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11. 发明公开

CN1122783A 制造石英玻璃板的方法和设备失效
公开(公告)号：CN1122783A
公开(公告)日：1996-05-22
申请号：CN95106679.X
申请日：1995-05-22
申请人：赫罗伊斯石英玻璃有限公司
发明人： U·克里斯蒂安森 , A·施坦科尔
IPC分类号： C03B20/00
CPC分类号： C03B19/1407 , C03B19/1423 , C03B19/1453 , C03B19/1484 , C03B2207/50 , C03B2207/52 , C03B2207/66
摘要：为提出一种制造具有高光学质量的石英玻璃板的经济制造方法，本发明建议，将石英玻璃粉层连续加到用一种比石英玻璃粉的烧结活性小的石英玻璃粒料铺成的衬底上，并使之连续通过加热区而烧结成石英玻璃带以实现连续制造上述石英玻璃板；实施这个方法所需的设备包括一个适于输送石英玻璃粒料的输送装置，一个把石英玻璃粒料加到输送装置上的加料装置、一个在石英玻璃粒料上产生合成石英玻璃粉层的喷射装置，和一个加热石英玻璃粉层的加热装置。

12. 发明公开

CN106810056A 一种高纯石英生产装置有权转让
公开(公告)号：CN106810056A
公开(公告)日：2017-06-09
申请号：CN201710166298.7
申请日：2017-03-20
申请人：无锡市孚艾科技有限公司
发明人：单兰英
IPC分类号： C03B20/00 , C03B19/14 , B01D46/00 , B01D53/00
CPC分类号： C03B19/1407 , C03B19/1423 , B01D46/00 , B01D53/00 , B01D2257/2045 , C03B19/1446
摘要：本发明提供一种高纯石英生产装置，包括反应炉和塔体：由内而外由炉膛、隔热层、保温层及金属材料制作而成的炉罩组成，炉膛设有至少1个炉膛排气口，所述炉膛排气口穿过隔热层、保温层及炉座；炉顶设有炉顶进气口、炉顶排气口；所述炉顶排气口位置等于或高于炉顶进气口位置，且位于炉顶的两侧；炉膛排气口以及所述炉顶排气口分别连接到废气处理装置；塔体设置在所述炉膛的底部；包括垂直设置在地面上的塔体支架，设置在塔体支架一侧的导轨，设置在导轨上的基座，基座能够在电机的作用下，沿所述导轨上下移动；基座上设有产品座，产品座能够在电机的作用下，在基座上移动和旋转，本发明的生产装置能够有效地避免外界的污染以及生产过程中废气的安全处理。

13. 发明授权

CN1323043C 立式四氯化硅汽相沉积合成石英玻璃的方法失效无效口审
公开(公告)号：CN1323043C
公开(公告)日：2007-06-27
申请号：CN03122969.7
申请日：2003-04-23
申请人：中国建筑材料科学研究院
发明人：顾真安 , 王玉芬 , 向在奎 , 饶传东 , 钟海 , 隋梅
IPC分类号： C03B20/00 , C03B19/14
CPC分类号： C03B19/1407
摘要：本发明公开了一种立式四氯化硅汽相沉积合成石英玻璃的方法，以克服卧式工艺中的问题，生产大尺寸、大直径的石英玻璃锭，并提高沉积效率，降低生产能耗。其主要设计一种立式沉积炉，包括烟囱，炉体，沉积砣面，燃烧器，基础杆及车床，所述炉体为封闭式炉体，其顶部设有燃烧器，所述基础杆立置于所述炉体内，其上设有一沉积砣面，所述沉积砣面与所述燃烧器下料管相对设置，所述基础杆下端与所述车床卡接，燃烧器可以设置多个，单一燃烧器可以设多个下料管。用本发明方法，可以生产重量达30-50公斤，直径在250-500毫米的石英玻璃锭，沉积速率可达200-500克/小时，生产效率较卧式沉积炉提高1-5倍。

14. 发明公开

CN1458097A 立式四氯化硅汽相沉积合成石英玻璃的方法失效无效口审
公开(公告)号：CN1458097A
公开(公告)日：2003-11-26
申请号：CN03122969.7
申请日：2003-04-23
申请人：中国建筑材料科学研究院
发明人：顾真安 , 王玉芬 , 向在奎 , 饶传东 , 钟海 , 隋梅
IPC分类号： C03B20/00 , C03B19/14
CPC分类号： C03B19/1407
摘要：本发明公开了一种立式四氯化硅汽相沉积合成石英玻璃的方法，以克服卧式工艺中的问题，生产大尺寸、大直径的石英玻璃锭，并提高沉积效率，降低生产能耗。其主要设计一种立式沉积炉，包括烟囱，炉体，沉积砣面，燃烧器，基础杆及车床，所述炉体为封闭式炉体，其顶部设有燃烧器，所述基础杆立置于所述炉体内，其上设有一沉积砣面，所述沉积砣面与所述燃烧器下料管相对设置，所述基础杆下端与所述车床卡接，燃烧器可以设置多个，单一燃烧器可以设多个下料管。用本发明方法，可以生产重量达30－50公斤，直径在250－500毫米的石英玻璃锭，沉积速率可达200－500克/小时，生产效率较卧式沉积炉提高1－5倍。

15. 发明授权

CN1070460C 制造石英玻璃板的方法和设备失效
公开(公告)号：CN1070460C
公开(公告)日：2001-09-05
申请号：CN95106679.X
申请日：1995-05-22
申请人：赫罗伊斯石英玻璃有限公司
发明人： U·克里斯蒂安森 , A·施坦科尔
IPC分类号： C03B20/00
CPC分类号： C03B19/1407 , C03B19/1423 , C03B19/1453 , C03B19/1484 , C03B2207/50 , C03B2207/52 , C03B2207/66
摘要：为提出一种制造具有高光学质量的石英玻璃板的经济制造方法，本发明建议，将石英玻璃粉层连续加到用一种比石英玻璃粉的烧结活性小的石英玻璃粒料铺成的衬底上，并使之连续通过加热区而烧结成石英玻璃带以实现连续制造上述石英玻璃板；实施这个方法所需的设备包括一个适于输送石英玻璃粒料的输送装置，一个把石英玻璃粒料加到输送装置上的加料装置、一个在石英玻璃粒料上产生合成石英玻璃粉层的喷射装置，和一个加热石英玻璃粉层的加热装置。

16. 发明申请

WO2015116758A1 LOW EXPANSION SILICA-TITANIA ARTICLES WITH A Tzc GRADIENT BY COMPOSITIONAL VARIATION 审中-公开
标题翻译：具有Tzc梯度的低膨胀二氧化硅 - 钛酸钡文章通过组合变化
公开(公告)号：WO2015116758A1
公开(公告)日：2015-08-06
申请号：PCT/US2015/013417
申请日：2015-01-29
申请人： CORNING INCORPORATED
发明人： ANGELL, William R, IV , ANNAMALAI, Sezhian , DURAN, Carlos Alberto , MAXON, John Edward
IPC分类号： C03C3/06 , C03C3/062 , C03B19/14 , G03F1/24
CPC分类号： C03C3/076 , C03B19/09 , C03B19/1407 , C03B19/1415 , C03B2201/42 , C03B2207/50 , C03C3/06 , C03C3/062 , C03C2201/23 , C03C2201/42 , C03C2203/10 , C03C2203/40 , G03F1/24 , G03F1/60
摘要： A glass article for use in Extreme Ultra Violet Lithography (EUVL) is provided. The glass article includes a silica-titania glass having a compositional gradient through the glass article, the compositional gradient being defined by the functions: [TiO 2 ] = (c + f(x,y,z)), and [SiO 2 ] = (100 - {c + f(x,y,z)} - δ(x,y,z) ) wherein [TiO 2 ] is the concentration of titania in wt.%, [SiO 2 ] is the concentration of silica in wt.%, c is the titania concentration in wt.% for a predetermined zero crossover temperature (T zc ), f(x,y,z) is a function in three-dimensional space that defines the difference in average composition of a volume element centered at the coordinates (x,y,z) with respect to c, and δ(x,y,z) is a function in three-dimensional space that defines the sum of all other components of a volume element centered at the coordinates (x,y,z).
摘要翻译：提供了用于极光紫外光刻（EUVL）的玻璃制品。玻璃制品包括通过玻璃制品具有组成梯度的二氧化硅 - 二氧化钛玻璃，组成梯度由以下功能定义：[TiO 2] =（c + f（x，y，z））和[SiO 2] =（ 100 - {c + f（x，y，z）} - δ（x，y，z））其中[TiO 2]是二氧化钛的重量百分比浓度，[SiO2]是二氧化硅的重量百分比，c是对于预定的零交叉温度（Tzc），二氧化钛浓度以重量％计，f（x，y，z）是三维空间中的函数，其定义以中心为中心的体积元素的平均组成的差异坐标（x，y，z）相对于c，δ（x，y，z）是三维空间中的函数，其定义以坐标（x，y）为中心的体元素的所有其他分量的和，Z）。

17. 发明申请

WO2002072487A2 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES SiO2-ROHLINGS 审中-公开
标题翻译：用于生产的SiO2 BLANK
公开(公告)号：WO2002072487A2
公开(公告)日：2002-09-19
申请号：PCT/EP2002/002434
申请日：2002-03-06
申请人： HERAEUS TENEVO AG , RÖPER, Jürgen , SCHMIDT, Sven
发明人： RÖPER, Jürgen , SCHMIDT, Sven
IPC分类号： C03B19/14
CPC分类号： C03B19/1407 , C03B37/01406 , C03B37/0144
摘要： Bei einem bekannten Verfahren zur Herstellung eines SiO 2 -Rohlings werden aus einer siliziumhaltigen Ausgangsverbindung durch Flammhydrolyse SiO 2 -Partikel in einer Reaktionskammer (1) gebildet, von denen ein Anteil auf einem rotierenden Träger (5) unter Bildung des SiO 2 -Rohlings (6) schichtweise abgeschieden und ein Verlustanteil mittels eines Prozess-Gasstroms (7) aus der Reaktionskammer (1) ausgetragen wird. Um das bekannte Verfahren so zu modifizieren, dass eine Beeinträchtigung des SiO 2 -Rohlings durch Ablagerungen auf Innenwandungen in der Reaktionskammer weitgehend vermieden wird, wird erfindungsgemäss vorgeschlagen, dass zur Vermeidung von Ablagerungen von SiO 2 -Partikeln an einer Innenwandung (9) innerhalb der Reaktionskammer (1) ein gerichteter Hilfs-Gasstrom (10,20) mit einer vorgegebenen Strömungsrichtung erzeugt wird, wobei die Strömungsrichtung mit der Innenwandung (9) einen Winkel im Bereich von Null Grad und 90 Grad einschliesst.
摘要翻译：在用于制造SiO 2的空白公知的方法是从一个由火焰水解二氧化硅原料含有硅的在反应室2个颗粒（1）形成，其中在一个旋转的支撑的部分（5），以形成SiO 2的坯件（6）沉积在层中和通过从反应室（1）的工艺气体流（7）的装置损失部分被排出。为了防止在SiO 2坯件通过所述反应室来修改已知的方法做的内壁上沉积物很大程度上避免的任何不利影响，本发明提出的是，为了避免内的SiO的沉积物上的内壁<2>颗粒（9）定向辅助气流（10,20）在所述反应室（1）的预定的流动方向，其特征在于，与所述的内壁（9）的流动方向包围在零度和90度范围内的角度被生成。

18. 发明申请

US20110207593A1 Expansivity in Low Expansion Silica-Titania Glasses 审中-公开
标题翻译：低膨胀二氧化硅 - 二氧化钛玻璃的膨胀性
公开(公告)号：US20110207593A1
公开(公告)日：2011-08-25
申请号：US13028516
申请日：2011-02-16
申请人： Carlos Duran , Kenneth Edward Hrdina , John Edward Maxon
发明人： Carlos Duran , Kenneth Edward Hrdina , John Edward Maxon
IPC分类号： C03C3/06 , C03C3/076 , C03B19/06 , C03B25/00
CPC分类号： C03B19/1407 , C03B19/1453 , C03B2201/23 , C03B2201/42 , C03C3/06 , C03C3/076 , C03C2201/20
摘要： This disclosure is directed to tailoring and improving the expansivity of low thermal expansion silica-titania glass through changes in the [OH] content and fictive temperature of the glasses. The [OH] concentration in the glass can be in the range of 600-2500 ppm. The fictive temperature, TF is less than 900° C.
摘要翻译：本发明旨在通过玻璃的[OH]含量和假想温度的变化来定制和改善低热膨胀二氧化硅 - 二氧化钛玻璃的膨胀性。玻璃中的[OH]浓度可以在600-2500ppm的范围内。假想温度，TF低于900℃

19. 发明申请

US20090288448A1 TITANIA-DOPED QUARTZ GLASS AND MAKING METHOD, EUV LITHOGRAPHIC MEMBER AND PHOTOMASK SUBSTRATE 有权
标题翻译： TITANIA-DOPED QUARTZ GLASS AND MAKING METHOD，EUV LITHOGRAPHIC MEMBER AND PHOTOMASK SUBSTRATE
公开(公告)号：US20090288448A1
公开(公告)日：2009-11-26
申请号：US12512436
申请日：2009-07-30
申请人： Shigeru MAIDA , Motoyuki YAMADA
发明人： Shigeru MAIDA , Motoyuki YAMADA
IPC分类号： C03C17/23
CPC分类号： C03B19/1407 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C03B19/1415 , C03B19/1446 , C03B19/1453 , C03B19/1484 , C03B2201/42 , C03C3/06 , C03C2201/11 , C03C2201/21 , C03C2201/23 , C03C2201/42 , G03F1/24 , G03F1/60 , G21K2201/067
摘要： A titania-doped quartz glass containing 3-12 wt % of titania at a titania concentration gradient less than or equal to 0.01 wt %/μm and having an apparent transmittance to 440 nm wavelength light of at least 30% at a thickness of 6.35 mm is of such homogeneity that it provides a high surface accuracy as required for EUV lithographic members, typically EUV lithographic photomask substrates.
摘要翻译：在二氧化钛浓度梯度小于或等于0.01重量％/重量的情况下，含有3-12重量％的二氧化钛的二氧化钛掺杂的石英玻璃，并且对于440nm波长具有至多30％的表观透射率，厚度为6.35mm 具有这样的同质性，其提供了EUV光刻元件（通常为EUV光刻光掩模基板）所需的高表面精度。

20. 发明申请

US20070134566A1 Titania-doped quartz glass and making method, EUV lithographic member and photomask substrate 有权
标题翻译：二氧化钛掺杂石英玻璃和制备方法，EUV光刻元件和光掩模基板
公开(公告)号：US20070134566A1
公开(公告)日：2007-06-14
申请号：US11634270
申请日：2006-12-06
申请人： Shigeru Maida , Motoyuki Yamada
发明人： Shigeru Maida , Motoyuki Yamada
IPC分类号： G02B6/42 , B32B15/00 , C03B37/018 , C03B8/00 , B32B17/06 , G03F1/00 , G02B6/26
CPC分类号： C03B19/1407 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C03B19/1415 , C03B19/1446 , C03B19/1453 , C03B19/1484 , C03B2201/42 , C03C3/06 , C03C2201/11 , C03C2201/21 , C03C2201/23 , C03C2201/42 , G03F1/24 , G03F1/60 , G21K2201/067
摘要： A titania-doped quartz glass containing 3-12 wt % of titania at a titania concentration gradient less than or equal to 0.01 wt %/μm and having an apparent transmittance to 440 nm wavelength light of at least 30% at a thickness of 6.35 mm is of such homogeneity that it provides a high surface accuracy as required for EUV lithographic members, typically EUV lithographic photomask substrates.
摘要翻译：在二氧化钛浓度梯度小于或等于0.01重量％/重量的情况下，含有3-12重量％的二氧化钛的二氧化钛掺杂的石英玻璃，并且对于440nm波长具有至多30％的表观透射率，厚度为6.35mm 具有这样的同质性，其提供了EUV光刻元件（通常为EUV光刻光掩模基板）所需的高表面精度。

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