법에 있어서, 용융도금으로 제조된 아연 도금강판 및 아연-철 합금화 도금강판의 표면에 전자빔 증발원을 이용한 반응성 진공증착법으로 실리콘 산화물을 증착하되, 상기 실리콘 산화물 증착막의 두께는 1,000 nm의 이하로 제한하고, 진공증착 공정에 있어서 소재인 도금강판의 온도는 300℃ 이하로 유지하며, 실리콘 산화물 진공증착 과정 중에 진공조의 산소 분압을 제어하여 최종 증착막 중의 산소 농도를 70 at.% 이하로 하는 것을 특징으로 하는 비정질 실리콘 산화물 진공증착을 이용한 아연계 도금강판의 화성처리 방법을 요지로 한다.