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21. 发明授权

KR100663564B1 사용 정보를 관리하는 이동 통신 단말기 및 그 방법 失效
标题翻译：用于管理所用信息的移动通信终端及其方法
公开(公告)号：KR100663564B1
公开(公告)日：2007-01-02
申请号：KR1020040095103
申请日：2004-11-19
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 조정훈 , 김용현
IPC分类号： H04B1/40
摘要： 본 발명은 심(SIM) 카드가 삽입되어 사용되는 이동 통신 단말기에 있어서, 상기 이동 통신 단말기에 삽입된 심 카드의 사용 정보를 상기 삽입된 심 카드의 가입자 식별 번호별로 저장하는 메모리부와, 사용자의 요청에 따라 상기 삽입된 심 카드를 마스터 또는 슬레이브로 등록하고, 상기 등록된 심 카드 가입 식별 번호에 대응된 소정 저장 영역을 상기 메모리에부에 생성하며, 마스터로 등록된 심 카드가 삽입되면 슬레이브로 등록된 심 카드 리스트를 제공하는 제어부를 포함함을 특징으로 한다. 따라서 본 발명은 하나의 이동 통신 단말기에 다수의 SIM 카드를 사용할 때, 각 SIM 카드의 가입자 식별 번호에 대응된 저장 영역에만 각각의 SIM 카드 사용 정보를 저장하고 검색할 수 있으므로 공동으로 사용하는 이동 통신 단말기라 하더라도 혼자 사용하는 것과 같은 효과를 볼 수 있다. 또한 사용자가 소지한 각 SIM 카드의 가입자 식별 번호에 대응된 저장 영역에 저장된 사용 정보만을 검색할 수 있으므로 SIM 카드 사용 정보의 보안도 유지할 수 있다.
GSM, 심 카드, 이동 통신 단말기, 정보 저장

22. 发明授权

KR100655073B1 정전 척 失效
标题翻译：静电吸盘
公开(公告)号：KR100655073B1
公开(公告)日：2006-12-08
申请号：KR1020010005802
申请日：2001-02-07
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 이태원 , 배도인 , 김국광 , 조정훈 , 이상열
IPC分类号： H01L21/00
摘要： 본 발명은 냉각가스 통로의 간단한 개선에 의해 에지부에서의 냉각 효율을 더욱 증강시켜 공정의 안정된 수행과 제품에 대한 신뢰성이 향상되도록 하는 정전 척에 관한 것으로서, 이를 위하여 본 발명은 금속 기반과 절연층과 전극층 및 유전체층으로 이루어지며, 상기 유전체층의 표면으로 냉각가스 통로를 형성하는 정전 척에 있어서, 상기 냉각가스 통로는 유전체층의 표면에서 센터부로부터 에지부측으로 요입 깊이가 하향 단차지도록 하는 구성인 바 이로인해 에지부측의 냉각가스 유동량을 증대시켜 웨이퍼(60)의 전면에 걸쳐 균일한 가공성을 갖도록 하고, 그에 따라 제품 특성의 균일화 및 신뢰성을 높이는 동시에 생산성이 증대되도록 하는 것이다.

반도체 제조, 웨이퍼, 정전 척, 웨이퍼 냉각, 에칭, 냉각가스 통로

23. 发明公开

KR1020050010604A 외부 기기 연결시 사용자 안내 온 스크린 표시 방법 및그를 적용한 디스플레이 장치 有权
标题翻译：在屏幕显示方法和显示装置上显示与屏幕显示有关的外部设备连接到显示设备的信息
公开(公告)号：KR1020050010604A
公开(公告)日：2005-01-28
申请号：KR1020030049839
申请日：2003-07-21
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 조정훈
IPC分类号： H04N5/445
CPC分类号： H04N5/44513 , H04N21/4135 , H04N21/4363 , H04N21/44231 , H04N21/488
摘要： PURPOSE: An on-screen-display method and a display device employing the method are provided to display on-screen-display information related to a signal search operation of an external device on the screen of a television receiver for a predetermined period of time to prevent a user from judging that the television receiver or the external device has a trouble. CONSTITUTION: A signal output from an external device is detected when a display mode is an external input mode(240). When no signal is detected from the external device, on-screen-display information representing that the signal of the external device is being searched is displayed for a predetermined period of time(250). When the signal from the external device is detected, the on-screen-display information is removed.
摘要翻译：目的：提供一种屏幕显示方法和采用该方法的显示装置，用于在电视接收机的屏幕上显示与外部设备的信号搜索操作相关的屏幕显示信息一段预定时间段防止用户判断电视接收机或外部设备有问题。构成：当显示模式是外部输入模式（240）时，会检测到来自外部设备的信号输出。当没有从外部设备检测到信号时，显示表示正在搜索的外部设备的信号的屏幕显示信息预定的时间段（250）。当检测到来自外部设备的信号时，屏幕显示信息被去除。

24. 发明公开

KR1020040015602A 반도체 제조 장치 无效
标题翻译：半导体制造设备
公开(公告)号：KR1020040015602A
公开(公告)日：2004-02-19
申请号：KR1020020047886
申请日：2002-08-13
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 류시원 , 김종우 , 조정훈 , 김영일 , 이상욱
IPC分类号： H01L21/205
摘要： PURPOSE: A semiconductor manufacturing apparatus is provided to be capable of preventing process gas from flowing into a heater by installing a ceramic ring at the outer portion of a quartz plate. CONSTITUTION: A semiconductor manufacturing apparatus is provided with a process chamber(100) and a chuck(200) installed at the predetermined inner portion of the process chamber. At this time, the chuck includes a quartz plate(220), a susceptor(210) located at the upper portion of the plate for forming a closed space and loading a substrate, and a heater(240) located at the closed space for heating the substrate. The semiconductor manufacturing apparatus further includes a gas jetting part for jetting process gas to the substrate. Preferably, a ceramic ring(280) is installed along the peripheral portion of the chuck between the plate and the susceptor for preventing the inflow of the process gas.
摘要翻译：目的：提供一种半导体制造装置，其能够通过在石英板的外部设置陶瓷环来防止工艺气体流入加热器。构成：半导体制造装置设置有处理室（100）和安装在处理室的预定内部的卡盘（200）。此时，卡盘包括石英板（220），位于板的上部的基座（210），用于形成封闭空间并加载基板;以及加热器（240），位于封闭空间处用于加热底物。半导体制造装置还包括用于向处理基板喷射处理气体的气体喷射部。优选地，陶瓷环（280）沿着卡盘的周边部分安装在板和基座之间，以防止工艺气体的流入。

25. 发明授权

KR100402797B1 위치확인시스템을 이용한 도난방지장치 및 방법 失效
标题翻译： 위치확인시스템을이용한도난방지장치및방
公开(公告)号：KR100402797B1
公开(公告)日：2003-10-22
申请号：KR1020010063995
申请日：2001-10-17
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 조정훈
IPC分类号： G08G1/017
摘要： PURPOSE: An apparatus and a method for preventing burglary using a position identification system are provided to improve a burglarproof function by generating the alarm sound according to a movement or an input operation of a wrong number of an electronic product. CONSTITUTION: A mode selection portion(100) has a fixing mode function and a moving mode function. In addition, the mode selection portion(100) provides a device for setting up or changing a mode. A movement sensor portion(110) has the first contact portion, the second contact portion, and a signal output portion. An alarm sound output portion(120) outputs the alarm sound according to a control signal of a control portion(160). A position transmission portion(130) receives and reads a position information signal of a television from a GPS satellite. A power supply portion(140) supplies necessary power. An auxiliary power supply portion(150) supplies the power during a predetermined time when the power is not supplied to the television. The control portion output a control signal for outputting the alarm sound.
摘要翻译：目的：提供一种使用位置识别系统防止盗窃的设备和方法，以通过根据电子产品的错误号码的移动或输入操作产生警报声音来提高防盗功能。构成：模式选择部分（100）具有定影模式功能和移动模式功能。另外，模式选择部分（100）提供用于设置或改变模式的设备。运动传感器部分（110）具有第一接触部分，第二接触部分和信号输出部分。警报声音输出部分（120）根据控制部分（160）的控制信号输出警报声音。位置发送部分（130）从GPS卫星接收并读取电视的位置信息信号。电源部分（140）提供必要的电力。辅助电源部分（150）在没有电力供应到电视机的预定时间期间供应电力。控制部分输出用于输出警报声音的控制信号。

26. 发明公开

KR1020020087531A 반도체 제조에 사용되는 가공 장치 无效
标题翻译：使用半导体工艺的加工设备
公开(公告)号：KR1020020087531A
公开(公告)日：2002-11-23
申请号：KR1020010026080
申请日：2001-05-14
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 이재학 , 조정훈 , 김병한
IPC分类号： H01L21/205
摘要： PURPOSE: A processing device in semiconductor fabrication including a diffuser is provided to spread uniformly an object to be processed with gases. CONSTITUTION: A processing device comprises a processing chamber(200), an injection nozzle(230), a chuck for holding a substrate(220), and a diffuser(240), a clamping ring. The diffuser(240) has a shape of a circular plate. A hole is formed on the circular plate. The hole faces an injection nozzle.
摘要翻译：目的：提供包括扩散器的半导体制造中的处理装置，以均匀地扩散待处理的物体。构成：处理装置包括处理室（200），注射喷嘴（230），用于保持基板（220）的卡盘和扩散器（240），夹紧环。扩散器（240）具有圆形板的形状。在圆板上形成孔。孔面向喷嘴。

27. 实用新型

KR2020010001411U 에이취에스지 공정용 고진공 열처리 챔버 无效
标题翻译：用于半球形晶粒成形工艺的高真空退火炉
公开(公告)号：KR2020010001411U
公开(公告)日：2001-01-15
申请号：KR2019990011851
申请日：1999-06-29
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 양윤식 , 차훈 , 조정훈
IPC分类号： H01L21/304
摘要： 목적: 챔버외부에형성된함몰부를제거하여진공와류의발생을방지하고파티클이용이하게배출될수 있도록개선된 HSG 공정용챔버를제공한다. 구성: 챔버내부에는웨이퍼를안치하는서셉터및 상기웨이퍼에열을공급하는히터가구비되고, 챔버벽에는트랜스퍼챔버와의웨이퍼출입을위한웨이퍼출입구와, 배큠조성및 챔버내 반응가스및 부산물의배출을위한배기구가형성되고, 상기웨이퍼출입구및 배기구의외측하방이각각함몰된구조로된 HSG 공정용고진공열처리챔버에있어서, 상기함몰부각각을상기챔버재료와동일한재료로형성된블록실드로매립시켜출입구및 배기구의개폐시에상기챔버내부와외부의압력차로발생하는공기흐름이원활하게이루어지도록한다. 효과 : 챔버내의진공흐름시에와류발생을방지하여파티클의배출을용이하게함으로써챔버내 파티클의누적량을줄일수 있고, HSG 공정중에는부유된파티클이웨이퍼에흡착되는것을방지하여제조수율을향상시킬수 있다.

28. 发明公开

KR1020000022645A 불순물 오염이 억제된 반도체 제조용 반응 챔버 失效
标题翻译：用于制造防污染抑制半导体的反应室
公开(公告)号：KR1020000022645A
公开(公告)日：2000-04-25
申请号：KR1019990022541
申请日：1999-06-16
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 박정혁 , 김희덕 , 조정훈 , 최종욱 , 조성범 , 이영구 , 김진성 , 이장은 , 정주혁 , 박선후 , 이재현 , 남신우
IPC分类号： H01L21/306
CPC分类号： H01J37/32431 , C23C16/4583 , C23C16/4585 , C23C16/54 , H01J37/32623 , H01J37/32642 , H01L21/32136 , H01L21/6831 , H01L21/68735 , Y10T117/10
摘要： PURPOSE: A reaction chamber is provided to suppress an impurity occurrence by preventing plasma from being penetrated into a rear side of a semiconductor wafer through a close contact of an edge ring and a semiconductor wafer. CONSTITUTION: An electrostatic chuck(200) absorbs a semiconductor wafer(100) through an electrostatic absorption. A lift pin(210) is penetrated and inserted into a center portion of the electrostatic chuck(100) to travel the semiconductor wafer(100) up and down on loading and unloading. An edge ring(240) is mounted on an upper edge of the electrostatic chuck(200) to fix the semiconductor wafer(100). A focus ring(280) guides a plasma formation area on an upper portion of the semiconductor wafer(100) to an edge portion of the semiconductor wafer(100) to form an even plasma formation area.
摘要翻译：目的：提供一种反应室，通过边缘环和半导体晶片的紧密接触防止等离子体渗透到半导体晶片的后侧，从而抑制杂质发生。构成：静电吸盘（200）通过静电吸收吸收半导体晶片（100）。提升销（210）穿透并插入到静电卡盘（100）的中心部分中，以在装载和卸载时上下运动半导体晶片（100）。边缘环（240）安装在静电卡盘（200）的上边缘上以固定半导体晶片（100）。聚焦环（280）将半导体晶片（100）的上部的等离子体形成区域引导到半导体晶片（100）的边缘部分，以形成均匀的等离子体形成区域。

29. 发明公开

KR1019990048220A 반도체 이온주입설비의 빔모니터 장치 无效
标题翻译：半导体离子注入设备的光束监测装置
公开(公告)号：KR1019990048220A
公开(公告)日：1999-07-05
申请号：KR1019970066858
申请日：1997-12-09
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 조병배 , 조정훈
IPC分类号： H01L21/265
摘要： 본 발명은 빔게이트의 빔유입구를 통해서 유입된 빔을 센싱하여 스캔 맥스 작업을 수행하는 반도체 이온주입설비의 빔모니터 장치에 관한 것이다.
본 발명은, 빔이 유입되도록 빔유입구가 형성되어 있는 빔게이트와 상기 빔게이트와 마주보며 상기 빔유입구를 통해서 유입된 빔을 디텍션하는 빔모니터와 상기 빔게이트와 상기 빔모니터 사이에 설치되고, 상부계단 및 하부계단으로 이루어지는 계단형상의 빔모니터 인슐레이터를 구비하는 반도체 이온주입설비의 빔모니터 장치에 있어서, 상기 빔모니터 인슐레이터는 나사에 의해 상기 빔게이트와 빔모니터 사이에 고정되며, 상기 빔모니터 인슐레이터의 노출표면을 증가시키기 위하여 상기 하부계단의 말단부가 상기 빔게이트의 유입구 근처까지 연장되어 있는 것을 특징으로 한다.
따라서, 빔모니터 인슐레이터의 절연능력을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

30. 发明公开

KR1019980031830A 반도체 제조용 스캐번저의 도어 개폐 감지장치 无效
标题翻译：半导体制造用清扫器的门开闭检测装置
公开(公告)号：KR1019980031830A
公开(公告)日：1998-07-25
申请号：KR1019960051392
申请日：1996-10-31
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 민병호 , 홍형식 , 조정훈
IPC分类号： H01L21/20
摘要： 런(Run)의 진행여부에 따라 안전 또는 비상경보램프를 발광시키고 런 중 백 도어(Back Door)가 열리면 경보음을 발생하도록 개선시킨 반도체 제조용 스캐번저의 도어 개폐 감지장치에 관한 것이다.
본 발명은, 런 중인 경우 도어를 여는 것을 방지하기 위한 반도체 제조용 스캐번저(Scavenger)의 도어 개폐 경보장치에 있어서, 전원, 런 여부에 따라 연동스위칭되는 제 1 릴레이, 상기 릴레이의 연동상태에 따라 2접점 스위칭되는 제 2 릴레이 및 상기 제 2 릴레이가 제 1 접점 스위칭되면 전원을 인가받아서 안전경보램프를 점등하고, 상기 제 2 릴레이가 제 2 점점 스위칭되면 전원을 인가받아서 비상경보램프를 점등하는 경보수단을 구비하여 이루어진다.
따라서, 확산공정을 수행하는 중 도어가 열려서 발생될 수 있는 문제점을 사전에 예방할 수 있어서, 설비의 가동율을 높여서 수율 및 생산성을 향상시킬 수 있고, 사고를 미연에 방지할 수 있는 효과가 있다.

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