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11. 发明专利

TW200702946A 可管理剝離液中有機物濃度之基體製造方法审中-公开
简体标题：可管理剥离液中有机物浓度之基体制造方法
公开(公告)号：TW200702946A
公开(公告)日：2007-01-16
申请号：TW095124467
申请日：2006-07-05
申请人：東亞合成股份有限公司 TOAGOSEI CO., LTD.
发明人：津田隆 TSUDA, TAKASHI , 住田正直 SUMITA, MASANAO , 原田勝可 HARADA, KATSUYOSHI
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/42
摘要：本發明係提供一種基體製造方法,該方法包含剝離製程和除去製程,該剝離製程係包含:將溶解有來自剝離後被膜物質之有機物之剝離液加以處理成再生剝離液之製程和使重新補充之剝離液和再生剝離液接觸基體上之被膜物質,從基體上剝離被膜物質之製程;該除去製程係包含:將經由剝離製程剝離被膜物質後之基體表面以水洗淨之製程,以及將洗淨後之基體以乾燥空氣予以乾燥之製程,且在進行除去製程後之該基體上有機物殘渣量,係在既定之管理値以下之基體製造方法。
简体摘要：本发明系提供一种基体制造方法,该方法包含剥离制程和除去制程,该剥离制程系包含:将溶解有来自剥离后被膜物质之有机物之剥离液加以处理成再生剥离液之制程和使重新补充之剥离液和再生剥离液接触基体上之被膜物质,从基体上剥离被膜物质之制程;该除去制程系包含:将经由剥离制程剥离被膜物质后之基体表面以水洗净之制程,以及将洗净后之基体以干燥空气予以干燥之制程,且在进行除去制程后之该基体上有机物残渣量,系在既定之管理値以下之基体制造方法。

12. 发明专利

TW200643658A 有機被膜剝離劑、使用該剝離劑之有機被膜除去方法、以及除去裝置审中-公开
简体标题：有机被膜剥离剂、使用该剥离剂之有机被膜除去方法、以及除去设备
公开(公告)号：TW200643658A
公开(公告)日：2006-12-16
申请号：TW095108924
申请日：2006-03-16
申请人：東亞合成股份有限公司 TOAGOSEI CO., LTD.
发明人：原田勝可 HARADA, KATSUYOSHI , 飯沼知久 IINUMA, TOMOHISA , 新妻裕志 NIIZUMA, HIROSHI
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： C09D9/005 , C11D7/267 , C11D11/0047 , G03F7/422 , H01L21/02057
摘要：本發明係提供，適用於除去半導體用晶圓或液晶用基板等加工時所使用之光阻被膜的剝離劑、使用該剝離劑之光阻被膜除去方法、以及除去裝置。有機被膜剝離劑係含有γ–丁內酯20重量％以上。有機被膜除去方法，其特徵在於，使有機被膜剝離劑與表面具有有機被膜之基體接觸，以除去該有機被膜。具有有機被膜之基體表面之有機被膜除去裝置，其特徵在於具備：A.貯存剝離劑新液之貯槽、B.混合剝離劑貯槽，用以導入剝離劑新液且導入處理後之剝離劑、C.將剝離劑由混合剝離劑貯槽機構供應至接觸槽之機構、D.收納具有有機被膜之基體的基體保持具、E.將具有有機被膜之基體由基體保持具取出並導入接觸槽，於接觸槽內，使剝離劑與基體之具有有機被膜的表面接觸，俾將有機被膜以剝離劑溶解而將有機被膜自基體表面除去，並將有機被膜已除去之基體由接觸槽拉起之機構、F.將溶解有機被膜之剝離劑由接觸槽排出之機構、及G.使由接觸槽排出之剝離劑循環而返回至混合剝離劑貯槽之機構。
简体摘要：本发明系提供，适用于除去半导体用晶圆或液晶用基板等加工时所使用之光阻被膜的剥离剂、使用该剥离剂之光阻被膜除去方法、以及除去设备。有机被膜剥离剂系含有γ–丁内酯20重量％以上。有机被膜除去方法，其特征在于，使有机被膜剥离剂与表面具有有机被膜之基体接触，以除去该有机被膜。具有有机被膜之基体表面之有机被膜除去设备，其特征在于具备：A.贮存剥离剂新液之贮槽、B.混合剥离剂贮槽，用以导入剥离剂新液且导入处理后之剥离剂、C.将剥离剂由混合剥离剂贮槽机构供应至接触槽之机构、D.收纳具有有机被膜之基体的基体保持具、E.将具有有机被膜之基体由基体保持具取出并导入接触槽，于接触槽内，使剥离剂与基体之具有有机被膜的表面接触，俾将有机被膜以剥离剂溶解而将有机被膜自基体表面除去，并将有机被膜已除去之基体由接触槽拉起之机构、F.将溶解有机被膜之剥离剂由接触槽排出之机构、及G.使由接触槽排出之剥离剂循环而返回至混合剥离剂贮槽之机构。

13. 发明专利

TWI267519B 橡膠强化共聚物的製造方法失效
简体标题：橡胶强化共聚物的制造方法
公开(公告)号：TWI267519B
公开(公告)日：2006-12-01
申请号：TW093105354
申请日：2004-03-02
申请人：東亞合成股份有限公司 TOAGOSEI CO., LTD.
发明人：松崎英男 HIDEO MATSUZAKI , 河合道弘 MICHIHIRO KAAI , 竹井利明 TOSHIAKI TAKEI
IPC分类号： C08F
CPC分类号： C08F291/02 , C08F290/04
摘要：本發明係有關於一種可使用作為耐衝擊性、表面光澤性、耐熱性以及色調相當優異的、對模具的污染或腐蝕很小的樹脂的原料之橡膠強化共聚物。本發明的橡膠強化共聚物係在水性介質中，於大單體以及橡膠狀聚合物乳膠的存在下，藉由對第1乙烯基單體進行乳化聚合來加以製造。大單體係在150~350℃的溫度下對第2乙烯基單體進行自由基聚合而得到，具有第(1)式所示的末端結構、羧基以及疏水性單體單元的聚合物。大單體中至少一部分的羧基係利用鹼來加以中和。在第(1)式中，X係指極性基；M係指單體單元；n係指表示聚合度的自然數。
简体摘要：本发明系有关于一种可使用作为耐冲击性、表面光泽性、耐热性以及色调相当优异的、对模具的污染或腐蚀很小的树脂的原料之橡胶强化共聚物。本发明的橡胶强化共聚物系在水性介质中，于大单体以及橡胶状聚合物乳胶的存在下，借由对第1乙烯基单体进行乳化聚合来加以制造。大单体系在150~350℃的温度下对第2乙烯基单体进行自由基聚合而得到，具有第(1)式所示的末端结构、羧基以及疏水性单体单元的聚合物。大单体中至少一部分的羧基系利用碱来加以中和。在第(1)式中，X系指极性基；M系指单体单元；n系指表示聚合度的自然数。

14. 发明专利

TW200631987A 熱可塑性樹脂組合物及成形品审中-公开
简体标题：热可塑性树脂组合物及成形品
公开(公告)号：TW200631987A
公开(公告)日：2006-09-16
申请号：TW094145532
申请日：2005-12-21
申请人：東亞合成股份有限公司 TOAGOSEI CO., LTD.
发明人：古田圓 MADOKA FURUTA
IPC分类号： C08G , C08K , B29C
CPC分类号： C08G59/68 , C08J3/226 , C08J2400/14 , C08L101/00
摘要：本發明之熱可塑性樹脂組合物含，有與環氧基具反應性之官能基的熱可塑性樹脂(A)，具環氧基之聚合物(B)，促進與環氧基具反應性之官能基與環氧基的反應之觸媒(C)。聚合物(B)之含量係設定為，熱可塑性樹脂(A)每100質量份0.1～5質量份。觸媒(C)之含量係設定為，熱可塑性樹脂(A)每100質量份1.0×10^–6～50×10^–6質量份。本發明之成形品係藉上述熱可塑性樹脂組合物之成形，例如擠出成形而得。
简体摘要：本发明之热可塑性树脂组合物含，有与环氧基具反应性之官能基的热可塑性树脂(A)，具环氧基之聚合物(B)，促进与环氧基具反应性之官能基与环氧基的反应之触媒(C)。聚合物(B)之含量系设置为，热可塑性树脂(A)每100质量份0.1～5质量份。触媒(C)之含量系设置为，热可塑性树脂(A)每100质量份1.0×10^–6～50×10^–6质量份。本发明之成形品系藉上述热可塑性树脂组合物之成形，例如挤出成形而得。

15. 发明专利

TW200613439A 熱可塑性樹脂組合物及成形品审中-公开
简体标题：热可塑性树脂组合物及成形品
公开(公告)号：TW200613439A
公开(公告)日：2006-05-01
申请号：TW094118715
申请日：2005-06-07
申请人：東亞合成股份有限公司 TOAGOSEI CO., LTD.
发明人：古田圓 MADOKA FURUTA
IPC分类号： C08L , B29C
CPC分类号： C08G59/42 , C08J3/226 , C08K5/09 , C08L63/00 , C08L67/00 , C08L69/00 , C08L2666/02 , C08L2666/22
摘要：本發明的熱塑性樹脂組成物含有：具有具備與環氧基的反應性之官能基的熱塑性樹脂(A)、具有環氧基之聚合物(B)、以及具有1個羧基同時和前述熱塑性樹脂(A)不同的化合物(C)。聚合物(B)的含量係，相對於熱塑性樹脂(A)每100重量份，則設定為0.1～20重量份。化合物(C)的含量係，相對於聚合物(B)每100重量份，則設定為0.025～7重量份。本發明的成型品係藉由前述熱塑性樹脂組成物的成型、例如擠壓成型而獲得。
简体摘要：本发明的热塑性树脂组成物含有：具有具备与环氧基的反应性之官能基的热塑性树脂(A)、具有环氧基之聚合物(B)、以及具有1个羧基同时和前述热塑性树脂(A)不同的化合物(C)。聚合物(B)的含量系，相对于热塑性树脂(A)每100重量份，则设置为0.1～20重量份。化合物(C)的含量系，相对于聚合物(B)每100重量份，则设置为0.025～7重量份。本发明的成型品系借由前述热塑性树脂组成物的成型、例如挤压成型而获得。

16. 发明专利

TW200519120A 環狀有機矽化合物之製造方法及具有醇性羥基之矽系樹脂及其製造方法审中-公开
简体标题：环状有机硅化合物之制造方法及具有醇性羟基之硅系树脂及其制造方法
公开(公告)号：TW200519120A
公开(公告)日：2005-06-16
申请号：TW093134008
申请日：2004-11-08
申请人：東亞合成股份有限公司 TOAGOSEI CO., LTD.
发明人：小室勝彥 , 鈴木浩 SUZUKI, HIROSHI
IPC分类号： C07F , C08G
CPC分类号： C07F7/1892 , C07F7/1876 , C08G77/14 , C08G77/16
摘要：本發明之目的為提供，與噁基–矽環戊烷(oxy–silacyclobutane)類同樣之環狀有機矽化合物之合成，於一階段反應完結之製造方法。更詳細說明，提供組成之控制容易，且安定無經時變化具有醇性羥基之有機矽樹脂及其製造方法。本發明之環狀有機矽化合物之製造方法，係於過渡金屬之存在下，將下式(1)所示之烯烴類及下式(2)所示之烷氧基矽烷，反應製造如下式(3)所示之環狀有機矽化合物者。又，本發明之有機矽樹脂，係將上述一般式(3)所示環狀有機矽化合物，或其與多官能烷氧基矽烷所成混合物，經水解及縮合而得者。093134008-p01.bmp〔式中所示，Z係末端碳原子為形成C＝C鍵結之碳數為2～5之鏈烯基，R為甲基或氫，Me為甲基〕、093134008-p02.bmp〔式中所示，R1為碳數1～3之烷基或烷氧基，R2為碳數1～3之烷基，複數之R2可互為相同或相異〕；093134008-p03.bmp〔式中所示，Z’係為碳數2～5之伸烷基，R為甲基或氫，R1為碳數1～3之烷基或烷氧基，R@s B!2為碳數1～3之烷基〕。
简体摘要：本发明之目的为提供，与恶基–硅环戊烷(oxy–silacyclobutane)类同样之环状有机硅化合物之合成，于一阶段反应完结之制造方法。更详细说明，提供组成之控制容易，且安定无经时变化具有醇性羟基之有机硅树脂及其制造方法。本发明之环状有机硅化合物之制造方法，系于过渡金属之存在下，将下式(1)所示之烯烃类及下式(2)所示之烷氧基硅烷，反应制造如下式(3)所示之环状有机硅化合物者。又，本发明之有机硅树脂，系将上述一般式(3)所示环状有机硅化合物，或其与多官能烷氧基硅烷所成混合物，经水解及缩合而得者。093134008-p01.bmp〔式中所示，Z系末端碳原子为形成C＝C键结之碳数为2～5之链烯基，R为甲基或氢，Me为甲基〕、093134008-p02.bmp〔式中所示，R1为碳数1～3之烷基或烷氧基，R2为碳数1～3之烷基，复数之R2可互为相同或相异〕；093134008-p03.bmp〔式中所示，Z’系为碳数2～5之伸烷基，R为甲基或氢，R1为碳数1～3之烷基或烷氧基，R@s B!2为碳数1～3之烷基〕。

17. 发明专利

TW200502260A 橡膠强化共聚物的製造方法失效
简体标题：橡胶强化共聚物的制造方法
公开(公告)号：TW200502260A
公开(公告)日：2005-01-16
申请号：TW093105354
申请日：2004-03-02
申请人：東亞合成股份有限公司 TOAGOSEI CO., LTD.
发明人：松崎英男 HIDEO MATSUZAKI , 河合道弘 MICHIHIRO KAAI , 竹井利明 TOSHIAKI TAKEI
IPC分类号： C08F
CPC分类号： C08F291/02 , C08F290/04
摘要：本發明係有關於一種可使用作為耐衝擊性、表面光澤性、耐熱性以及色調相當優異的、對模具的污染或腐蝕很小的樹脂的原料之橡膠強化共聚物。本發明的橡膠強化共聚物係在水性介質中，於大單體以及橡膠狀聚合物乳膠的存在下，藉由對第1乙烯基單體進行乳化聚合來加以製造。大單體係在150～350℃的溫度下對第2乙烯基單體進行自由基聚合而得到，具有第(1)式所示的末端結構、羧基以及疏水性單體單元的聚合物。大單體中至少一部分的羧基係利用鹼來加以中和。在第(1)式中，X係指極性基；M係指單體單元；n係指表示聚合度的自然數。093105354-p01.bmp
简体摘要：本发明系有关于一种可使用作为耐冲击性、表面光泽性、耐热性以及色调相当优异的、对模具的污染或腐蚀很小的树脂的原料之橡胶强化共聚物。本发明的橡胶强化共聚物系在水性介质中，于大单体以及橡胶状聚合物乳胶的存在下，借由对第1乙烯基单体进行乳化聚合来加以制造。大单体系在150～350℃的温度下对第2乙烯基单体进行自由基聚合而得到，具有第(1)式所示的末端结构、羧基以及疏水性单体单元的聚合物。大单体中至少一部分的羧基系利用碱来加以中和。在第(1)式中，X系指极性基；M系指单体单元；n系指表示聚合度的自然数。093105354-p01.bmp

18. 发明专利

TW200921303A 藉由奈米過濾連續使用光阻剝離液之系統审中-公开
简体标题：借由奈米过滤连续使用光阻剥离液之系统
公开(公告)号：TW200921303A
公开(公告)日：2009-05-16
申请号：TW097124966
申请日：2008-07-02
申请人：東亞合成股份有限公司 TOAGOSEI CO., LTD.
发明人：住田正直 SUMITA, MASANAO , 林秀生 HAYASHI, HIDEO
IPC分类号： G03F , B01D
CPC分类号： G03F7/422 , B01D61/027
摘要：本發明所欲解決之課題,在於實現即使不交換剝離液而長時間持續剝離,仍可使光阻剝離所使用的剝離液中的光阻成分的濃度在一定濃度範圍內取得之系統。發現藉由光阻剝離液進行正型光阻的剝離時,溶解於剝離液中之光阻成分,藉由特定的陶瓷奈米過濾器進行錯流過濾而可減少。然後,包含在剝離步驟所生成的光阻成分之剝離液,藉由以過濾步驟進行處理,使光阻成分濃度被濃縮之濃縮剝離液適當地排出系統外,於光阻成分被除去的處理剝離液,使適當添加剝離液的新液之剝離液,再於剝離步驟使用,因而完成光阻剝離系統。
简体摘要：本发明所欲解决之课题,在于实现即使不交换剥离液而长时间持续剥离,仍可使光阻剥离所使用的剥离液中的光阻成分的浓度在一定浓度范围内取得之系统。发现借由光阻剥离液进行正型光阻的剥离时,溶解于剥离液中之光阻成分,借由特定的陶瓷奈米过滤器进行错流过滤而可减少。然后,包含在剥离步骤所生成的光阻成分之剥离液,借由以过滤步骤进行处理,使光阻成分浓度被浓缩之浓缩剥离液适当地排出系统外,于光阻成分被除去的处理剥离液,使适当添加剥离液的新液之剥离液,再于剥离步骤使用,因而完成光阻剥离系统。

19. 发明专利

TW200905421A 導電性高分子上的光阻膜之剝離劑、光阻膜之剝離法及具有經圖案化之導電性高分子之基板 PEELING AGENTS FOR RESIST ON CONDUCTING POLYMERS, METHODS FOR PEELING OFF RESIST FILM, AND SUBSTRATES HAVING PATTERNED CONDUCTIVE POLYMERS 审中-公开
简体标题：导电性高分子上的光阻膜之剥离剂、光阻膜之剥离法及具有经图案化之导电性高分子之基板 PEELING AGENTS FOR RESIST ON CONDUCTING POLYMERS, METHODS FOR PEELING OFF RESIST FILM, AND SUBSTRATES HAVING PATTERNED CONDUCTIVE POLYMERS
公开(公告)号：TW200905421A
公开(公告)日：2009-02-01
申请号：TW097121359
申请日：2008-06-09
申请人：東亞合成股份有限公司 TOAGOSEI CO., LTD. , 鶴見曹達股份有限公司 TSURUMI SODA CO., LTD.
发明人：井原孝 IHARA, TAKASHI
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/425 , G03F7/426 , H01L21/31133 , Y10T428/24802
摘要：本發明之目的係提供自導電性高分子剝離光阻膜之際不僅剝離性優異,且未對導電性高分子有不良影響的剝離劑,及提供導電性高分子上之光阻膜之剝離方法。又,提供具有導電性良好、經圖案化的導電性高分子的基板。本發明之導電性高分子上的光阻膜之剝離劑,其特徵在於包含至少一種選自由二烷基類、二烷基亞類、碳酸亞烴酯類、及烷內酯類組成之群且不含有氮原子之非質子性有機溶劑(a),以及選自化學構造中具有氮原子且為第一級胺化合物、第二級胺化合物及有機第四銨鹽以外之有機溶劑(b)組成之群之有機溶劑。
简体摘要：本发明之目的系提供自导电性高分子剥离光阻膜之际不仅剥离性优异,且未对导电性高分子有不良影响的剥离剂,及提供导电性高分子上之光阻膜之剥离方法。又,提供具有导电性良好、经图案化的导电性高分子的基板。本发明之导电性高分子上的光阻膜之剥离剂,其特征在于包含至少一种选自由二烷基类、二烷基亚类、碳酸亚烃酯类、及烷内酯类组成之群且不含有氮原子之非质子性有机溶剂(a),以及选自化学构造中具有氮原子且为第一级胺化合物、第二级胺化合物及有机第四铵盐以外之有机溶剂(b)组成之群之有机溶剂。

20. 发明专利

TW200900758A 光學薄膜積層體及其製造方法並使用其表示裝置审中-公开
简体标题：光学薄膜积层体及其制造方法并使用其表示设备
公开(公告)号：TW200900758A
公开(公告)日：2009-01-01
申请号：TW097108770
申请日：2008-03-12
申请人：東亞合成股份有限公司 TOAGOSEI CO., LTD. , 住友化學股份有限公司 SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：大房一樹 KAZUKI OFUSA , 林秀樹 HIDEKI HAYASHI
IPC分类号： G02B , B32B , G02F
CPC分类号： G02B5/3025 , G02F1/1335 , H01L51/5281
摘要：【課題】提供:至少單面具備保護膜的線性偏光板和相位差膜等的樹脂薄膜,以紫外線硬化型黏合劑為介質,就可以層積的製造方法;提供:薄型且耐久性優良、外觀及吸光度亦優良、加上生產性也優良的多層光學膜,以及應用該多層光學膜的顯示裝置。【解決方法】365微米波長的峰値照度在600mW/cm2以下、且該波長的峰値照度除以積分光度量測(單位:mJ/cm^2)為0.25以下,以此條件照射紫外線硬化型黏合劑,使其硬化。積分光度量測在1,500 mJ/cm^2以上則合於理想。此層積體,可以作為液晶顯示裝置、有機電激發光顯示裝置、觸控式面板等影像顯示裝置的構成零件來使用。
简体摘要：【课题】提供:至少单面具备保护膜的线性偏光板和相位差膜等的树脂薄膜,以紫外线硬化型黏合剂为介质,就可以层积的制造方法;提供:薄型且耐久性优良、外观及吸光度亦优良、加上生产性也优良的多层光学膜,以及应用该多层光学膜的显示设备。【解决方法】365微米波长的峰値照度在600mW/cm2以下、且该波长的峰値照度除以积分光度量测(单位:mJ/cm^2)为0.25以下,以此条件照射紫外线硬化型黏合剂,使其硬化。积分光度量测在1,500 mJ/cm^2以上则合于理想。此层积体,可以作为液晶显示设备、有机电激发光显示设备、触摸式皮肤等影像显示设备的构成零件来使用。

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