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11. 发明授权

US07851426B2 Cleaning liquid and cleaning method using the same 有权
标题翻译：清洗液和使用其的清洗方法
公开(公告)号：US07851426B2
公开(公告)日：2010-12-14
申请号：US11898271
申请日：2007-09-11
申请人： Yoshinori Nishiwaki
发明人： Yoshinori Nishiwaki
IPC分类号： C11D7/32
CPC分类号： C11D11/0047 , C11D1/22 , C11D1/24 , C11D1/345 , C11D3/2082 , C11D3/2086 , C11D3/3703 , C11D3/3707 , C11D3/3765 , C11D3/378 , H01L21/02074
摘要： A cleaning liquid used in cleaning of a substrate for use in semiconductor devices conducted after chemical mechanical polishing in manufacture of semiconductor devices, comprising a polycarboxylic acid, an anionic surfactant having an aromatic ring structure in a molecule, a polymer compound having an acidic group on a side chain, and a low molecular weight polyethylene glycol, at the cleaning liquid having a pH of 5 or less, as well as a method of cleaning using the same.
摘要翻译：一种清洗液，其用于半导体装置的半导体装置的清洗中，所述基板包括多元羧酸，分子中具有芳香环结构的阴离子表面活性剂，具有酸性基团的高分子化合物侧链和低分子量聚乙二醇，在pH为5以下的清洗液中，以及使用其的清洗方法。

12. 发明授权

US07836721B2 Cooling system 失效
标题翻译：冷却系统
公开(公告)号：US07836721B2
公开(公告)日：2010-11-23
申请号：US11632650
申请日：2005-07-14
申请人： Yoshinori Nishiwaki , Tsuneo Nakama , Shigeru Sakashita
发明人： Yoshinori Nishiwaki , Tsuneo Nakama , Shigeru Sakashita
IPC分类号： F25D17/02 , F25D17/00 , C09K5/04
CPC分类号： F25D17/02 , F25B2400/06 , F25B2400/24
摘要： A cooling system (10) comprises a first (40) and a second (50) cold storage tank, a first refrigerator (41) cooling water in the first cold storage tank (40), a first thermal load (92) disposed in a first circulating passage (43) extending from the lower to the upper part of the first cold storage (40), a second thermal load (93) warmer than the first thermal load (92) disposed in a second circulating passage (44a) also extending from the lower to the upper part of the first cold storage tank, a second cold storage tank (50) disposed in the second circulating passage, a second refrigerator (51) cooling water fed from the upper part of the second cold storage (50), wherein a cooling output temperature of the second refrigerator (51) is set to be higher than that of the first refrigerator (41).
摘要翻译：冷却系统（10）包括第一冷藏库（40）和第二冷藏库（50），第一冷藏库（41），冷却第一冷藏库（40）中的水，第一热负荷（92）第一循环通道（43），其从第一冷藏库（40）的下部延伸到上部;第二热负荷（93）比设置在第二循环通道（44a）中的第一热负荷（92）更暖，从第一冷藏箱的下部到上部，设置在第二循环通道中的第二冷藏箱（50），冷却从第二冷藏库（50）的上部供给的水的第二冷藏库（51）其特征在于，所述第二制冷机（51）的冷却输出温度被设定为高于所述第一制冷机（41）的冷却输出温度。

13. 发明申请

US20070186484A1 Metal-polishing liquid and chemical mechanical polishing method using the same 失效
标题翻译：金属抛光液和化学机械抛光方法使用相同
公开(公告)号：US20070186484A1
公开(公告)日：2007-08-16
申请号：US11699406
申请日：2007-01-30
申请人： Katsuhiro Yamashita , Kenji Takenouchi , Tomoo Katou , Yoshinori Nishiwaki , Mihoko Ishima
发明人： Katsuhiro Yamashita , Kenji Takenouchi , Tomoo Katou , Yoshinori Nishiwaki , Mihoko Ishima
IPC分类号： B24D3/02
CPC分类号： C09G1/02 , C09K3/1445 , C09K3/1463 , H01L21/3212
摘要： The invention provides a metal polishing liquid comprising an oxidizing agent and colloidal silica in which a part of a surface of the colloidal silica is covered with aluminum atoms, and a Chemical Mechanical Polishing method using the same. An amino acid, a compound having an isothiazoline-3-one skeleton, an organic acid, a passivated film forming agent, a cationic surfactant, a nonionic surfactant, and a water-soluble polymer may be contained. A metal polishing liquid which is used in Chemical Mechanical Polishing in manufacturing of a semiconductor device, attains low dishing of a subject to be polished, and can perform polishing excellent in in-plane uniformity of a surface to be polished.
摘要翻译：本发明提供了一种金属抛光液，其包含氧化剂和胶体二氧化硅，其中胶体二氧化硅的一部分表面被铝原子覆盖，并使用化学机械抛光方法。可以包含氨基酸，具有异噻唑啉-3-酮骨架的化合物，有机酸，钝化成膜剂，阳离子表面活性剂，非离子表面活性剂和水溶性聚合物。在半导体装置的制造中使用的化学机械抛光中使用的金属研磨液，能够使被研磨对象的低凹陷，能够进行抛光面的面内均匀性优异的抛光。

14. 发明授权

US07255972B2 Chemically amplified positive photosensitive resin composition 有权
标题翻译：化学扩增正型感光性树脂组合物
公开(公告)号：US07255972B2
公开(公告)日：2007-08-14
申请号：US10532364
申请日：2003-10-16
申请人： Yoshinori Nishiwaki , Toshimichi Makii
发明人： Yoshinori Nishiwaki , Toshimichi Makii
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/40
CPC分类号： G03F7/0392 , G03F7/0045 , Y10S430/106 , Y10S430/111
摘要： A photosensitive resin composition suitable for forming a thick film and an ultra-thick film used for forming a thick resist pattern used in the process of forming a magnetic pole on a magnetic head and a bump, which comprises (A) an alkali soluble novolak resin, (B) an alkali soluble acrylic resin, (C) an acetal compound, and (D) an acid generator. A polycondensate comprising a structural unit represented by the following general formula (I) (wherein R represents a saturated alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, n is an integer of 1 to 10) as an acetal compound
摘要翻译：适用于形成厚膜的感光性树脂组合物和用于形成在磁头和凸块上形成磁极的工序中使用的厚抗蚀剂图案的超薄膜，其包含（A）碱溶性酚醛清漆树脂，（B）碱溶性丙烯酸树脂，（C）缩醛化合物和（D）酸发生剂。缩聚物，其包含由以下通式（I）表示的结构单元（其中R表示碳原子数1〜20的饱和烷基，n为1〜10的整数）作为缩醛化合物

15. 发明申请

US20070251258A1 Cooling System 失效
标题翻译：冷却系统
公开(公告)号：US20070251258A1
公开(公告)日：2007-11-01
申请号：US11632650
申请日：2005-07-14
申请人： Yoshinori Nishiwaki , Tsuneo Nakama , Shigeru Sakashita
发明人： Yoshinori Nishiwaki , Tsuneo Nakama , Shigeru Sakashita
IPC分类号： F25D17/00
CPC分类号： F25D17/02 , F25B2400/06 , F25B2400/24
摘要： A cooling system (10) comprises a first (40) and a second (50) cold storage tank, a first refrigerator (41) cooling water in the first cold storage tank (40), a first thermal load (92) disposed in a first circulating passage (43) extending from the lower to the upper part of the first cold storage (40), a second thermal load (93) warmer than the first thermal load (92) disposed in a second circulating passage (44a) also extending from the lower to the upper part of the first cold storage tank, a second cold storage tank (50) disposed in the second circulating passage, a second refrigerator (51) cooling water fed from the upper part of the second cold storage (50), wherein a cooling output temperature of the second refrigerator (51) is set to be higher than that of the first refrigerator (41).
摘要翻译：冷却系统（10）包括第一冷藏库（40）和第二冷藏库（50），第一冷藏库（41），冷却第一冷藏库（40）中的水，第一热负荷（92）第一循环通道（43）从第一冷藏库（40）的下部延伸到上部，还包括比设置在第二循环通道（44a）中的第一热负荷（92）更暖的第二热负荷（93）从第一冷藏箱的下部延伸到上部，设置在第二循环通道中的第二冷藏箱（50），冷却从第二冷藏库（50）的上部供给的水的第二冷藏库），其中第二制冷器（51）的冷却输出温度被设定为高于第一制冷机（41）的冷却输出温度。

16. 发明申请

US20050271972A1 Chemically amplified positive photosensitive resin composition 有权
标题翻译：化学扩增正型感光性树脂组合物
公开(公告)号：US20050271972A1
公开(公告)日：2005-12-08
申请号：US10532364
申请日：2003-10-16
申请人： Yoshinori Nishiwaki , Toshimichi Makii
发明人： Yoshinori Nishiwaki , Toshimichi Makii
IPC分类号： G03C1/492 , G03F7/004 , G03F7/027 , G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0392 , G03F7/0045 , Y10S430/106 , Y10S430/111
摘要： A photosensitive resin composition suitable for forming a thick film and an ultra-thick film used for forming a thick resist pattern used in the process of forming a magnetic pole on a magnetic head and a bump, which comprises (A) an alkali soluble novolak resin, (B) an alkali soluble acrylic resin, (C) an acetal compound, and (D) an acid generator. A polycondensate comprising a structural unit represented by the following general formula (I) (wherein R represents a saturated alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, n is an integer of 1 to 10) as an acetal compound.
摘要翻译：适用于形成厚膜的感光性树脂组合物和用于形成在磁头和凸块上形成磁极的工序中使用的厚抗蚀剂图案的超薄膜，其包含（A）碱溶性酚醛清漆树脂，（B）碱溶性丙烯酸树脂，（C）缩醛化合物和（D）酸发生剂。作为缩醛化合物的缩聚物，其包含由以下通式（I）表示的结构单元（其中R表示碳原子数1〜20的饱和烷基，n为1〜10的整数）。

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