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21. 发明专利

TWI649526B 乾燥裝置及乾燥處理方法（二）有权
简体标题：干燥设备及干燥处理方法（二）
公开(公告)号：TWI649526B
公开(公告)日：2019-02-01
申请号：TW103108582
申请日：2014-03-12
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：島村明典 , SHIMAMURA, AKINORI , 林輝幸 , HAYASHI, TERUYUKI , 今田雄 , KONTA, YU , 佐田徹也 , SADA, TETSUYA , 西山淳 , NISHIYAMA, JUN , 齋藤廣美 , SAITO, HIROMI , 大田司 , OTA, TSUKASA , 田邊誠一 , TANABE, SEIICHI
IPC分类号： F26B5/04 , F26B3/02 , B05D3/04

22. 发明专利

TWI584426B 烘烤處理系統及有機EL元件之有機功能膜之層積體之製造方法有权
简体标题：烘烤处理系统及有机EL组件之有机功能膜之层积体之制造方法
公开(公告)号：TWI584426B
公开(公告)日：2017-05-21
申请号：TW102126466
申请日：2013-07-24
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：成島正樹 , NARUSHIMA, MASAKI , 林輝幸 , HAYASHI, TERUYUKI , 下茂文夫 , SHIMO, FUMIO , 小泉建次郎 , KOIZUMI, KENJIRO
IPC分类号： H01L23/34
CPC分类号： H01L51/0026 , H01L21/67161 , H01L21/67748 , H01L21/68742

23. 发明专利

TWI497577B 基板處理方法及基板處理裝置失效
简体标题：基板处理方法及基板处理设备
公开(公告)号：TWI497577B
公开(公告)日：2015-08-21
申请号：TW096136351
申请日：2007-09-28
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：川村茂 , KAWAMURA, SHIGERU , 林輝幸 , HAYASHI, TERUYUKI
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/02063 , H01J37/32862 , H01L21/02071 , H01L21/76814 , H01L21/76825 , H01L21/76828

24. 发明专利

TWI490912B 圖案形成方法及半導體裝置之製造方法有权
简体标题：图案形成方法及半导体设备之制造方法
公开(公告)号：TWI490912B
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：TW101105563
申请日：2012-02-21
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：石川拓 , ISHIKAWA, HIRAKU , 林輝幸 , HAYASHI, TERUYUKI , 松岡孝明 , MATSUOKA, TAKAAKI , 小野裕司 , ONO, YUJI
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/3065
CPC分类号： H01L21/30604 , H01L21/0217 , H01L21/02274 , H01L21/0337 , H01L21/308 , H01L21/31111 , H01L21/32139 , H01L21/67178 , H01L21/67184 , H01L21/6719

25. 发明专利

TW201447208A 乾燥裝置及乾燥處理方法（二）审中-公开
简体标题：干燥设备及干燥处理方法（二）
公开(公告)号：TW201447208A
公开(公告)日：2014-12-16
申请号：TW103108582
申请日：2014-03-12
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED , 精工愛普生公司 , SEIKO EPSON CORPORATION
发明人：島村明典 , SHIMAMURA, AKINORI , 林輝幸 , HAYASHI, TERUYUKI , 今田雄 , KONTA, YU , 佐田徹也 , SADA, TETSUYA , 西山淳 , NISHIYAMA, JUN , 齋藤廣美 , SAITO, HIROMI , 大田司 , OTA, TSUKASA , 田邊誠一 , TANABE, SEIICHI
IPC分类号： F26B5/04 , F26B3/02
摘要：提供一種可效率良好，且在短時間內來去除基板上所塗布之有機材料膜中之溶劑，並且可在基板的面內進行均勻的乾燥處理之乾燥裝置及乾燥處理方法。乾燥裝置係具備有可抽真空之處理容器、在處理容器內作為支撐基板之支撐構件的載置台、朝向載置台所支撐的基板上之有機材料膜噴射氣體的氣體噴射裝置以及控制部。又，乾燥裝置係具備有調節處理容器內之壓力的壓力控制機構。複數噴嘴係係構成為依噴嘴而可獨立調節氣體的噴射流量、氣體的種類結構。
简体摘要：提供一种可效率良好，且在短时间内来去除基板上所涂布之有机材料膜中之溶剂，并且可在基板的面内进行均匀的干燥处理之干燥设备及干燥处理方法。干燥设备系具备有可抽真空之处理容器、在处理容器内作为支撑基板之支撑构件的载置台、朝向载置台所支撑的基板上之有机材料膜喷射气体的气体喷射设备以及控制部。又，干燥设备系具备有调节处理容器内之压力的压力控制机构。复数喷嘴系系构成为依喷嘴而可独立调节气体的喷射流量、气体的种类结构。

26. 发明专利

TWI453794B 圖案形成方法、半導體製造裝置及記憶媒體有权
简体标题：图案形成方法、半导体制造设备及记忆媒体
公开(公告)号：TWI453794B
公开(公告)日：2014-09-21
申请号：TW097151065
申请日：2008-12-26
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：田村明威 , TAMURA, AKITAKE , 林輝幸 , HAYASHI, TERUYUKI , 藤原馨 , FUJIHARA, KAORU
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： H01L21/31144 , H01L21/0337 , H01L27/1052 , H01L27/115 , H01L27/11521

27. 发明专利

TWI408757B 石英構件之分析方法失效
简体标题：石英构件之分析方法
公开(公告)号：TWI408757B
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：TW096119813
申请日：2007-06-01
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：土橋和也 , DOBASHI, KAZUYA , 林輝幸 , HAYASHI, TERUYUKI , 繼田浩平 , TSUGITA, KOHEI , 齊藤美佐子 , SAITO, MISAKO
IPC分类号： H01L21/66 , G01N21/73 , H01L21/306
CPC分类号： G01N1/32 , G01N21/3103 , G01N33/38

28. 发明专利

TW201329273A 成膜裝置及成膜方法审中-公开
简体标题：成膜设备及成膜方法
公开(公告)号：TW201329273A
公开(公告)日：2013-07-16
申请号：TW101129036
申请日：2012-08-10
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：鎌田美子 , KAMADA, TOMIKO , 林輝幸 , HAYASHI, TERUYUKI , 小野裕司 , ONO, YUJI
IPC分类号： C23C14/54 , H01L51/50 , H05B33/10
CPC分类号： C23C14/12 , C23C14/228 , C23C14/546 , H01L51/001
摘要：本發明之目的在圖求於成膜處理中膜厚測定所使用之水晶振盪器的長壽化。進一步，提供一種可在使用複數種材料氣體施行成膜時，依據對於個別材料氣體之成膜量與對於混合氣體之成膜量的關係性而進行膜厚控制之成膜裝置及成膜方法。本發明提供之成膜成膜裝置，於基板將薄膜成膜成膜裝置，具備：可自由減壓之材料供給部，供給載氣及材料氣體；以及噴頭，於該基板之頂面噴射材料氣體；該材料供給部與該噴頭介由材料氣體供給路連通；於該材料氣體供給路，設置自材料氣體供給路分支之分支流路；於該分支流路連接測定材料氣體之成膜量的測定裝置。
简体摘要：本发明之目的在图求于成膜处理中膜厚测定所使用之水晶振荡器的长寿化。进一步，提供一种可在使用复数种材料气体施行成膜时，依据对于个别材料气体之成膜量与对于混合气体之成膜量的关系性而进行膜厚控制之成膜设备及成膜方法。本发明提供之成膜成膜设备，于基板将薄膜成膜成膜设备，具备：可自由减压之材料供给部，供给载气及材料气体；以及喷头，于该基板之顶面喷射材料气体；该材料供给部与该喷头介由材料气体供给路连通；于该材料气体供给路，设置自材料气体供给路分支之分支流路；于该分支流路连接测定材料气体之成膜量的测定设备。

29. 发明专利

TW201102454A 蒸鍍噴頭以及成膜裝置 VAPOR DEPOSITION HEAD AND FILM FORMATION DEVICE 审中-公开
简体标题：蒸镀喷头以及成膜设备 VAPOR DEPOSITION HEAD AND FILM FORMATION DEVICE
公开(公告)号：TW201102454A
公开(公告)日：2011-01-16
申请号：TW099110349
申请日：2010-04-02
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：小野裕司 , 江面知彥 , 林輝幸 , 田村明威 , 齊藤美佐子
IPC分类号： C23C , B05B
CPC分类号： C23C14/12 , C23C14/24 , H01L51/001 , H01L51/50
摘要：本發明旨在提供一種蒸鍍噴頭及包含該蒸鍍噴頭之成膜裝置，於各部之噴出量不僅在以往的小型基板上，在大型基板上亦可均一化，且噴出可保證均熱性之材料氣體，使均一的薄膜成膜。其中可提供一種蒸鍍噴頭，設於使薄膜成膜於基板之蒸鍍處理裝置內，朝基板噴出材料氣體，其特徵在於包含：外側殼體；及內側殼體，配置於該外側殼體內，可導入材料氣體；且於該內側殼體形成有朝基板噴出材料氣體之開口部，於該外側殼體外面或該外側殼體與該內側殼體間配置有對材料氣體進行加熱之加熱器。
简体摘要：本发明旨在提供一种蒸镀喷头及包含该蒸镀喷头之成膜设备，于各部之喷出量不仅在以往的小型基板上，在大型基板上亦可均一化，且喷出可保证均热性之材料气体，使均一的薄膜成膜。其中可提供一种蒸镀喷头，设于使薄膜成膜于基板之蒸镀处理设备内，朝基板喷出材料气体，其特征在于包含：外侧壳体；及内侧壳体，配置于该外侧壳体内，可导入材料气体；且于该内侧壳体形成有朝基板喷出材料气体之开口部，于该外侧壳体外面或该外侧壳体与该内侧壳体间配置有对材料气体进行加热之加热器。

30. 发明专利

TW201250022A 成膜裝置及成膜材料供給方法审中-公开
简体标题：成膜设备及成膜材料供给方法
公开(公告)号：TW201250022A
公开(公告)日：2012-12-16
申请号：TW100135885
申请日：2011-10-04
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：小野裕司 , 林輝幸 , 金子裕是
IPC分类号： C23C
CPC分类号： C23C14/24 , C03C17/002 , C23C14/543 , H01L51/0008
摘要：本發明係關於一種成膜裝置，可抑制蒸氣產生部內部之壓力上升與溫度上升、並可進行精密溫度控制。對玻璃基板進行成膜處理之成膜裝置，係具備有：處理室，係收容玻璃基板；蒸氣產生部，係藉由加熱成膜材料來產生該成膜材料之蒸氣；搬送流路，係將蒸氣產生部所產生之成膜材料蒸氣連同搬運氣體搬送至處理室；排氣流路；調整閥裝置，係設置於搬送流路之中途；排氣閥裝置，係設置於排氣流路之中途；材料溫度檢測部，係檢測蒸氣產生部之溫度；第1蒸氣量檢測部；以及控制部，於加熱成膜材料之情況，係依據蒸氣產生部之溫度高低來控制排氣閥裝置之開關動作，當將成膜材料搬送至該處理室之情況，若第1蒸氣量檢測部所檢測之蒸氣量為穩定之情況，乃關閉排氣閥裝置並開放調整閥裝置。
简体摘要：本发明系关于一种成膜设备，可抑制蒸气产生部内部之压力上升与温度上升、并可进行精密温度控制。对玻璃基板进行成膜处理之成膜设备，系具备有：处理室，系收容玻璃基板；蒸气产生部，系借由加热成膜材料来产生该成膜材料之蒸气；搬送流路，系将蒸气产生部所产生之成膜材料蒸气连同搬运气体搬送至处理室；排气流路；调整阀设备，系设置于搬送流路之中途；排气阀设备，系设置于排气流路之中途；材料温度检测部，系检测蒸气产生部之温度；第1蒸气量检测部；以及控制部，于加热成膜材料之情况，系依据蒸气产生部之温度高低来控制排气阀设备之开关动作，当将成膜材料搬送至该处理室之情况，若第1蒸气量检测部所检测之蒸气量为稳定之情况，乃关闭排气阀设备并开放调整阀设备。

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