会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 21. 发明公开
    • MBE-Einrichtung und Verfahren zu deren Betrieb
    • EP2060662A2
    • 2009-05-20
    • EP08019625.6
    • 2008-11-10
    • Forschungsverbund Berlin E.V.CreaTec Fischer & Co. GmbH
    • Schönherr, Hans-PeterFischer, Albrecht
    • C30B23/02C30B25/02C30B29/40C30B23/06
    • C30B23/02C30B23/06C30B25/02C30B25/10C30B29/403C30B29/406
    • Eine Molekularstrahlepitaxie-(MBE)-Einrichtung (100), die zur reaktiven Abscheidung eines Gruppe III-Nitrid-Verbindungshalbleiters eingerichtet ist, umfasst eine Vakuumkammer (10), die mindestens eine Molekularstrahl-Quelle (11) und mindestens einen Injektor (12) aufweist, der zur Injektion von Ammoniak in die Vakuumkammer (10) eingerichtet ist, eine erste Kühlfalleneinrichtung (20) mit mindestens einer Kühlfalle (21, 22), die zum Kondensieren von überschüssigem Ammoniak eingerichtet ist, eine Pumpeneinrichtung (30) mit mindestens einer Pumpe (31, 33, 35), die zur Evakuierung der Vakuumkammer (10) eingerichtet ist, und eine Sperreinrichtung (40), mit der die erste Kühlfalleneinrichtung (20) von der Vakuumkammer (10) trennbar ist. Es wird auch ein Verfahren zum Betrieb einer MBE-Einrichtung beschrieben.
    • 用于反应性沉积III族氮化物化合物半导体的分子束外延装置包括具有分子束源(11)和喷射器(12)的真空室(10),其被设置用于将氨注入真空室,第一冷却 捕集装置(20),其包括用于冷凝多余氨的第一冷却捕集器和第二冷却捕集器,用于抽空真空室的具有泵的泵装置(30)和阻塞装置 冷却捕集装置可与真空室分离。 用于反应性沉积III族氮化物化合物半导体的分子束外延装置包括具有分子束源(11)和喷射器(12)的真空室(10),其被设置用于将氨注入真空室,第一冷却 捕集装置(20),其包括用于冷凝多余氨的第一冷却捕集器和第二冷却捕集器,具有用于抽空真空室的泵的泵送装置(30),其中第一冷却 捕集装置可与真空室分离;以及第二冷却捕集装置(50),其布置成用于冷凝真空室中的残留气体。 第一和第二冷却捕集器布置在真空室和抽水装置之间的分开的真空连接中。 阻塞装置包括布置在真空室和冷却阱之间的两个阻塞元件。 当其中一个冷凝阱通过阻塞装置从真空室分离时,另一冷却阱与真空室连接。 与真空室分离的冷却阱被设置用于释放冷凝的氨。 冷却捕集器包括管状挡板,其布置在真空室和泵之间的真空连接中,以及布置在附加真空室中的冷却挡板。 阻挡元件布置在真空室和附加真空室之间。 冷却捕集器可与抽真空装置的前置泵从真空室分开抽空,并通过可阻塞的桥接线与前置泵连接。 第二冷却捕集装置包括布置在真空室中的冷却屏蔽,并被解释为其中氨在真空条件下保持气态并将残留气体冷凝在真空室中的工作温度。 包括用于操作分子束外延装置的方法的独立权利要求。
    • 24. 发明公开
    • Verdampferzelle, Beschichtungsvorrichtung und Verfahren zur Verdampfung eines Verdampfungsmaterials
    • Verdampferzelle,Beschichtungsvorrichtung und Verfahren zur Verdampfung eines Verdampfungsmaterials
    • EP2733234A2
    • 2014-05-21
    • EP13005168.3
    • 2013-10-31
    • CreaTec Fischer & Co. GmbH
    • Braun, Wolfgang
    • C23C14/24
    • C23C14/243
    • Eine Verdampferzelle (100) umfasst einen ersten Tiegel (10) mit einer Tiegelwand (11), wobei der erste Tiegel (10) zur Aufnahme von Verdampfungsmaterial und zur Verdampfung des Verdampfungsmaterials eingerichtet ist und die Tiegelwand (12) durchgehende Hohlräume (14) aufweist. Es werden auch eine Beschichtungsvorrichtung (200), die mit mindestens einer derartigen Verdampferzelle (100) ausgestattet ist, und ein Verfahren zur Verdampfung eines Verdampfungsmaterial beschrieben.
    • 蒸发器单元包括具有坩埚壁的第一坩埚(10)。 第一坩埚适于接收蒸发材料和蒸发材料的蒸发。 坩埚壁具有通孔。 蒸发器单元还包括规则或不规则分布的空腔,包括形式,孔,裂缝,通道和槽,以及布置在第一坩埚中的第二坩埚(20)。 坩埚壁是由多层形成的单层。 蒸发器单元包括具有坩埚壁的第一坩埚(10)。 第一坩埚适于接收蒸发材料和蒸发材料的蒸发。 坩埚壁具有通孔(12)。 蒸发器单元还包括规则或不规则分布的空腔,包括形式,孔,裂缝,通道和槽,以及布置在第一坩埚中的第二坩埚(20)。 坩埚壁是由多层形成的单层。 空腔具有使熔融蒸发材料保持在空腔中的表面张力作用下的特征尺寸。 槽在坩埚壁的轴向和/或径向相对于彼此偏移地布置。 坩埚的壁包括包括线材,开槽片材,烧结材料和泡沫的壁材料。 在第一坩埚和第二坩埚之间形成间隙,用于蒸发材料从第一坩埚中蒸出一段时间。 第一和第二坩埚彼此可拆卸地间隔开,并且具有圆柱形和/或圆锥形形状。 包括用于蒸发材料蒸发的方法的独立权利要求。
    • 26. 发明公开
    • Device and method for thermal evaporation of silicon
    • Vorrichtung und Verfahren zur thermischen Verdampfung von Silicium
    • EP2325348A1
    • 2011-05-25
    • EP09014510.3
    • 2009-11-20
    • Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V.CreaTec Fischer & Co. GmbH
    • Jeurgens, LarsFischer, Albrecht
    • C23C14/24
    • C23C14/243
    • An evaporator cell (100), in particular for evaporating a high-melting material like Si, comprises a first crucible (10) being adapted for receiving the material to be evaporated and providing a first evaporation volume, and a heating device (30) being arranged for heating the first crucible (10), wherein the first crucible (10) is arranged in a second crucible (20) surrounding the first crucible (10), so that a spacing (25) is formed between the first and second crucibles (10, 20), wherein the spacing (25) provides a second evaporation volume. Furthermore, a coating installation provided with at least one evaporator cell and a process for evaporating a high-melting material using the evaporator cell (100) are described.
    • 特别是用于蒸发诸如Si的高熔点材料的蒸发器单元(100)包括适于接收待蒸发的材料并提供第一蒸发体积的第一坩埚(10)和加热装置(30) 布置用于加热第一坩埚(10),其中第一坩埚(10)布置在围绕第一坩埚(10)的第二坩埚(20)中,使得在第一和第二坩埚之间形成间隔(25) 10,20),其中所述间隔(25)提供第二蒸发体积。 此外,描述了设置有至少一个蒸发器单元的涂布设备和使用蒸发器单元(100)蒸发高熔点材料的方法。
    • 28. 发明专利
    • Magnetischer Antrieb, insbesondere für Vakuumanlagen
    • DE102013006322A1
    • 2014-10-16
    • DE102013006322
    • 2013-04-12
    • CREATEC FISCHER & CO GMBH
    • BRAUN WOLFGANG
    • H02K51/00
    • Ein magnetischer Antrieb (100), insbesondere für ein Bauteil in einer Vakuumanlage, umfasst ein Gehäuse (10) mit einer Gehäusewand (11) aus einem nicht-magnetischen Material, wobei das Gehäuse (10) druckdicht mit der Vakuumanlage koppelbar ist, eine Antriebseinrichtung (20), die außerhalb des Gehäuses angeordnet ist, und eine Aktoreinrichtung (30), die im Gehäuse (10) angeordnet und von einer Innenfläche (12) der Gehäusewand (11) gestützt wird, wobei mindestens eine der Antriebseinrichtung (20) und der Aktoreinrichtung (30) zur Erzeugung eines Magnetfeldes (B) eingerichtet ist, das eine Magnetfeldrichtung senkrecht zu der Gehäusewand (11) aufweist, und die Antriebseinrichtung (20) und die Aktoreinrichtung (30) durch das Magnetfeld magnetisch gekoppelt sind, die Antriebseinrichtung (20) für eine Verschiebung des Magnetfeldes in der Antriebsrichtung eingerichtet ist, und die Aktoreinrichtung (30) unter der Wirkung der Verschiebung des Magnetfeldes auf der Innenfläche (12) des Gehäuses (10) eine Rollbewegung ausführen kann, wobei die Innenfläche (12) für die Aktoreinrichtung (30) eine in der Antriebsrichtung stufenlose Abrollfläche bildet. Es wird auch eine Vakuumanlage beschrieben, die mit dem magnetischen Antrieb (100) ausgestattet ist.