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热词
    • 21. 实用新型
    • 管接頭
    • 管接头
    • TW506503U
    • 2002-10-11
    • TW091202042
    • 1998-06-15
    • 大見忠弘富士金股份有限公司
    • 大見忠弘山路道雄池田信一篠原努小島徹哉
    • F16L
    • F16L19/025F16L19/0218Y10S285/917
    • 本創作係提供一種管接頭,其特徵為;各密封,突起(7)、(8)位於比接頭構件(1)(2)的對合端面內周(1a)、(2a)更靠半徑方向外側的位置,各密封突起(7)、(8)截而的輪廓形狀係由;從對合端面向半徑方向外側延伸的圓弧部(7b)、(8b),和與此圓弧部(7b)、(8b)相連的直線部(7a)、(8a)所形成,圓弧部(7b)(8b)的中心即位於比圓弧部(7b)(8b)和直線部(7a)(8a)之交差點更為半徑方向內側的位置,直線部(7a)(8a)並對軸向傾斜45℃。(選擇圖:第4圖)
    • 本创作系提供一种管接头,其特征为;各密封,突起(7)、(8)位于比接头构件(1)(2)的对合端面内周(1a)、(2a)更靠半径方向外侧的位置,各密封突起(7)、(8)截而的轮廓形状系由;从对合端面向半径方向外侧延伸的圆弧部(7b)、(8b),和与此圆弧部(7b)、(8b)相连的直线部(7a)、(8a)所形成,圆弧部(7b)(8b)的中心即位于比圆弧部(7b)(8b)和直线部(7a)(8a)之交差点更为半径方向内侧的位置,直线部(7a)(8a)并对轴向倾斜45℃。(选择图:第4图)
    • 23. 发明专利
    • 平行分流式流體供應裝置與使用該裝置之流體可變型壓力式流量控制方法及流體可變型壓力式流量控制裝置
    • 平行分流式流体供应设备与使用该设备之流体可变型压力式流量控制方法及流体可变型压力式流量控制设备
    • TW445401B
    • 2001-07-11
    • TW089107095
    • 2000-04-15
    • 富士金股份有限公司東京威力科創股份有限公司大見忠弘
    • 大見忠弘加賀爪哲廣瀨潤杉山一彥深澤和夫小泉浩長岡秀樹皆見幸男西野功二土肥亮介米華克典池田信一山路道雄森本明弘宇野富雄出田英二松本篤志上野山豊已
    • G05D
    • G05D7/0658G05D7/0664Y10S438/935Y10T137/0396Y10T137/7759Y10T137/7761Y10T137/86389Y10T137/87877Y10T137/87917
    • 一種平行分流式流體供應裝置與使用該裝置之流體的可變型壓力式流量控制方法及流體可變型壓力式流量控制裝置,從壓力調整用的l個調整器平行配設複數條流路之流體供應裝置中,使各流路之流體供應的開關操作不致對其他流路之穩態供應造成過大的變動。因此,在各流路上配設流量控制用質量流控制器MFC或壓力式流量控制裝置FCS,某流路之流體供給自關閉而開啟時,構成從其流路之質量流控制器MFC動作開始僅延遲預定的延遲時間△t到達設定流量Qs。
      又,利用l台壓力式流量控制裝置可高精度流量控制複數氣體種類及實現其裝置。因此,以臨界壓力比以下的條件理論性導出通過孔口的氣體流量,根據該式定義流動係數,利用該流動係數形成可對應多數之氣體種類者。
      亦即,將孔口8的上游側壓力P1保持在下游壓力P2約2倍以上的狀態下,通過孔口的氣體運算流量Qc以 Qc=KP1(K為常數)運算之流量控制方法中,各種類氣體係以FF=(k/γs){2/(κ+l)}](x.1)〔κ/{(κ十l)R}〕1/2計算流動係數FF,氣體種類A的運算流量為QA時,在同一孔口、同一上游側壓力及同一上游側溫度的條件下使氣體種類B流通時,以其運算流量QvB作為QvB(EFvB/EFvA)QvA算出。其中,γS為氣體的標準狀態密度,κ為氣體的比熱比,R為氣體常數,k為未依據氣體種類之比例常數,FFvA.FFvB為氣體種類A.B的流動係數。
    • 一种平行分流式流体供应设备与使用该设备之流体的可变型压力式流量控制方法及流体可变型压力式流量控制设备,从压力调整用的l个调整器平行配设复数条流路之流体供应设备中,使各流路之流体供应的开关操作不致对其他流路之稳态供应造成过大的变动。因此,在各流路上配设流量控制用质量流控制器MFC或压力式流量控制设备FCS,某流路之流体供给自关闭而打开时,构成从其流路之质量流控制器MFC动作开始仅延迟预定的延迟时间△t到达设置流量Qs。 又,利用l台压力式流量控制设备可高精度流量控制复数气体种类及实现其设备。因此,以临界压力比以下的条件理论性导出通过孔口的气体流量,根据该式定义流动系数,利用该流动系数形成可对应多数之气体种类者。 亦即,将孔口8的上游侧压力P1保持在下游压力P2约2倍以上的状态下,通过孔口的气体运算流量Qc以 Qc=KP1(K为常数)运算之流量控制方法中,各种类气体系以FF=(k/γs){2/(κ+l)}](x.1)〔κ/{(κ十l)R}〕1/2计算流动系数FF,气体种类A的运算流量为QA时,在同一孔口、同一上游侧压力及同一上游侧温度的条件下使气体种类B流通时,以其运算流量QvB作为QvB(EFvB/EFvA)QvA算出。其中,γS为气体的标准状态密度,κ为气体的比热比,R为气体常数,k为未依据气体种类之比例常数,FFvA.FFvB为气体种类A.B的流动系数。
    • 24. 发明专利
    • 流體控制系統及其所使用之閥
    • 流体控制系统及其所使用之阀
    • TW342429B
    • 1998-10-11
    • TW085101845
    • 1996-02-14
    • 大見忠弘富士金股份有限公司
    • 大見忠弘山路道雄池田信一唐土裕司
    • F16K
    • C23C16/45561B01J4/008C30B25/14C30B31/16F16K31/1226F16K31/42Y10T137/87684
    • 本發明係關於使用在製造半導體和磁性薄膜及生物關聯製品等之流體控制系統及其所使用之閥,其目的為:能夠迅速且正確地作動閥,進而促使可以正確地供給流體。
      本發明之構成要素,簡單地說係由:
      將數種類的流體G1,G2……供給至處理裝置C內之主控制管路L與分歧控制管路L1,L2;及
      由組裝於分歧控制管路L1,L2,而來進行供給至處理裝置C內之各種流體G1,G2……的切換動作之複數個閥而構成之流體控制系統,上述閥V為具備有流體壓引動器1之流體驅動型閥V′;及安裝於流體驅動型閥V′,而來將作動流體A供給至流體壓引動器1之電磁閥V〞而構成者。
    • 本发明系关于使用在制造半导体和磁性薄膜及生物关联制品等之流体控制系统及其所使用之阀,其目的为:能够迅速且正确地作动阀,进而促使可以正确地供给流体。 本发明之构成要素,简单地说系由: 将数种类的流体G1,G2……供给至处理设备C内之主控制管路L与分歧控制管路L1,L2;及 由组装于分歧控制管路L1,L2,而来进行供给至处理设备C内之各种流体G1,G2……的切换动作之复数个阀而构成之流体控制系统,上述阀V为具备有流体压引动器1之流体驱动型阀V′;及安装于流体驱动型阀V′,而来将作动流体A供给至流体压引动器1之电磁阀V〞而构成者。
    • 29. 发明专利
    • 壓力感測器、壓力控制裝置及壓力式流量控制裝置之溫度偏移修正裝置
    • 压力传感器、压力控制设备及压力式流量控制设备之温度偏移修正设备
    • TW554164B
    • 2003-09-21
    • TW091135190
    • 2002-12-04
    • 富士金股份有限公司東京威力科創股份有限公司大見忠弘
    • 大見忠弘杉山一彥西野功二宇野富雄中村修松本篤諮土肥亮介池田信一
    • G01L
    • G05D7/0635G01D3/022G01F1/50G01F15/046G01L9/025
    • 本發明之技術課題在於開發自動修正壓力感測器的溫度偏移,不管溫度變動如何,均可正確檢測壓力的壓力感測器、壓力控制裝置及流量控制裝置。
      本發明之解決手段在於,本發明壓力式流量控制裝置之溫度偏移修正裝置在孔板4與控制閥22之間設置檢測上游側壓力P1的上游側壓力感測器10,一面以上游側壓力P1運算孔板通過流量,一面藉由控制閥22的啟開控制孔板通過流量的壓力式流量控制裝置中,包括溫度感測器14,其測定流體溫度;記憶手段64,其儲存流體溫度T與上游側壓力感測器10的輸出偏移的關係;以及溫度偏移修正手段,其在流體溫度T變化情形下,根據記憶手段64的資料,運算上游側壓力感測器10的輸出偏移量,以此運算輸出偏移量消去並修正上游側壓力感測器10的輸出偏移。藉此構造,自動修正壓力感測器的溫度偏移,可作正確的流量控制。
    • 本发明之技术课题在于开发自动修正压力传感器的温度偏移,不管温度变动如何,均可正确检测压力的压力传感器、压力控制设备及流量控制设备。 本发明之解决手段在于,本发明压力式流量控制设备之温度偏移修正设备在孔板4与控制阀22之间设置检测上游侧压力P1的上游侧压力传感器10,一面以上游侧压力P1运算孔板通过流量,一面借由控制阀22的启开控制孔板通过流量的压力式流量控制设备中,包括温度传感器14,其测定流体温度;记忆手段64,其存储流体温度T与上游侧压力传感器10的输出偏移的关系;以及温度偏移修正手段,其在流体温度T变化情形下,根据记忆手段64的数据,运算上游侧压力传感器10的输出偏移量,以此运算输出偏移量消去并修正上游侧压力传感器10的输出偏移。借此构造,自动修正压力传感器的温度偏移,可作正确的流量控制。
    • 30. 发明专利
    • 產生供給水分裝置及產生水分用反應爐
    • 产生供给水分设备及产生水分用反应炉
    • TW553900B
    • 2003-09-21
    • TW089115809
    • 2000-08-05
    • 富士金股份有限公司大見忠弘
    • 大見忠弘池田信一皆見幸男川田幸司米華克典本井傳晃央平井暢森本明弘成相敏郎平尾圭志田口將暖中村修瑪儂哈魯拉魯 休雷司他
    • C01B
    • B01J3/006B01J7/00B01J12/007C01B5/00
    • 本發明之目的在於提供一種減壓型產生供給水分裝置,藉由將水分氣體減壓供給(例如數Torr)將水分產生用反應爐之內壓保持於較高,而可防止氫之自然引燃,具有安全性;本發明之目的又在提供一種產生水分用反應爐,藉由將產生水分反應爐高效率地冷卻,同在不增大反應爐之尺寸下,大幅增大產生水分量。
      為此,本發明之減壓型產生供給水分裝置,係由:自氫及氧以觸媒反應產生水分氣體之產生水分用反應爐,以及設於該產生水分用反應爐的下游側之減壓機構所構成;其特徵在於:藉由該減壓機構將水分氣體減壓供給至下游側,並將反應爐內之內壓保持於較高。
      又本發明之散熱式產生水分用反應爐,係由:組合入口側爐本體部件及出口側爐本體部件而形成內部空間之反應爐本體,密接於上述爐本體部件外壁面之散熱片基板,以及立設於該散熱片基板之多數個散熱用散熱片所構成,藉由上述散熱用散熱片,將產生之熱強制放射而令反應爐低溫化。又,將散熱用散熱片作防蝕鋁加工而增大熱放射率,使放射效率更為增大。
    • 本发明之目的在于提供一种减压型产生供给水分设备,借由将水分气体减压供给(例如数Torr)将水分产生用反应炉之内压保持于较高,而可防止氢之自然引燃,具有安全性;本发明之目的又在提供一种产生水分用反应炉,借由将产生水分反应炉高效率地冷却,同在不增大反应炉之尺寸下,大幅增大产生水分量。 为此,本发明之减压型产生供给水分设备,系由:自氢及氧以触媒反应产生水分气体之产生水分用反应炉,以及设于该产生水分用反应炉的下游侧之减压机构所构成;其特征在于:借由该减压机构将水分气体减压供给至下游侧,并将反应炉内之内压保持于较高。 又本发明之散热式产生水分用反应炉,系由:组合入口侧炉本体部件及出口侧炉本体部件而形成内部空间之反应炉本体,密接于上述炉本体部件外壁面之散热片基板,以及立设于该散热片基板之多数个散热用散热片所构成,借由上述散热用散热片,将产生之热强制放射而令反应炉低温化。又,将散热用散热片作防蚀铝加工而增大热放射率,使放射效率更为增大。