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    • 13. 发明公开
    • Leistungs-Spannungsbegrenzungsschaltung
    • Leistungs-Spannungsbegrenzungsschaltung。
    • EP0560185A1
    • 1993-09-15
    • EP93103351.8
    • 1993-03-03
    • TEMIC TELEFUNKEN microelectronic GmbH
    • Ryman, Lennart
    • H01L27/082H01L27/06
    • H01L27/0825H01L27/0652
    • Es wird eine Leistungstransistorschaltung zum Erzielen einer Begrenzungsspannung angegeben, mit:

      einem Leistungstransistor (T1; T2);
      einer Basis-Emitter-Widerstandseinrichtung (RBEE) zwischen der Basis und dem Emitter des Leistungstransistors;
      einer Z-Diodeneinrichtung (D) mit vorgegebener Durchbruchsspannung, die so gewählt ist, daß sie im ganzen Temperaturbereich, für den die Schaltung vorgesehen ist, unter der Begrenzungsspannung bleibt, welche Diodeneinrichtung in Sperrichtung zwischen Kollektor und Basis des Leistungstransistors liegt; und
      einer Kollektor-Basis-Widerstandseinrichtung (RCBE), die mit der Z-Diodeneinrichtung zwischen Kollektor und Basis des Leistungstransistors in Reihe liegt;
      wobei die Widerstandswerte der beiden Widerstandseinrichtungen so dimensioniert sind, daß die Kollektor-Emitterspannung bei durchgeschaltetem Leistungstransistor bei Zimmertemperatur um einige Prozent bis einige zehn prozent über der Durchbruchsspannung der Z-Diodeneinrlchtung liegt.

      In dieser Schaltung läßt sich durch einen negativen Temperaturkoeffizienten der kollektor-Basis-Widerstandseinrichtung und/oder einen positiven Temperaturkoeffizienten der BasisEmitter-Widerstandseinrichtung der Temperaturgang der Durchbruchsspannung leicht so korrigieren, daß die Begrenzungsspannung konstant bleibt. Werden die Widerstandseinrichtungen so ausgebildet, daß ihre Widerstandswerte einstellbar sind, ist es auf einfache Weise möglich, Fertigungsstreuungen in der Durchbruchsspannung auszugleichen.
    • 规定用于提供限制电压的功率晶体管电路,包括:功率晶体管(T1; T2); - 功率晶体管的基极和发射极之间的基极 - 发射极电阻器件(RBEE); - 具有预定击穿电压的Z二极管器件(D),其被选择为使得其在提供电路的整个温度范围内保持低于限制电压,该二极管器件在收集器之间沿相反方向连接 和功率晶体管的基极; 以及 - 与功率晶体管的集电极和基极之间的Z二极管器件串联连接的集电极电阻器件(RCBE); 两个电阻器件的电阻值的尺寸设计使得当功率晶体管导通时,集电极 - 发射极电压在室温下比Z二极管器件的击穿电压高出约百分之几十。 在该电路中,可以通过集电极电阻器件的负温度系数和/或基极 - 发射极电阻器件的正温度系数容易地校正击穿电压随温度的变化,使得 极限电压保持恒定。 如果电阻器件的构造使得它们的电阻值是可调的,则可以容易地补偿击穿电压的产生扩展。
    • 15. 发明专利
    • 半導体装置
    • 半导体器件
    • JP2014207501A
    • 2014-10-30
    • JP2013082394
    • 2013-04-10
    • 株式会社デンソーDenso Corp
    • KONO KENJI
    • H03K17/16G01R19/165H02M7/48H03K17/08H03K17/56
    • H03K17/168H01L27/0652H01L27/0722H01L27/0727H03K17/0828H03K17/567
    • 【課題】ダイオード内蔵IGBT素子を備えた半導体装置において、ダイオード素子に流れる電流が少ない場合でも、ダイオード素子の動作をより正確に検出することが可能な構成を提供する。【解決手段】半導体装置1は、ダイオード素子22a及びIGBT素子21aを備えたダイオード内蔵IGBT素子16と、ダイオードセンス素子22b及びIGBTセンス素子21bを備えたセンス素子18とを備えている。そして、ダイオードセンス素子22bに電流が流れない場合にはスイッチ素子40がオフ動作して第2の電流経路52と他の電流経路とが非導通状態となり、ダイオードセンス素子22bに電流が流れる場合にはスイッチ素子40がオン動作して第2の電流経路52と他の電流経路とが導通状態となるように構成されている。そして、電流検出部12が第2の電流経路52の電流状態を検出している。【選択図】図1
    • 要解决的问题:提供一种包括二极管内置IGBT元件的半导体器件的组成,其即使在二极管元件中的电流较小时也可以更成功地检测二极管元件的工作。解决方案:半导体器件1包括 :二极管内置IGBT元件16,其包括二极管元件22a和IGBT元件21a; 以及包括二极管感测元件22b和IGBT感测元件21b的感测元件18。 当电流不流过二极管感测元件22b时,开关元件40执行OFF操作,并且第二电流路径52和另一个电流路径变得不导通。 并且当电流在二极管感测元件22b中流动时,开关元件40执行导通操作,并且第二电流路径52和另一个电流路径变为导通。 半导体装置1还包括检测第二电流路径52的当前状态的电流检测部12。
    • 19. 发明申请
    • 半導体装置
    • 半导体器件
    • WO2017006711A1
    • 2017-01-12
    • PCT/JP2016/067595
    • 2016-06-13
    • 富士電機株式会社
    • 内藤 達也
    • H01L29/739H01L27/04H01L29/78
    • H01L29/7397H01L27/0629H01L27/0652H01L27/0727H01L29/0615H01L29/0696H01L29/0834H01L29/1095H01L29/407H01L29/4236H01L29/4238H01L29/78
    • トレンチの内壁の絶縁膜の信頼性を向上させる。半導体基板と、半導体基板の表面に形成されたダミートレンチ部と、半導体基板の表面の上方に形成された、金属を含む第1表面側電極とを備え、ダミートレンチ部は、半導体基板の表面に形成されたダミートレンチと、ダミートレンチの内壁に形成された絶縁膜と、ダミートレンチの内部において絶縁膜よりも内側に形成されたダミー導電部と、ダミー導電部の少なくとも一部を露出させる開口を有し、且つ、半導体基板の表面において絶縁膜を覆う保護部とを有し、第1表面側電極は、保護部の開口内に形成された部分を有し、ダミー導電部と接触する半導体装置を提供する。
    • 本发明提高了沟槽内壁上的绝缘膜的可靠性。 提供一种半导体器件,其配备有:半导体衬底; 形成在半导体衬底的前表面上的虚拟沟槽部分; 以及第一前表面侧电极,其形成在所述半导体衬底的前表面上方并且包含金属。 虚拟沟槽部分具有形成在半导体衬底的前表面中的虚拟沟槽; 形成在所述虚拟沟槽的内壁上的绝缘膜; 在比绝缘膜更靠内侧的一侧形成的虚设导电部,所述虚设导电部形成在所述虚设沟槽中; 以及保护部,其具有裸露导电部的至少一部分露出的开口,并且覆盖半导体基板的前表面上的绝缘膜。 第一前表面侧电极具有形成在保护部分的开口中的部分,所述第一前表面侧电极与虚设导电部分接触。